13 patentes, modelos y diseños de RECHERCHE ET DEVELOPPEMENT DU GROUPE COCKERILL SAMBRE, EN ABREGE: RD-CS

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/07/2005). Inventor/es: VANDEN BRANDE, PIERRE, WEYMEERSCH, ALAIN, LUCAS, STEPHANE. Clasificación: C23C14/34, C23C14/22.

PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA LA FORMACION DE UN REVESTIMIENTO SOBRE UN SUSTRATO QUE SE DESPLAZA A TRAVES DE UN RECINTO , CONSISTIENDO ESTE PROCEDIMIENTO EN FORMAR EL REVESTIMIENTO POR UNA EVAPORACION SEGUIDA DE UNA CONDENSACION Y POR UNA PULVERIZACION CATODICA SIMULTANEA DE ESTE ELEMENTO A PARTIR DE UNA DIANA SOBRE EL SUSTRATO Y EN AJUSTAR LA RELACION DE LAS CANTIDADES DEL ELEMENTO QUE SE EVAPORAN Y PULVERIZAN SIMULTANEAMENTE ACTUANDO SOBRE EL APORTE DE ENERGIA A LA DIANA.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/06/2004). Inventor/es: HARLET, PHILIPPE, RUHL, HELMUT, BECO, FIRMIN, REICHELT, HEIKO. Clasificación: C21D8/04, C22C38/12, C22C38/14.

LA INVENCION SE REFIERE A UN ACERO AL NIOBIO EXTRADULCE CALMADO CON ALUMINIO Y EXENTO DE TITANIO PARA FABRICAR PRODUCTOS PLANOS LAMINADOS EN FRIO Y RECOCIDOS; TIENE UN CONTENIDO EN NIOBIO ESTEQUIOMETRICAMENTE INFERIOR AL DE NITROGENO Y UN CONTENIDO EN BORO O EN CIRCONIO SUFICIENTE PARA FIJAR EL NITROGENO NO FIJADO. TAMBIEN SE REFIERE AL METODO DE FABRICACION DE PRODUCTOS PLANOS CON ESTE ACERO.

Secciones de la CIP Química y metalurgia Electricidad

(16/04/2004). Ver ilustración. Inventor/es: VANDEN BRANDE, PIERRE, WEYMEERSCH, ALAIN. Clasificación: C23G5/00, H01J37/34.

PROCEDIMIENTO PARA EL DECAPADO CONTINUO DE LA SUPERFICIE DE UN SUSTRATO QUE SE DESPLAZA EN UN SENTIDO DETERMINADO A TRAVES DE UNA CAMARA AL VACIO ENFRENTE DE AL MENOS UN CONTRAELECTRODO, SEGUN EL CUAL SE CREA, EN ESTE ULTIMO Y ESTA SUPERFICIE, UN PLASMA EN UN GAS PARA GENERAR ASI RADICALES Y/O IONES QUE PUEDEN ACTUAR SOBRE DICHA SUPERFICIE QUE HAY QUE DECAPAR, CARACTERIZADO PORQUE SE HACE USO EN DICHA CAMARA DE AL MENOS UN PAR DE CONTRAELECTRODOS SUCESIVOS , , , 12), ENFRENTE DE LA CUAL SE DESPLAZA DICHO SUSTRATO, Y PORQUE SE APLICA A UNOS CONTRAELECTRODOS UN POTENCIAL ALTERNO PARA IMPONER ASI UN POTENCIAL A ESTOS ULTIMOS ATERNATIVAMENTE POSITIVO Y NEGATIVO RESPECTO AL SUSTRATO.

Sección de la CIP Electricidad

(01/03/2004). Ver ilustración. Inventor/es: VANDEN BRANDE, PIERRE, WEYMEERSCH, ALAIN. Clasificación: H01J37/34.

DISPOSITIVO PARA LA FORMACION DE UN REVESTIMIENTO SOBRE UN SUSTRATO POR CONDENSACION DE UN ELEMENTO, PARTICULARMENTE DE UN METAL, SOBRE ESTE SUSTRATO , QUE COMPRENDE (A) UN RECINTO DONDE TIENE LUGAR UNA EVAPORACION Y/O LA PULVERIZACION CATODICA DE DICHO ELEMENTO Y EN EL QUE ESTA DISPUESTA UNA DIANA QUE PRESENTA AL MENOS UNA CAPA SUPERFICIAL QUE CONTIENE DICHO ELEMENTO Y ORIENTADO HACIA EL SUSTRATO QUE SE ENCUENTRA ENFRENTE Y POR ENCIMA DE LA DIANA , (B) MEDIOS PARA EVAPORAR DICHO ELEMENTO Y/O (C) MEDIOS PARA REALIZAR LA PULVERIZACION CATODICA DE DICHO ELEMENTO A PARTIR DE LA DIANA HACIA EL SUSTRATO , CARACTERIZANDOSE ESTE DISPOSITIVO PORQUE COMPRENDE UNA PARED CONDUCTORA (9, 9A, 9B) QUE DELIMITA AL MENOS LATERALMENTE EL ESPACIO (2') ENTRE LA DIANA Y EL SUSTRATO , PREVIENDOSE MEDIOS PARA POLARIZAR NEGATIVA O POSITIVAMENTE ESTA PARED (9, 9A, 9B) RESPECTO AL SUSTRATO.

Sección de la CIP Técnicas industriales diversas y transportes

(01/11/2003). Ver ilustración. Inventor/es: VANDEN BRANDE, PIERRE, SCHRIJNEMACKERS, JEAN. Clasificación: B05C19/00, B05D1/00, B05D1/30.

LA INVENCION SE REFIERE A UN PROCEDIMIENTO Y A UN DISPOSITIVO PARA LA APLICACION CONTINUA DE UNA SUSTANCIA EN POLVO, PARTICULARMENTE DE PINTURA EN POLVO, EN UN SUSTRATO OBLONGO CONDUCTOR DE ELECTRICIDAD O HECHO CONDUCTOR DE ELECTRICIDAD, QUE SE PRESENTA PREFERENTEMENTE EN FORMA DE UNA BANDA CONTINUA, QUE PASA PRACTICAMENTE EN VERTICAL SEGUN LA DIRECCION DE SU LONGITUD A TRAVES DE UN RECINTO DE DEPOSITO EN EL QUE SE INTRODUCE DICHO POLVO DE MANERA PRACTICAMENTE CONTINUA Y EN EL QUE SE CREA UN CAMPO ELECTRICO QUE PERMITE APLICAR ESTE POLVO EN AL MENOS UNA DE LAS DOS CARAS DEL SUSTRATO , ESTANDO ESTE POLVO ALIMENTADO EN LA PARTE SUPERIOR DEL RECINTO DE DEPOSITO , PARA PERMITIR QUE ESTE POLVO SE DESPLACE PRACTICAMENTE POR GRAVEDAD A LO LARGO DE LAS CARAS DEL SUSTRATO EN LAS QUE ESTE POLVO SE TIENE QUE APLICAR.

Secciones de la CIP Química y metalurgia Electricidad

(16/03/2003). Ver ilustración. Inventor/es: VANDEN BRANDE, PIERRE, WEYMEERSCH, ALAIN. Clasificación: C23G5/00, H01J37/34.

LA INVENCION SE REFIERE A UN PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA EL DECAPADO EN CONTINUO DE AL MENOS UNA DE LAS CARAS DE UN SUSTRATO . CONSISTE EN DESPLAZAR DICHO SUSTRATO SIGUIENDO UNA DIRECCION DETERMINADA ENTRE UN ANODO , CON RESPECTO AL CUAL ESTA POLARIZADO NEGATIVAMENTE, Y AL MENOS UN CIRCUITO MAGNETICO DISPUESTO FRENTE A DICHO ANODO , CON LA CARA QUE VA A DECAPARSE ORIENTADA HACIA EL ANODO , Y CREAR, EN LA PROXIMIDAD DE DICHA CARA, UN PLASMA EN UN GAS, DE FORMA QUE SE GENEREN RADICALES Y/O IONES QUE ACTUEN SOBRE ESTA ULTIMA, UTILIZANDO MEDIOS QUE PERMITAN ADAPTAR EL ANCHO DEL CAMPO DE ACCION DEL CIRCUITO MAGNETICO AL ANCHO DE LA ZONA QUE SE VA A DECAPAR DEL SUSTRATO.

Sección de la CIP Técnicas industriales diversas y transportes

(16/03/2003). Ver ilustración. Inventor/es: MAGAIN, PASCAL, THIBAULT, VALENTIN. Clasificación: B21D49/00.

LA INVENCION SE REFIERE A UN PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE PLANCHAS METALICAS, COMO CHAPAS DE ACERO, QUE PRESENTAN VARIACIONES LOCALES DE ESPESOR Y ESTEN DESTINADAS A SOMETERSE A UNA OPERACION DE DEFORMACION, COMO LA EMBUTICION, SEGUN EL CUAL ANTES DE SOMETER LAS PLANCHAS A LA OPERACION DE DEFORMACION SE FIJA AL MENOS UN SOBREESPESOR EN AL MENOS UNA DE SUS CARAS EN LUGARES APROPIADOS MEDIANTE UN ADHESIVO DUCTIL A TEMPERATURA AMBIENTE QUE PUEDA FORMAR UNA CAPA QUE SE FIJE FIRMEMENTE A LA CARA DE LAS PLANCHAS Y AL SOBREESPESOR APLICADO SOBRE ESTA PARA FORMAR UN TODO RIGIDO.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/09/2002). Inventor/es: RENARD, LUCIEN, BECO, FIRMIN, HARLET, PHILIPPEN. Clasificación: C21D8/12.

LA INVENCION SE REFIERE A UN PROCESO DE PRODUCCION DE ACERO BLANDO, SEGUN EL CUAL SE FORMAN DESBASTES A PARTIR DE UN ACERO QUE PRESENTA LA SIGUIENTE COMPOSICION: C INFERIOR O IGUAL A 1; SI INFERIOR O IGUAL A 1; MN INFERIOR A 1; P INFERIOR A 0,100, S INFERIOR A 0,100, N INFERIOR A 0,100; AL INFERIOR O IGUAL A 0,250, SIENDO SOMETIDOS ESTOS DESBASTES A UN LAMINADO REALIZADO AL MENOS EN PARTE EN LA FASE FERRITICA, SOPORTANDO LA TIRA ASI OBTENIDA UN AUTORRECOCIDO Y/O SIENDO SOMETIDA A UN RECOCIDO CONTROLADO DE MANERA A OBTENER UNA CRISTALIZACION DEL ACERO EN LA FASE FERRITICA.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/01/2002). Ver ilustración. Inventor/es: VANDEN BRANDE, PIERRE, WEYMEERSCH, ALAIN. Clasificación: C23C14/58.

PROCEDIIMENTO PARA EL DEPOSITO SOBRE UN SUSTRATO DE UN REVESTIMIENTO CONSTITUIDO ESENCIALMENTE POR UN COMPUESTO CONDUCTOR ELECTRONICO, EN EL QUE DICHO REVESTIMIENTO SE FORMA PRODUCIENDO ALTERNATIVAMENTE, POR UNA PARTE, EN LA MENOS UNA ZONA DE DEPOSITO , UNO O VARIOS DEPOSITOS DE UN ESPESOR DETERMINADO DE UN ELEMENTO CONDUCTOR ELECTRONICO SOBRE EL SUSTRATO Y, POR OTRA PARTE, EN AL MENOS UNA ZONA DE REACCION , UNA O VARIAS REACCIONES DEL ELEMENTO ASI DEPOSITADO CON IONES DE UN GAS REACTIVO QUE SON IMPLANTADOS EN EL DEPOSITO DE DICHO ELEMENTO SOBRE SENSIBLEMENTE TODO ESTE ESPESOR DETERMINADO PARA FORMAR CON, PREFERENTEMENTE LA TOTALIDAD DE ESTE ELEMENTO, DICHO COMPUESTO, ESTANDO DICHOS IONES SOMETIDOS A UNA ENERGIA CINETICA INFERIOR A 2.000 V, MIENTRAS QUE EL ESPESOR CITADO DEL DEPOSITO DEL ELEMENTO SE DETERMINA EN FUNCION DE LA ENERGIA CINETICA APLICADA DE UNA MANERA TAL QUE LA IMPLANTACION DE ESTOS IONES PUEDA OCURRIR SOBRE SENSIBLEMENTE TODO ESTE ESPESOR.

Sección de la CIP Técnicas industriales diversas y transportes

(16/06/2001). Ver ilustración. Inventor/es: KERGEN, RICHARD. Clasificación: B21D24/14, B21D24/02.

UNA PRENSA DE EMBUTIR COMPRENDE UN SISTEMA DE REGULACION DE LA FUERZA DEL PORTAPIEZA MEDIANTE LA UTILIZACION DE CILINDROS FLUIDICOS DE COMPENSACION . DE ESTE MODO SE COMPENSA LA VARIACION DEL ESFUERZO EN LAS ZONAS DE REGULACION DE LA PRESION DEL PORTAPIEZA CON EL FIN DE MANTENER, EN LA ZONA DEL PORTAPIEZA CONVENCIONAL, UNA PRESION CONSTANTE PEDETERMINADA. SEGUN CIERTAS VARIANTES, GRACIAS A LA PRESENTE INVENCION, ESTA PRESION EN LA ZONA DEL PORTAPIEZA CONVENCIONAL PODRA HACERSE IGUALMENTE VARIABLE.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/01/2001). Inventor/es: VANDEN BRANDE, PIERRE, WEYMEERSCH, ALAIN, LUCAS, STEPHANE. Clasificación: C23C16/02, C23G5/00, C23C14/02.

PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA EL DECAPADO DE UN SUSTRATO METALICO QUE COSISTE EN CREAR CERCA DE LA SUPERFICIE DEL SUSTRATO A LIMPIAR UN PLASMA EN UNA MEZCLA DE HIDROGENO, DE COMPUESTOS HIDROGENADOS Y/O DE UN GAS INERTE, TAL COMO ARGON, DE MANERA A GENERAR RADICALES Y/O IONES, ESTANDO ESTE SUSTRATO POLARIZADO NEGATIVAMENTE RESPECTO A UN ANODO DISPUESTO ENFRENTE DE LA SUPERFICIE A DECAPAR QUE PERMITE ASI A LOS RADICALES Y/O IONES ACTUAR SOBRE ESTA ULTIMA.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/05/1999). Inventor/es: VANDEN BRANDE, PIERRE , LUCAS, STEPHANE , WINAND, RENE , WEYMEERSCH, ALAIN , RENARD, LUCIEN. Clasificación: C23C14/34, C23C14/56.

PROCESO Y DISPOSITIVO PARA LA FORMACION DE UN REVESTIMIENTO SOBRE UN SUSTRATO POR PULVERIZACION CATODICA ("SPUTTERING") EN UN RECINTO EN PRESENCIA DE UN GAS IONIZADO, SEGUN EL CUAL SE HACE USO DE UN BLANCO QUE PRESENTA UNA CAPA SUPERFICIAL ORIENTADA HACIA EL SUSTRATO Y QUE CONTIENE AL MENOS UNO DE LOS ELEMENTOS A DEPOSITAR SOBRE ESTE SUSTRATO , ESTANDO ALIMENTADA LA CAPA SUPERFICIAL POR ELEMENTOS A DEPOSITAR SOBRE EL SUSTRATO Y SIENDO MANTENIDA O LLEVADA EN ESTADO LIQUIDO, DE MANERA A PERMITIR UNA DISTRIBUCION, PREFERENTEMENTE SENSIBLEMENTE UNIFORME, DE LOS ELEMENTOS ALIMENTADOS SOBRE LA SUPERFICIE DEL BLANCO.