9 patentes, modelos y diseños de VICKERS PLC

Sección de la CIP Técnicas industriales diversas y transportes

(16/08/1990). Inventor/es: BROWN, JAMES WILLIAM 8 VICTORIA TERRACE, ARMSTRONG, ROBERT. Clasificación: B62D55/30.

LOS DISPOSITIVOS DE TENSADO DE LAS CADENAS DE UN VEHICULO ORUGA COMPRENDEN UN PAR DE CILINDROS HIDRAULICOS DE DOBLE ACCION, CONECTADOS CADA UNO A LA RUEDA TENSORA DE CADA CADENA DE TAL FORMA QUE LA EXTENSION Y LA RETRACCION DE LOS CILINDROS PRODUCE EL MOVIMIENTO DE LAS RUEDAS TENSORAS ASOCIADAS, Y UN CIRCUITO (14 A 24) HIDRAULICO PARA CONTROLAR EL MOVIMIENTO DE DICHOS CILINDROS , Y POR TANTO EL DE LAS RUEDAS TENSORAS , CONTROLANDOSE EL FUNCIONAMIENTO DEL CIRCUITO HIDRAULICO DESDE EL INTERIOR DE LA CABINA DEL VEHICULO.

Sección de la CIP Física

(16/07/1988). Inventor/es: COOPER, GRAHAM PHILIP. Clasificación: G03F7/08.

DISPOSITIVO SENSIBLE A LA RADIACION QUE COMPRENDE UN SUBSTRATO PORTADOR DE UNA CAPA SENSIBLE A LA RADIACION QUE SE RECUBRE CON UNA CAPA DE CUBRICION DISCONTINUA QUE ES MAS SENSIBLE A LA RADIACION. LA CAPA DE CUBRICION ESTA FORMADA POR ROCIADO Y AYUDA A MEJORAR LA COLOCACION POR VACIO DURANTE LA EXPOSICION A LA IMAGEN DEL DISPOSITIVO SIN TENER EFECTOS PERJUDICIALES EN LAS CARACTERISTICAS DE EXPOSICION Y REVELADO DEL DISPOSITIVO.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/06/1986). Clasificación: C07C65/38.

METODO DE PRODUCCION DE PLACAS SENSIBLES A RADIACION ACTINICA. COMPRENDE LA REACCION CONJUNTA, EN AUSENCIA DE RADIACION ACTINICA, A LA TEMPERATURA AMBIENTE, DE UNA COMPOSICION FOTOPOLIMERIZABLE CONSTITUIDA POR, AL MENOS, UN COMPUESTO POLIMERIZABLE CON INSATURACION ETILICA, Y UN PERESTER, INICIADOR DE LA POLIMERIZACION AL EXPONER LA COMPOSICION A LA RADIACION ACTINICA; Y DE UN DISOLVENTE ORGANICO; APLICACION DE LA DISOLUCION A UN SUSTRATO EN AUSENCIA DE RADIACION ACTINICA, A TEMPERATURA AMBIENTE, PARA FORMAR UN REVESTIMIENTO QUE, DESPUES DE SECADO, PRESENTA UN PESO DE 1 G POR METRO CUADRADO; Y SECADO DEL REVESTIMIENTO EN AUSENCIA DE RADIACION ACTINICA, MEDIANTE CALENTAMIENTO DEL SUSTRATO. ESTAS PLACAS TIENEN APLICACIONES EN LA IMPRESION LITOGRAFICA.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/06/1986). Clasificación: C07C65/38.

PROCEDIMIENTO DE OBTENCION DE PERESTERES ADYUVANTES DE FOTOPOLIMERIZACION. COMPRENDE: A) PREPARAR, POR OXIDACION DEL 2-METIL-ANTROQUINON, UN ACIDO DE FORMULA (II); B) TRATAR AL ACIDO DE FORMULA (II) CON CLORURO DE TIONIL, PARA OBTENER EL CLORURO CORRESPONDIENTE; Y C) HACER REACCIONAR EL CLORURO OBTENIDO EN (B) CON UN HIDROPEROXIDO DE FORMULA (III), EN PRESENCIA DE TRIETIL-AMINA, A MENOS DE 5JC, PARA OBTENER UN PERESTER DE FORMULA (I). SIENDO: Q RADICAL AROMATICO O HETEROCICLICO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO, Y OTROS; R1, R2 Y R3, INDEPENDIENTEMENTE, H, ALQUILO Y OTROS; R8, H, ACILO, HETEROCICLICO Y OTROS; R13, JUNTO CON R8, MIEMBROS DEL ANILLO NECESARIO PARA COMPLETAR NUCLEO CICLOALCANO; R14, H; Y R Y W, IGUALES O DIFERENTES, 0 O 1. SE UTILIZAN PARA PROVOCAR LA POLIMERIZACION DE COMPUESTOS FOTOPOLIMERIZABLES.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/06/1986). Clasificación: C07D209/12.

PROCEDIMIENTO DE FABRICACION DE PLACAS SENSIBLES A LA RADIACION ACTINICA. COMPRENDE: A) HACER REACCIONAR UNA BASE DE METILENO DERIVADA DE UN COMPUESTO DE FORMULA (II) CON UN ACIDO HALURO DE FORMULA (III) PARA OBTENER UN COMPUESTO DE FORMULA (I); B) TRATAR EL COMPUESTO DE FORMULA (I) CON UN COMPUESTO FOTOPOLIMERIZABLE CON UNA INSATURACION ETILENICA; C) AÑADIR UN MATERIAL ENDURECIBLE MEDIANTE ACIDO; D) AGREGAR UN COMPLUESTO INDICADOR DE EXPOSICION A RADIACION; Y E) APLICAR LA COMPOSICION RESULTANTE SOBRE UN SUSTRATO ADECUADO PARA OBTENER LA PLACA SENSIBLE A RADIACION ACTINICA. SIENDO: A, ANILLO HETEROCICLICO DE C 5 A 6; B, H, ACILO, AROILO Y OTROS; E, H O CH3 X3-P; J, ARILO O GRUPO HETEROCICLICO; R, ALQUILO; X, CLORO O BROMO; Z, HALOGENO; Y M, N Y P, INDEPENDIENTEMENTE, 0, 1 O 2. SE UTILIZAN EN IMPRESION LITOGRAFICA, CAPAS FOTOPROTECTORAS Y DE FORMACION DE IMAGENES FOTOGRAFICAS.

Sección de la CIP Física

(16/12/1985). Clasificación: G03F7/105.

COMPOSICIONES SENSIBLES A LAS RADIACIONES. SE UTILIZAN COMO TALES EN PLACAS DE IMPRESION Y MATERIALES FOTO-RESISTENTES QUE COMPRENDEN SUSTRATOS RECUBIERTOS CON DICHAS COMPOSICIONES Y SU TRATAMIENTO, DESARROLLADO POR: UNA EXPOSICION DE LA COMPOSICION A LA RADIACION DE MODO QUE SE CONFIGUREN DOS AREAS, UNA ATACADA POR DICHA RADIACION Y OTRA NO ATACADA POR LA MISMA, LO QUE LAS DETERMINA DIFERENTE SOLUBILIDAD; REVELADO DE LA COMPOSICION EXPUESTO QUE ELIMINA SELECTIVAMENTE LO MAS SOLUBLE, DESCUBRIENDO EL SUSTRATO SUBYACENTE Y CALENTAMIENTO DE LAS AREAS MENOS SOLUBLES QUE PERMANECEN SOBRE EL SUSTRATO EN PRESENCIA DE UN COLORANTE SENSIBLE AL CALOR QUE CAMBIA DE COLOR A UNA TEMPERATURA DE 180JC AL MENOS Y QUE VA MEZCLADO CON UNA SUSTANCIA CAPAZ DE IMPEDIR QUE LAS AREAS DESCUBIERTAS SE CONTAMINEN.

Sección de la CIP Técnicas industriales diversas y transportes

(01/12/1985). Clasificación: B41N3/08.

MEJORAMIENTO DE LA RECEPTIVIDAD DE TINTA DE LAS PLANCHAS DE IMPRESION LITOGRAFICA CON ZONAS DE IMAGENES DE PLATA METALICA DERIVADAS DE EMULSIONES DE HALUROS DE PLATA. APLICAMOS A LA PLANCHA UNA ENZIMA PROTEOLITICA APLICANDO POSTERIOR O SIMULTANEAMENTE UN COMPUESTO OLEOFILIZANTE DE LAS ZONAS DE LAS IMAGENES DE PLATA. ESTA COMPOSICION DE ACABADO SERA, EN GENERAL, UNA SOLUCION ESENCIALMENTE ACUOSA CON CANTIDADES EFICACES DEL ENZIMA Y DEL COMPUESTO OLEOFILIZANTE. LA COMPOSICION DE ACABADO PUEDE TENER UN COMPUESTO SENSIBILIZADOR LITOGRAFICO. ADEMAS SE LE PUEDE APLICAR UNA LACA PARA AUMENTAR LA VIDA DE LA PLANCHA EN LAS ZONAS FORMADORAS DE IMAGENES.

Sección de la CIP Física

(01/10/1985). Clasificación: G03G5/06.

PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE COMPUESTOS FOTOCONDUCTORES.COMPRENDE: 1) FORMAR UNA SOLUCION DE UN COMPUESTO FOTOCONDUCTOR, FORMADO POR UN FOTOCONDUCTOR Y UN SENSIBILIZADOR DE FORMULA (I), DONDE R REPRESENTA UN GRUPO ALQUILO, R1 REPRESENTA UN ATOMO DE HIDROGENO O UN GRUPO ALQUILO O ARILO, R2 REPRESENTA LOS ATOMOS NECESARIOS PARA COMPLETAR UN ANILLO HETEROCICLICO O UN ANILLO CARBOXILICO, A- REPRESENTA UN ANION, Y N REPRESENTA LA VALENCIA DEL ANION; 2) APLICAR LA SOLUCION A UN SOPORTE PARA FORMAR UN RECUBRIMIENTO DE LA SOLUCION SOBRE EL SOPORTE; Y 3) PROCEDER AL SECADO DEL RECUBRIMIENTO PARA FORMAR EL COMPUESTO FOTOCONDUCTOR DESEADO; DONDE EL SENSIBILIZADOR SE ENCUENTRA PRESENTE EN EL COMPUESTO EN UNA PROPORCION ENTRE 0,01 A 10 EN PESO, BASADO EN EL FOTOCONDUCTOR.

Sección de la CIP Física

(01/12/1984). Clasificación: G03F7/30.

SISTEMA DE PROCESADO DE DISPOSITIVOS SENSIBLES A RADIACIONES.COMPRENDE: PONER EN CONTACTO LOS DISPOSITIVOS CON UN LIQUIDO DE PROCESADO; CONTROLAR LA CONDUCTIVIDAD ELECTRICA DEL LIQUIDO DE PROCESADO DURANTE EL PROCESADO; Y VARIAR LAS CONDICIONES DE PROCESADO EN FUNCION DE CAMBIOS EN LA CONDUCTIVIDAD ELECTRICA. EL APARATO COMPRENDE: RECIPIENTE PARA EL LIQUIDO; MEDIO PARA MOVER LOS DISPOSITIVOS; MEDIO DE MEDICION DE LA CONDUCTIVIDAD Y PRODUCIR UNA SEN/AL DE SALIDA EN FUNCION DE LA MISMA; Y MEDIO PARA VARIAR LAS CONDICIONES DE PROCESADO EN FUNCION DE DICHA SEN/AL DE SALIDA.DE APLICACION EN PRODUCCION DE PLANCHAS LITOGRAFICAS, CIRCUITOS IMPRESOS Y CIRCUITOS INTEGRADOS.