CIP-2021 : C08K 5/33 : Oximas.

CIP-2021CC08C08KC08K 5/00C08K 5/33[3] › Oximas.

Notas[t] desde C01 hasta C14: QUIMICA

C QUIMICA; METALURGIA.

C08 COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES.

C08K UTILIZACION DE SUSTANCIAS INORGANICAS U ORGANICAS NO MACROMOLECULARES COMO INGREDIENTES DE LA COMPOSICION (colorantes, pinturas, pulimentos, resinas naturales, adhesivos C09).

C08K 5/00 Utilización de ingredientes orgánicos.

C08K 5/33 · · · Oximas.

CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.

UN PROCEDIMIENTO DE COMBINACION PARA CONSEGUIR LA DISPERSION UNIFORME DE AGENTES DE CURADO Y UN SELLADOR PRODUCIDO DE ESTE MODO.

(16/11/2004). Solicitante/s: BRIDGESTONE CORPORATION. Inventor/es: HERGENROTHER, WILLIAM, HOGAN, TERRENCE, DOMER, CHRISTINE.

Un procedimiento para preparar una composición selladora, comprendiendo dicho procedimiento: a) proporcionar uno o más elastómeros, opcionalmente en ausencia sustancial de disolventes orgánicos; b) dispersar un agente de curado quinoide en un polímero que tiene un peso molecular promedio numérico por debajo de 5.000 para formar un concentrado de agente de curado, estando opcionalmente dicho concentrado sustancialmente exento de disolvente orgánico; c) combinar dicho concentrado de agente de curado con dicho uno o más elastómeros para formar dicha composición selladora; y d) opcionalmente, añadir un peróxido de co-curado a dicha composición selladora.

COMPOSICION DE RESINA FOTOSENSIBLE.

(01/04/2004). Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Inventor/es: KUNIMOTO, KAZUHIKO, OKA,HIDETAKA, OHWA,MASAKI, TANABE,JUNICHI, KURA,HISATOSHI.

Composiciones de resinas fotosensibles. El invento se refiere a composiciones fotosensibles que contienen (A) un compuesto soluble en álcalis; (B) por lo menos un compuesto de fórmula I ó II, en donde R{sub,1}, Ar{sub,1}, X, R{sub,3}, R{sub,4}, R{sub,5} y R{sub,6} tienen el significado expuesto en las reivindicaciones y (C) un compuesto fotopolimerizable. Estas composiciones presentan un buen e inesperado rendimiento, en particular en la tecnología de los fotoresists.

DISPERSIONES O DISOLUCIONES QUE CONTIENEN COMPUESTOS DE HIDROXILAMINACOMO AGENTES DE RETICULACION.

(01/02/1997). Solicitante/s: BASF AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: WISTUBA, ECKEHARDT, HARREUS, ALBRECHT, AYDIN, ORAL, NEUHAUSER, HORST, DR., WILD, JOCHEN, BAUER, GERHARD, LEY, GREGOR, DR., BOTT, KASPAR, ZOSEL, ALBRECHT.

LA INVENCION SE REFIERE A DISPERSION O SOLUCIONES DE UN POLIMERIZADO RADICAL, POLICONDENSADO O POLIADUCTO, QUE SE COMPONE DESDE 0,001 HASTA 20 % EN PESO DE GRUPOS ALDEHIDO RUPOS CETONA MA DERIVADOS.

UN PROCEDIMIENTO PARA VULCANIZAR POLÍMEROS Y COPOLÍMEROS AMORFOS SATURADOS DE ALFA-OLEFINAS.

(01/05/1961). Solicitante/s: MONTECATINI, SOCIETÀ GENERALE PER L¿INDUSTRIA MINERARIA E CHIMICA.

Un procedimiento para vulcanizar polímeros y copolímeros amorfos saturados de alfa-olefinas, entre sí y/o con etileno, por medio de percompuestos orgánicos y en presencia o en ausencia de azufre, caracterizado porque, en presencia de cargas ácidas, se emplean como activadores de la vulcanización y también como neutralizadores de la influencia negativa de la carga ácida sobre el peróxido, compuestos que tienen la fórmula general del tipo **FIGURA** en proporciones de 0,01 a 15 partes en peso por 100 partes de polímero o copolímero presente en la mezcla.

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