CIP-2021 : H05H 1/46 : utilizando campos electromagnéticos aplicados, p. ej. energía a alta frecuencia o en forma de microondas (H05H 1/26 tiene prioridad).
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H ELECTRICIDAD.
H05 TECNICAS ELECTRICAS NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR.
H05H TECNICA DEL PLASMA (tubos de haz iónico H01J 27/00; generadores magnetohidrodinámicos H02K 44/08; producción de rayos X utilizando la generación de un plasma H05G 2/00 ); PRODUCCION DE PARTICULAS ACELERADAS ELECTRICAMENTE CARGADAS O DE NEUTRONES (obtención de neutrones a partir de fuentes radiactivas G21, p. ej. G21B, G21C, G21G ); PRODUCCION O ACELERACION DE HACES MOLECULARES O ATOMICOS NEUTROS (relojes atómicos G04F 5/14; dispositivos que utilizan la emisión estimulada H01S; regulación de la frecuencia por comparación con una frecuencia de referencia determinada por los niveles de energía de moléculas, de átomos o de partículas subatómicas H03L 7/26).
H05H 1/00 Producción del plasma; Manipulación del plasma (aplicación de la técnica del plasma a reactores de fusión termonuclear G21B 1/00).
H05H 1/46 · · utilizando campos electromagnéticos aplicados, p. ej. energía a alta frecuencia o en forma de microondas (H05H 1/26 tiene prioridad).
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
METODO Y APARATO PARA PRODUCIR PLASMA PLANAR ACOPLADO MAGNETICAMENTE.
(01/03/1998). Solicitante/s: LAM RESEARCH CORPORATION. Inventor/es: OGLE, JOHN SELDON.
UN APARATO PARA PRODUCIR UN PLASMA PLANAR EN UN GAS DE PROCESO A BAJA PRESION INCLUYE UNA CAMARA Y UNA BOBINA PLANAR EXTERIOR. SE INDUCE CORRIENTE RESONANTE DE RADIOFRECUENCIA EN LA BOBINA PLANAR QUE A SU VEZ PRODUCE UN CAMPO MAGNETICO PLANAR DENTRO DE LA CAJA. EL CAMPO MAGNETICO PRODUCE LA CIRCULACION DEL FLUJO DE ELECTRONES QUE A SU VEZ PRODUCE UNA REGION PLANAR DE ESPECIES IONICAS Y RADICALES. EL SISTEMA PUEDE USARSE PARA TRATAMIENTO DE PLASMA DE UNA VARIEDAD DE ARTICULOS PLANARES, TIPICAMENTE DISCOS SEMICONDUCTORES QUE SE ORIENTAN DE FORMA PARALELA AL PLASMA DENTRO DE LA CAJA.
PROCESO QUE UTILIZA UN PLASMA, METODO Y APARATO.
(01/07/1997). Solicitante/s: APPLIED MATERIALS, INC.. Inventor/es: MAYDAN, DAN, MINTZ, DONALD M., HANAWA, HIROJI, SOMEKH, SASSON.
UN PROCESO DE PLASMA, METODO Y APARATO CAPACES DE OPERACION SIGNIFICATIVAMENTE POR ENCIMA DE 13'56 MHZ PUEDE PRODUCIR VOLTAJE DE POLARIZACION AUTOMATICA DE REJILLA REDUCIDO DEL ELECTRODO ACTIVADO, PARA HABILITAR PROCESOS MAS SUAVES QUE NO DAÑEN CAPAS FINAS QUE ESTAN CONSTANTEMENTE SIENDO COMUNES EN CIRCUITOS INTEGRADOS DE GRAN VELOCIDAD Y DE GRAN DENSIDAD. SE UTILIZA UNA RED NO CONVENCIONAL SEMEJANTE PARA HABILITAR LA ELIMINACION DE REFLEXIONES A ESTAS FRECUENCIAS SUPERIORES. EL CONTROL AUTOMATICO DE LOS COMPONENTES DE LA RED SEMEJANTE HABILITA EL AJUSTE DE LA FRECUENIA DE RF PARA INFLAMAR EL PLASMA, Y DESPUES ACTUAR A UNA FRECUENXIA VARIABLE SELECCIONADA PARA REDUCIR AL MINIMO EL TIEMPO DEL PROCESO SIN DAÑO SIGNIFIVATIVO AL CIRCUITO INTEGRADO.
FUENTE DE PLASMA DE RADIOFRECUENCIA ACOPLADA CAPACITATIVAMENTE.
(01/07/1997). Solicitante/s: KAUFMAN & ROBINSON, INC. Inventor/es: KAUFMAN, HAROLD R., ROBINSON, RAYMOND S.
UN PAR DE ELECTRODOS DE TAMAÑO NO SIMILAR SON GUIADOS POR UNA FUENTE DE RADIOFRECUENCIA PARA CREAR UN PLASMA. UN CAMPO MAGNETICO ESTA ORIENTADO DE FORMA QUE SEA PARALELO A UNA SUPERFICIE DEL ELECTRODO PEQUEÑO . LA RESISTENCIA DEL CAMPO AUMENTA EN CUALQUIER LADO DEL ELECTRODO PEQUEÑO . SEGUN SE MUESTRA, LOS IONES SE ACELERAN ELECTROSTATICAMENTE FUERA DEL PLASMA, PERO PODRAN ACELERARSE TAMBIEN MAGNETICAMENTE, LOS ELECTRONES PUEDEN EXTRAERSE, ALTERNATIVAMENTE, O NO PODRAN SER UN MECANISMO ACELERADO.
DISPOSITIVO PARA EL DEPOSITO DE POLIMERO POR INTERMEDIO DE UN PLASMA EXCITADO POR MICROONDAS.
(16/06/1997) LA INVENCION SE REFIERE A UN DISPOSITIVO PARA EL DEPOSITO DE POLIMERO EN VACIO, EN FASE VAPOR, POR INTERMEDIO DE UN PLASMA EXCITADO POR MICROONDAS SOBRE SUPERFICIES DE UNA PLURALIDAD DE ELEMENTOS , EN ESPECIAL SUPERFICIES INTERIORES ALUMINIZADAS DE REFLECTORES DE FAROS DE VEHICULOS, COMPRENDIENDO UN RECINTO DE DEPOSITO , MEDIOS PARA ESTABLECER UN VACIO DE EMPUJE EN EL CITADO RECINTO, MEDIOS DE EXCITACION DE MICROONDAS COMPRENDIENDO UN GENERADOR DE MICROONDAS Y MEDIOS DE APLICACION DE MICROONDAS EN EL RECINTO POR INTERMEDIO DE, AL MENOS, UNA VENTANA ESTANCO AL GAS Y TRANSPARENTE FRENTE A LAS MICROONDAS, Y AL MENOS UN DIFUSOR DE GAS MONOMERO COLOCADO EN EL RECINTO DE DEPOSITO, CERCA DE CADA VENTANA. CONFORME A LA INVENCION, LOS CITADOS MEDIOS DE APLICACION DE LAS MICROONDAS LLEVAN AL MENOS…
MECANISMO Y METODO DE REACTOR DE PLASMA MEJORADO PARA TRATAMIENTO DE UN SUBSTRATO.
(01/05/1997). Solicitante/s: THE BOARD OF TRUSTEES OF THE MICHIGAN STATE UNIVERSITY. Inventor/es: ASMUSSEN, JES, REINHARD, DONNIE K.
SE DESCRIBE UN MECANISMO Y METODO PARA TRATAR UN SUBSTRATO CON UNA ESPECIE EXCITADA SEPARADA DE UN PLASMA (15, 15A, 31, 52, 53). EL MECANISMO INCLUYE TUBOS EN LOS EXTREMOS CERRADOS O ABIERTOS (13, 22, 30, 54 Y 55) CON APARATOS U ORIFICIOS (16, 32, 56 Y 57) PARA DIRIGIR LA ESPECIE EXCITADA A UN SUBSTRATO Y UNA PLACA GRADUABLE O CORTACIRCUITO DESLIZANTE EN LA PARTE INTERIOR O EXTERIOR DE LOS TUBOS PARA SITUAR EL PLASMA EN EL TUBO DURANTE EL MANEJO DEL MECANISMO. SE UTILIZA LA POSICION DE REGULACION O BOQUILLAS O LAS VARIACIONES DE POTENCIA. EL METODO Y MECANISMO SON UTILES PARA DEPOSITAR PELICULAS, GRABADOS Y SIMILARES.
MODULO DE GRABADO SUAVE MEDIANTE UTIL DE AGRUPACION Y GENERADOR DE PLASMA ECR PARA EL MISMO.
(16/12/1995). Solicitante/s: MATERIALS RESEARCH CORPORATION. Inventor/es: GHANBARI, EBRAHIM.
SE PREVE UN GENERADOR DE PLASMA DE RESONANCIA DE CICLOTRON DE ELECTRON EN UN APARATO DE PROCESAMIENTO DE PLASMA EN PASTILLA SEMICONDUCTORA Y MODULO DE HERRAMIENTA DE GRUPO , PARTICULARMENTE PARA SU USO EN GRABACION AL AGUAFUERTE BLANDA. EL GENERADOR GENERA UN PLASMA UNIFORME GIRANDO UNA CAMPO MAGNETICO QUE SOPORTA UNA RESONANCIA QUE PRODUCE PLASMA ALREDEDOR DEL EJE DE UNA CAVIDAD DE RESONANCIA DENTRO DE LA CAMARA DE VACIO DE UN PROCESADOR DE PLASMA. EL CAMPO GIRADO ES PREFERENTEMENTE UN CAMPO DE PUNTO ESTACIONARIO UNICO O MULTIPUNTO ESTACIONARIO PRODUCIDO POR UN CONJUNTO MAGNETICO , PREFERENTEMENTE FORMADO DE UNA RED CILINDRICA DE IMANES EN BARRA /0), MONTADOS PARA GIRAR ALREDEDOR DE LA PARTE EXTERIOR DE LA PARED DE LA CAVIDAD . EL GAS FLUYE UNIFORMEMENTE DENTRO Y A TRAVES DE LA CAVIDAD A PARTIR DE UNA DUCHA DE DISTRIBUCION DE GAS . LA ENERGIA DE MICROONDAS SE DIVIDE EN PARTES IGUALES Y SE ACOPLA DENTRO DE LA CAVIDAD EN MODO TM01 POR UNA PLURALIDAD DE BUCLES AXIAL Y RADIALMENTE ALINEADOS.
APARATO REPRODUCTOR DE PLASMA, DE ONDAS DE RADIOFRECUENCIA, DEL TIPO DE CAVIDAD COAXIAL MEJORADO.
(16/10/1995). Solicitante/s: THE BOARD OF TRUSTEES OF THE MICHIGAN STATE UNIVERSITY. Inventor/es: ASMUSSEN, JES.
SE DESCRIBE UN APARATO COAXIAL DE PLASMA REPRODUCTOR DE ONDA DE RADIOFRECUENCIA CON UNA CAVIDAD METALICA ALARGADA QUE TIENE UNA SONDA MOVIL ALARGADA DE ACOPLAMIENTO, MONTADA EN LINEA CON UN EJE (A-A) DE LA CAVIDAD, QUE TIENE UN CONDUCTOR COAXIAL CENTRAL Y QUE TIENE UNA PLACA MOVIL PARA OBTENER UN MODO DE RESONANCIA DE LA ONDA DE RADIOFRECUENCIA EN LA CAVIDAD QUE RODEA UNA CAMARA PARA CONFINAR EL PLASMA. UN EXTREMO (11B) DEL CONDUCTOR ES ADYACENTE A LA CAMARA Y PUEDE SOPORTAR OPCIONALMENTE UN GRUPO DE MAGNETOS . EL APARATO SE USA PARTICULARMENTE PARA RETROAJUSTE DE FUENTES DE VACIO EXISTENTES QUE TIENEN PEQUEÑAS PUERTAS DE ENTRADA PARA TRATAMIENTO DE PLASMA UTILIZANDO HACES MOLECULARES EPITAXIALES.FIG 1.
(16/04/1994). Solicitante/s: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS). Inventor/es: CHOLLET, PATRICK, LEPRINCE, PHILIPPE, SAADA, SERGE.
EL INVENTO CINCIERNE UN REACTOR DE PLASMA, COMPRENDIENDO: UN RECINTO SUSCEPTIBLE DE RECIBIR UN FLUJO GASEOSO ESCOGIDO, UN GENERADOR MICROONDAS , Y UNOS MEDIOS DE GUIA DE ONDAS PARA LLEVAR LAS MICROONDAS AL RECINTO , SEGUN UN ACOPLAMIENTO NO RESONANTE EN EL CUAL EL RECINTO NO DISIPA BAJO FORMA DE RADIACION ELECTROMAGNETICA LA ENERGIA DE HIPERFRECUENCIA QUE LE ES COMUNICADA EN PRESENCIA DEL GAS. SEGUN UNA DEFINICION GENERAL DEL INVENTO EL RECINTO ES DE GRAN TAMAÑO, LA PARTE TERMINAL DE LOS MEDIOS DE GUIA DE ONDAS ESTA PROGRESIVAMENTE REBAJADA EN UN SENTIDO Y ENSANCHADA EN EL OTRO, HASTA ALCANZAR UNA SECCION DERECHA RECTANGULAR PLANA RODEANDO COMPLETAMENTE DICHO RECINTO , Y PARA PROCURAR UN ACOPLAMIENTO NO RESONANTE CON ESTA.
METODO PARA EL CALENTAMIENTO DE UN TUBO DE CRISTAL DE CUARZO.
(16/04/1993). Solicitante/s: SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LIMITED. Inventor/es: SUGANUMA, HIROSHI, TANAKA, GOTARO, URANO, AKIRA, TAKAGI, MASAHIRO, MIZUNO, SHUN\'ICHI.
UN METODO DE CALENTAMIENTO DE UN TUBO DE CRISTAL DE CUARZO CON UN MICROONDAS, QUE COMPRENDE EL ABASTECIMIENTO DE UN GAS PARA GENERACION DE PLASMA EN EL TUBO DE CRISTAL DE CUARZO APLICANDO UN MICROONDAS AL TUBO DE CRISTAL DE CUARZO ASI COMO PARA GENERAR UN PLASMA CALIENTE EN EL TUBO DE CRISTAL DE CUARZO Y PARA PRECALENTAR EL TUBO DE CRISTAL DE CUARZO , Y ENTONCES INTERRUMPIENDO LA APLICACION DE MICROONDAS, Y ASI HACER QUE EL TUBO DE CRISTAL DE CUARZO QUE ABSORBE LOS MICROONDAS. CON ESTE METODO EL TUBO DE CRISTAL DE CUARZO SE PUEDE CALENTAR A UNA TEMPERATURA SUFICIENTE DE UNA MANERA M,UY RAPIDA Y CLARA.