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Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/01/1983). Clasificación: C25D3/38.

PROCEDIMIENTO PARA LA ELECTRODEPOSICION DE COBRE A PARTIR DE BAÑOS GALVANOPLASTICOS DE COBRE ACIDOS ACUOSOS. SE APLICA UNA INTENSIDAD DE CORRIENTE DE 0,5 A 400 ASF A UN BAÑO DE ELECTRODEPOSICION DE COBRE QUE COMPRENDE UN BAÑO GALVANOPLASTICO DE COBRE ACUOSO QUE CONTIENE UNA CANTIDAD ABRILLANTADORA DE UN COMPUESTO DE FORMULA (I) DONDE FC ES UN RADICAL DE FTALOCIANINA, X ES SO NR , SO M O CH SC(NR ) Y, R ES HIDROGENO, ALQUILO DE 1 A 6 ATOMOS DE CARBONO, ARILO DE 6 ATOMOS DE CARBONO, HETEROCICLILO DE 2 A 5 ATOMOS DE CARBONO Y SIMILARES, N ES DE 1 A 6, Y ES HALOGENO O SULFATO DE ALQUILO DE 1 A 4 ATOMOS DE CARBONO EN EL RESTO ALQUILO Y M ES HIDROGENO, LITIO, SODIO, POTASIO O MAGNESIO, PRODUCIENDOSE LA CORRESPONDIENTE REACCION DEL CU(II) A CU METALICO QUE SE DEPOSITA SOBRE EL SUSTRATO CORRESPONDIENTE, SIENDO LA TEMPERATURA A LA QUE SE PRODUCE LA ELECTRODEPOSICION DE 15 A 50C.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/06/1982). Clasificación: C08G73/00.

UN METODO PARA LA ELECTRODEPOSICION DE UN RECUBRIMIENTO DE CINC BRILLANTE SOBRE UN SUSTRATO. CONSTA DE LAS SIGUIENTES ETAPAS: 1. ELECTRODEPOSITO DE CINC DESDE UNA SOLUCION ACUOSA DE RECUBRIMIENTO DE CINC QUE CONTIENE, ADEMAS DE IONES CINC, UN POLIMERO DE CONDENSACION ALQUILADO CATIONICO SOLUBLE EN EL BAÑO Y OBTENIDO POR ALQUILACION DE UN POLIMERO A BASE DE EPIHALOHIDRINA Y UN COMPUESTO HETEROCICLICO. LA OXIDACION ELETROLICA TIENE LUGAR POR EFECTO DE LA CORRIENTE ELECTRICA PASANDO LOS IONES ZN++ A ZN METALICO QUE SE DEPOSITA SOBRE EL SOPORTE A REVESTIR. EL COMPUESTO HETEROCILICO ESTA PRESENTE EN UN EXCESO MOLAR EN RELACION AL COMPUESTO DE EPIHALOHIDRINA, LA CUAL ESTA PRESENTE EN UN EXCESO MOLAR EN RELACION AL COMPUESTO DE EPIHALOHIDRINA, LA CUAL ESTA PRESENTE EN UNA CANTIDAD DE, APROXIMADAMENTE, 0,9 MOLES EN CUANTO QUE EL AGENTE ALQUILANTE ESTA EN 0,2 MOLES.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/01/1982). Clasificación: C25D3/22.

PROCEDIMIENTO PARA LA OBTENCION DE UN DEPOSITO GALVANICO DE CINC SOBRE UN SUSTRATO CONDUCTOR. SE SOMETE A REDUCCION ELECTROQUIMICA DE IONES ZN+2 A CINC METALICO UNA DISOLUCION ACUOSA DE ELECTROGALVANIZADO, QUE CONTIENE DE 5-110 G. DE IONES CINCICOS POR LITRO Y DE 0,001-10 G. POR LITRO DE UN AGENTE ABRILLANTADOR SOLUBLE EN EL BAÑO, QUE CONSTA DE UN COMPUESTO O MEZCLAS DE COMPUESTOS DE FORMULAS (I) Y (II), EN LAS QUE X, Y Y R PUEDEN SER VARIOS TIPOS DE RADICALES, DE MODO QUE SE FORMA UN DEPOSITO GALVANICO DE CINC SOBRE EL SUSTRATO CONDUCTOR. LA DISOLUCION ELECTROLITICA PUEDE CONTENER TAMBIEN AGENTES ABRILLANTADORES SECUNDARIOS, ASI COMO CLORURO DE METAL ALCALINO, PARA AUMENTAR SU CONDUCTIVIDAD.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/08/1981). Clasificación: C25F5/00.

PROCEDIMIENTO PARA SEPARAR ELECTROLITICAMENTE DEPOSITOS METALICOS INDESEABLES DE UN SUSTRATO DE METAL DIFERENTE. EL OBJETO QUE SE QUIERE LIMPIAR SE SUMERGE EN UNA SOLUCION ACUOSA DE PH ENTRE 1 Y 14, QUE SE MANTIENE A UNA TEMPERATURA ENTRE 15,5 Y 65,9 GC Y QUE CONTIENE UN HALOGENO; UN COMPONENTE DE SEPARACION, QUE ES UNA AMINA, UN NITRATO INORGANICO O UNA MEZCLA DE AMBOS, Y UN AGENTE INHIBIDOR, COMO ACIDO GLUCOHEPTONICO O MALICO. SE CARGA EL OBJETO ANODICAMENTE Y SE HACE PASAR UNA CORRIENTE ELECTRICA, DE DENSIDAD COMPRENDIDA ENTRE 0,027 Y 1,62 A/CM. CUADRADOS, A TRAVES DE LA SOLUCION HASTA UN CATODO, DURANTE UN PERIODO DE TIEMPO TAL QUE SE OBTENGA LA MAGNITUD DE SEPARACION DESEADA DEL DEPOSITO METALICO CON RELACION AL OBJETO.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/07/1981). Clasificación: C25D3/12.

METODO PARA LA ELECTRODEPOSICION DE UN DEPOSITO DE NIQUEL OSCURECEDOR SOBRE UN SUSTRATO. EL SUSTRATO SE METE EN UN BAÑO GALVANOPLASTICO, HACIENDO PASAR UNA DENSIDAD DE CORRIENTE ALREDEDOR DE DOS MILESIMAS Y MEDIA DE AMPERIO POR CENTIMETRO CUADRADO Y ESTANDO COMPUESTO EL BAÑO DE UNA SOLUCION ACUOSA DE PH COMPRENDIDO ENTRE 4 Y 12, CON CIERTAS CANTIDADES DE IONES NIQUEL Y AMINA SOLUBLE, EN UNA RELACION MOLAR COMPRENDIDA DE UNO A CUATRO, SALES CONDUCTORAS, INERTES, SOLUBLES Y COMPATIBLES CON EL BAÑO, SIN SOBREPASAR SU LIMITE DE SOLUBILIDAD, Y UN COMPUESTO DE AZUFRE DE UN METAL ALCALINO COMO AGENTE HUMIDIFICANTE ANIONICO.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/06/1981). Clasificación: C23F1/44.

METODO PARA SEPARAR QUIMICAMENTE DEPOSITOS METALICOS INDESEABLES DE UN SUSTRATO. CONSISTE EN HACER REACCIONAR DICHO DEPOSITO METALICO CON UNA COMPOSICION ACIDA ACUOSA, A UNA TEMPERATURA COMPRENDIDA ENTRE 15 Y 66 GRADOS, CONTENIENDO UNA CONCENTRACION RELATIVAMENTE ELEVADA DE ACIDO NITRICO EN COMBINACION CON UNA CANTIDAD CONTROLADA DE IONES CLORURO Y MANGANESO, PARA ACELERAR LA INICIACION DE LA ACCION SEPARADORA Y AUMENTAR LA VELOCIDAD DE ELIMINACION DEL DEPOSITO METALICO. LA CONCENTRACION DE ACIDO NITRICO VARIA ENTRE 235 G./L. Y 1.050 G./L.; LOS IONES CLORURO ESTAN PRESENTES EN UNA CANTIDAD COMPRENDIDA ENTRE 0,2 G./L. Y LA SATURACION Y LOS IONES MANGANESO ESTAN PRESENTES CON UNA CONCENTRACION QUE VA DE 0,2G./L. A 10 G./L. DE USO EN LA ELIMINACION DE DEPOSITOS GALVANICOS INDESEABLES DE LAS PUNTAS DE CONTACTO DE LOS SOPORTES DE REVESTIMIENTO GALVANICO. L.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/12/1980). Clasificación: C25D3/46.

PROCEDIMIENTO DE ELECTRO-DEPOSICION DE PLATA METALICA Y COMPOSICION DE ELECTRO-DEPOSICION. LA COMPOSICION CONSTA DE UNA MEZCLA DE: A) UN COMPUESTO DE PLATA SOLUBLE; B) UN ELECTROLITO NO CIANURADO, Y C) UN FOSFATO ORGANICO. A ESTOS COMPUESTOS SE LES AÑADE AGUA, AJUSTANDO EL PH POR ENCIMA DE 7, AGREGANDO UN ACIDO DEBIL COMO CITRICO, FOSFORICO, O UNA BASE COMO HIDROXIDO POTASICO O CARBONATO POTASICO. LAS CONDICIONES DEL PROCEDIMIENTO SON: CONCENTRACION DEL COMPUESTO DE PLATA (PREFERENTEMENTE ARGENTOCIANURO POTASICO), DE 50-90 FR/L.; CONCENTRACION DEL COMPUESTO SOLUBLE NO CIANURADO (PREFERIBLEMENTE CITRATO POTASICO). 90/110 GR(L.; FOSFATO ORGANICO, 20-40 GR/L.; PH 7-10; TEMPERATURA 50-70GC. LA DENSIDAD DE CORRIENTE ES SUPERIOR A 800 AMP/PIE.CUADRADO. EL TIEMPO DE DEPOSICION DEPENDE DEL ESPESOR DESEADO.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/12/1980). Clasificación: C25D3/50.

PROCEDIMIENTO DE DEPOSICION ELECTROLITICA DE PALADIO METALICO. CONSISTE EN EFECTUAR UNA REACCION ELECTROLITICA DE LOS IONES PALADIO CONTENIDOS EN UNA SOLUCION EN AGUA CUYO PH ESTA POR ENCIMA DE 7, C. EN EL BAÑO ELECTROLITICO SE MANTIENE UN EXCESO DE IONES NITRITITO LIBRES, CON RELACION A LOS IONES PALADIO, NITRITO DE SODIO O POTASIO, EN UNA CANTIDAD COMPRENDIDA ENTRE EL 0,1 Y EL 50 POR 100 EN PESO. EL EXCESO MINIMO DE IONES NITRITO LIBRE ES DEL 0,5 POR 100 CON RELACION A LOS IONES PALADIO.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/12/1980). Clasificación: C25D3/22.

PROCEDIMIENTO DE DEPOSICION DE UNA CAPA DE CINC BRILLANTE SOBRE UN SUSTRATO. CONSTA DE LAS SIGUIENTES OPERACIONES: 1) PREPARACION DE UNA SOLUCION ACIDA ACUOSA DE UN PH COMPRENDIDO ENTRE 0 Y 0,5 Y CONTENIENDO; A) UN ABRILLANTADOR CONSTITUIDO POR UN POLIMERO, TAL COMO POLIACRILAMIDA, O DERIVADOR DE POLIACRILAMIDA N-SUSTITUIDAS, ASI COMO COPOLIMEROS DE LOS MISMOS. B) UN ABRILLANTADOR SECUNDARIO Y MEZCLAS DE ABRILLANTADORES SECUNDARIOS ELEGIDOS DE ENTRE ACIDO BORICO Y SALES METALICAS DE LOS GRUPOS I Y II DE LOS MISMOS Y/O TIOUREA Y DERIVADOS DE N-SUSTITUIDAS DE LA MISMA. 2) REACCION DE OXIDACION ELECTROLITICA DE LOS IONES CINC PARA TRANSFORMARSE EN CINC METALICO QUE SE DEPOSITA. EL ABRILLANTADOR PRINCIPAL ESTA PRESENTE EN UNA CANTIDAD DE C, 1 A 5 GR./L. EL ABRILLANTADOR SECUNDARIO ESTA EN UNA CANTIDAD NO SUPERIOR A 80 GR./L.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/12/1980). Clasificación: C25D3/56.

PROCEDIMIENTO PARA GALVANOPLASTIA DE UN DEPOSITO DE NIQUEL-HIERRO. CONSTA DE LAS SIGUIENTES OPERACIONES: 1) SUMERGIR EL SUSTRATO EN UN BAÑO ACUOSO CONTENIENDO IONES NIQUEL E IONES HIERRO, UN AGENTE CONSTITUTIVO DE COMPLEJO TAL COMO ACIDO TARTARICO, UN SACARIDO REDUCTOR, ACIDO ASCORBICO; UN AGENTE COMPENSADOR TAL COMO ACIDO BORICO O ACETATO SODICO, UN ABRILLANTADOR PRIMARIO DE BAÑO TAL COMO SULFO-OXIGENO, COMPUESTOS PORTADORES DE AZUFRE, UN ABRILLANTADOR SECUNDARIO E IONES HIDROGENO QUE DEN UN PH QUE OSCILE ENTRE 2.6 Y 4.5. 2) APLICACION DE UNA CARGA CATODICA AL SUSTRATO PARA PROVOCAR UNA REDUCCION DE LOS IONES DE NIQUEL E HIERRO A NIQUEL E HIERRO METALICOS. 3) REGULACION DE LA TEMPERATURA DEL BAÑO DE 40,55 A 82,22GC. EL ABRILLANTADOR PRIMARIO COMPRENDE UNA MEZCLA DE SACARINA Y UN ALIL SULFONATO DE METAL ALCALINO. EL ABRILLANTADOR SECUNDARIO CONTIENE OXIDO DE ETILENO DE ALCOHOL PROPARGILICO.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/07/1980). Clasificación: C23C18/28.

Un procedimiento para el tratamiento de un substrato plástico polimérico para hacerlo receptivo a los depósitos no electrolíticos, cuyo procedimiento comprende las operaciones de mordentar el substrato, enjuagar y activar el substrato mordentado con un complejo ácido de estaño-paladio, enjuagar y después acelerar el substrato activado empleando una solución acelerante acuosa mejorada que contiene una alquilamina sustituida compatible soluble. La solución acelerante mejorada es estable, fácil de controlar, tolerante a las impurezas metálicas presentes en la solución, inhibe la deposición en la rejilla y es de uso versátil.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/06/1979). Clasificación: C25D3/62.

Un procedimiento para la preparación de un baño acuoso de electrodeposición que consiste en someter a una reacción electroquímica un baño que contiene oro y plata en forma electro depositable, y , como componentes adicionales, una polialquilenimina y una alquilenpoliamina, encontrándose cada componente presente por lo menos en la cantidad mínima suficiente para formar un depósito brillante y que, opcionalmente, contiene : como mínimo un metal básico en forma electro depositbable como elemento de aleación adicional, una sal conductora, un agente quelante y/o un agente humectante, realizándose dicha reacción con una superficie conductora como cátodo.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/02/1979). Clasificación: C25D.

Mejoras en un método de electrodeposición de una aleación de níquel-hierro brillante sobre un substrato conductor desde un baño acuoso ácido que contiene iones hierro, iones niquel y un compuesto sulfo-oxigenado orgánico como abrillantador primario del níquel, caracterizadas porque consisten en hacer reaccionar con el baño: 1) un sacárido reductor, seleccionado entre el grupo formado por monosacáridos y disacáridos, para efectuar la reducción de los iones férricos presentes en dicho baño a iones ferrosos y 2) un agente complejante, seleccionado entre el grupo formado por ácidos hidroxicarboxílicos alifáticos de 1 a 3 grupos carboxilo, 2 a 8 átomos de carbono y 1 a 6 grupos hidroxilo, que reacciona con los iones ferrosos y férricos formando un compuesto complejo que permite mantener en solución a dichos iones.

Sección de la CIP Técnicas industriales diversas y transportes

(16/11/1978). Clasificación: B65G.

Resumen no disponible.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/02/1978). Clasificación: C25D3/60.

Procedimiento para la electrodeposición de un depósito de estaño-oro sobre un substrato conductor, caracterizado porque comprende electrolizar un baño acuoso que comprende de 1 a 30 gramos/litro de oro en forma del auricianuro (equivalente de oro) y de 1 a 150 gramos/litro de estaño en forma de un complejo de haluro estánnico (equivalente de estaño), en donde el haluro se elige del grupo consistente en fluoruro, cloruro y bromuro, teniendo el baño un pH no superior a 3, y utilizando el sustrato como cátodo.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/01/1978). Clasificación: C25D3/56.

Un método para electrodepositar un revestimiento brillante, firmemente adhesivo, sobre un substrato provisto e una capa metálica por encima, que comprende: poner en contacto dicha capa metálica con una solución acuosa que lleva incluida en su seno 1/2 a 5 gramos por litro de iones de cobalto, níquel o hierro; alrededor de 1/2 a 5 grs. de iones de estaño; y 5 a 50 grs. por litro de un agente de complejo seleccionado en el grupo consistente en gluconato, glucoheptonato o sus mezclas; manteniendo el pH de la solución entre 4 a 10, electrodepositando dicho revestimiento desde dicha solución y regular el grueso de dicho revestimiento de manera que no exceda sensiblemente de cinco micrómetros.

Sección de la CIP Técnicas industriales diversas y transportes

(01/12/1977). Clasificación: B65G51/03.

Resumen no disponible.

Sección de la CIP Técnicas industriales diversas y transportes

(01/12/1977). Clasificación: B65G51/03.

Resumen no disponible.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/06/1977). Clasificación: C25C.

Resumen no disponible.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/05/1977). Clasificación: C25D5/44.

Resumen no disponible.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/04/1977). Clasificación: C25D3/14.

Resumen no disponible.

Sección de la CIP Electricidad

(16/04/1977). Clasificación: H02M.

Resumen no disponible.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/03/1977). Clasificación: C25D3/02.

Resumen no disponible.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/02/1977). Clasificación: C23C18/20.

Resumen no disponible.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/02/1977). Clasificación: C23F1/44.

Resumen no disponible.

Sección de la CIP Técnicas industriales diversas y transportes

(01/09/1976). Clasificación: B01D13/00.

Resumen no disponible.