6 inventos, patentes y modelos de Hidaka,Tomoya (JP)

Método para la formación de película fina orgánica.

(13/09/2017) Un método de formación de película fina orgánica para formar una película fina orgánica sobre una superficie de sustrato, que comprende: obtener un agente auxiliar mezclando un tensioactivo metálico que tiene al menos un grupo hidrolítico con un compuesto capaz de interaccionar con el tensioactivo metálico , obtener una disolución para la formación de la película fina orgánica mediante el agente auxiliar y un tensioactivo metálico que tiene al menos un grupo hidrolítico, en un disolvente orgánico, y poner en contacto el sustrato con la disolución para la formación de la película fina orgánica; en donde, se usa la disolución para la formación de la película fina orgánica en la que el contenido…

Procedimiento para producir un compuesto de difenilsulfona.

(08/03/2017) Procedimiento para la preparación de un compuesto de fórmula (I)**Fórmula** (en la que R1 y R2 son, cada uno independientemente, halógeno, alquilo que presenta 1 a 8 carbonos o alquenilo que presenta 2 a 8 carbonos; m y n son, cada uno independientemente, 0 o un número entero de 1 a 4; y R3 es alquilo que presenta 1 a 8 carbonos, alquenilo que presenta 2 a 8 carbonos, cicloalquilo que presenta 3 a 8 carbonos o aralquilo opcionalmente sustituido), caracterizado por que, en un procedimiento para producir un compuesto de fórmula (I) haciendo reaccionar un compuesto de fórmula (II)**Fórmula** (en la que R1, R2, m y n son como se ha definido anteriormente) con un exceso de un compuesto de fórmula (III) R3-X (III) (en la que R3 es como se ha definido anteriormente…

Procedimiento para producir un compuesto de difenilsulfona.

(29/10/2013) Procedimiento para la purificación de un compuesto representado por la fórmula (I): en la que R1 y R2 son, cada uno independientemente, halógeno, alquilo con 1 a 8 carbonos o alquenilo con 2 a 8carbonos; m y n son, cada uno independientemente, 0 o un número entero de 1 a 4; y R3 es alquilo con 1 a 8carbonos, alquenilo con 2 a 8 carbonos, cicloalquilo con 3 a 8 carbonos, bencilo, 4-clorobencilo o 2-feniletilo, quecomprende: ajustar un pH de una solución acuosa que contiene el compuesto de fórmula (I) a un valor prefijado (P1) en elintervalo de 8,4 a 8,7, extraer a continuación dicha solución acuosa con un solvente orgánico no miscible en agua, yseparar dicha solución acuosa extraída a una capa orgánica…

Compuestos fenólicos y materiales de registro que los contienen.

(25/03/2013) Compuestos fenólicos representados por una fórmula general (I); en la que R1 y R2 representan hidrógeno o alquilo C1-C6, m representa un número entero de 1 a 6, n representa un número entero de 0 a 2, p y t representan un número entero de 0 a 3, con la condición de que p y t nunca sean 0, al mismo tiempo, R3 y R4 representan nitro, carboxilo, halógeno, alquilo C1-C6, alcoxi C1-C6, alcoxicarbonilo C1-C6, sulfamoílo, fenilsulfamoílo, alquilsulfamoílo C1-C6, di(alquilsulfamoílo C1-C6), carbamoílo, fenilcarbamoílo, alquilcarbamoílo C1-C6 o di(alquilcarbamoílo C1-C6), q y u representan un número entero de 0 a 2, R3 y R4 pueden ser diferentes entre sí cuando q y u son 2.

MÉTODO PARA PRODUCIR PELÍCULA DELGADA ORGÁNICA.

(22/11/2011) Método para producir una película delgada orgánica, en el que se forma una película delgada orgánica sobre una superficie de un sustrato, que comprende una etapa de (A) poner en contacto dicho sustrato con una disolución de disolvente orgánico que comprende un tensioactivo a base de metal que tiene al menos un grupo hidrolizable, y un catalizador capaz de interaccionar con dicho tensioactivo a base de metal, en el que el contenido de agua en dicha disolución de disolvente orgánico se ajusta o se mantiene en un intervalo de 50 ppm hasta el contenido saturado de agua para el disolvente orgánico, en el que un potencial zeta para las partículas agregadas de las moléculas que forman la película delgada orgánica es mayor que el potencial zeta del sustrato…

PROCEDIMIENTO INDUSTRIAL PARA LA PRODUCCIÓN DE COMPUESTOS DE DIFENIL SULFONA.

(24/02/2011) Procedimiento para la producción de compuestos de difenil sulfona representados mediante la fórmula (II) **(Ver fórmula)**(en la que R es alquilo de cadena ramificada o lineal, alquenilo de cadena ramificada o lineal, alquinilo de cadena ramificada o lineal, o cicloalquilo opcionalmente sustituido), en el que se incorpora una etapa de recuperación del yodo, en el que la 4,4'dihidroxifenil sulfona se hace reaccionar con un compuesto de fórmula (I) RI (en la que R es como se ha definido anteriormente) en presencia de una base, siendo utilizados en dicho procedimiento 0,8 a 2 moles del compuesto de fórmula (I) y 2 a 4 moles de la base para un mol de 4,4'-dihidroxifenil sulfona, y la concentración de la base es preparada de 20 a 50% en peso con agua utilizada…

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