6 inventos, patentes y modelos de FUJIGUCHI, TOMOHIDE

COMPOSICION DE RESINA DE POLICARBONATO.

(16/09/2008) Composición de resina que comprende: (A) de 1 a 99 partes en peso de una resina de policarbonato que tiene un peso molecular promedio en viscosidad de 10.000 a 100.000 y (B) de 1 a 99 partes en peso de una resina de estireno, seleccionada del grupo que consiste en resina ABS (copolímero de acrilonitrilo/butadieno/estireno), resina AES (copolímero de acrilonitrilo/etileno/ propileno/estireno), resina ACS (copolímero de acrilonitrilo/polietileno clorado/estireno) y resina AAS (copolímero de acrilonitrilo/elastómero acrílico/ estireno) (C) un compuesto de éster fosfórico con un índice de acidez de 1 o menor, en una cantidad de 1 a 40 partes en peso por 100 partes en peso combinadas de (A) + (B), y (D) un agente de refuerzo…

COMPOSICION DE RESINA RETARDADORA DE LA LLAMA.

(16/03/2004) LA PRESENTE INVENCION PROPORCIONA UNA COMPOSICION DE RESINA PIRORRETARDANTE EN LA QUE UN TOTAL DE 3 A 30 PARTES DE PESO DE (B) UN PIRORRETARDANTE DE ESTER DE FOSFATO CONDENSADO DESCRITO POR LA FORMULA GENERAL DESCRITA MAS ABAJO Y (C) UN PIRORRETARDANTE DE ESTER DE MONOFOSFATO DESCRITO POR LA FORMULA GENERAL DESCRITA MAS ABAJO ES MEZCLADA CON 100 PARTES EN PESO DE (A) UNA RESINA DE ETER DE POLIFENILENO O UNA RESINA DE POLICARBONATO, LOS COMPONENTES (B) Y (C) SIENDO UTILIZADOS EN EL RANGO DE (B)/{B) + (C)} = 0,5-0,9. (DONDE R{SUB,1}, R{SUB,2}, R{SUB,3} Y R{SUB,4} DENOTAN UN GRUPO DE FENILO, UN GRUPO DE ALQUILO BAJO CON 1 A 6 ATOMOS DE CARBONO, O UN ATOMO DE HIDROGENO CON LA CONDICION…

COMPOSICION DE COPOLICARBONATO RESISTENTE AL IMPACTO.

(01/07/2000) UNA COMPOSICION DE RESINA QUE TIENE UNA EXCELENTE FUERZA DE IMPACTO A BAJA TEMPERATURA O UNA COMPOSICION DE RESINA RESISTENTE AL IMPACTO COMPRENDE (A) 1-99 PARTES EN PESO DE UN POLICARBONATO COPOLIMERICO, EN EL QUE HAY UNIDADES ESTRUCTURALES REPRESENTADAS POR LA FORMULA (I) Y LA (II) DONDE R4 Y R5 SON INDEPENDIENTEMENTE ATOMOS DE HALOGENO O GRUPOS DE HIDROCARBURO UNIVALENTE, B ES -(R1-)C(-R2)DONDE R1 Y R2 SON INDEPENDIENTEMENTE ATOMOS DE HIDROGENO O GRUPO HIDROCARBURO MONOVALENTE, -C(R3)- DONDE R3 ES UN GRUPO HIDROCARBURO DIVALENTE), -O-, -S-, -SO O -SO2-, R6 ES UN GRUPO HIDROCARBURO QUE TIENE 1 A 10 ATOMOS DE CARBONO, SU DERIVADO HALOGENADO O ATOMO DE HALOGENO, Y P, Q Y N SON NUMEROS ENTEROS DE 0 A 4, Y LA CANTIDAD DE LA UNIDAD ESTRUCTURAL (II) ESTA EN UN GAMA…

COMPOSICIONES DE RESINAS TERMOPLASTICAS DE POCO BRILLO.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/08/1999). Solicitante/s: GE PLASTICS JAPAN LIMITED. Clasificación: C08L69/00, C08K5/00, C08L51/04, C08K3/32, C08L25/06, C08L33/14.

SE PRESENTA UNA COMPOSICION DE RESINA TERMOPLASTICA QUE COMPRENDE A) 100 PARTES POR PESO DE: 1) UNA RESINA DE POLICARBONATO, Y 2) UN COPOLIMERO QUE CONTIENE: A) UN POLIMERO DE GOMA B) UN COMPONENTE DE MONOMERO DE VINIL AROMATICO, Y C) UN COMPONENTE DE MONOMERO DE CIANURO DE VINIL, O UNA RESINA DE POLIESTIRENO; B) ENTRE 1 Y 30 PARTES POR PESO DE UN POLIMERO DE ADICION QUE CONTIENE UNIDADES DERIVADAS DE (MET)ACRILATO DE GLICIDIL; Y C)ENTRE EL 0.001 PARTES POR PESO DE UN COMPUESTO TAL COMO UN ACIDO ORGANICO, UN ACIDO FOSFORICO, UN ACIDO FOSFOROSO, UN ACIDO HIPOFOSFORICO Y/O UN COMPUESTO DIFERENTE A UN ACIDO ORGANICO QUE TENGA UNO O MAS GRUPOS FUNCIONALES SELECCIONADOS ENTRE CARBOXIL, AMINO, HIDROXIL, ANHIDRIDO ACIDO Y GRUPOS DE TIOL, LAS COMPOSICIONES DE RESINA TIENEN PROPIEDADES DE BAJA SATINACION Y PRESENTAN UNA EXCELENTE RESISTENCIA MECANICA.

COMPOSICIONES DE RESINAS TERMOPLASTICAS DE POCO BRILLO.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/06/1999). Solicitante/s: GE PLASTICS JAPAN LIMITED. Clasificación: C08L69/00, C08K5/00, C08K3/32.

SE PRESENTA UNA COMPOSICION DE RESINA TERMOPLASTICA QUE COMPRENDE A) 100 PARTES POR PESO DE: A) ENTRE EL 99 Y 70% DEL PESO DE RESINA DE POLICARBONATO, Y 2) ENTRE 1 Y 30% DEL PESO DE UN POLIMERO DE ADICION QUE CONTENGA UNIDADES DERIVADAS DE (MET)ACRILATO DE GLICIDIL, Y B) ENTRE 0.001 Y 1 PARTE POR PESO DE UN ACIDO ORGANICO, UN ACIDO FOSFORICO, UN ACIDO FOSFOROSO, UN ACIDO HIPOFOSFORICO Y/O UN COMPUESTO DIFERENTE A UN ACIDO ORGANICO QUE TENGA UNO O NINGUN GRUPO FUNCIONAL SELECCIONADO ENTRE CARBOXIL, AMINO, HIDROXIL, ANHIDRIDO ACIDO Y GRUPOS DE TIOL. ESTOS COMPUESTOS TIENEN PROPIEDADES DE BAJA SATINACION ASI COMO EXCELENTE RESISTENCIA MECANICA Y DURACION EXTENDIDA.

COMPOSICIONES DE RESINA DE POLICARBONATO DIFUSORA DE LUZ.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/12/1997). Solicitante/s: GE PLASTICS JAPAN LIMITED. Clasificación: C08L69/00.

COMPOSICIONES DE RESINA EN LAS QUE CIERTAS PARTICULAS FINAS DIFUNDEN LUZ SE AÑADEN Y DISPERSAN EN 100 PARTE DE PESO DE RESINAS DE POLICARBONATO PROPORCIONA COMPOSICIONES DE RESINA DE POLICARBONATO DE DIFUSION DE LUZ QUE MUESTRAN EXCELENTES CARACTERISTICAS DE DIFUSION DE LUZ MIENTRAS SE MANTIENEN LA RESISTENCIA DE IMPACTO Y OTRAS PROPIEDADES INHERENTES DE LA RESINA MATRIZ.

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