CIP-2021 : C23F 3/02 : Metales ligeros.

CIP-2021CC23C23FC23F 3/00C23F 3/02[1] › Metales ligeros.

Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA

C QUIMICA; METALURGIA.

C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.

C23F LEVANTAMIENTO NO MECANICO DE MATERIAL METALICO DE LAS SUPERFICIES (trabajo del metal por electroerosión B23H; despulido por calentamiento a la llama B23K 7/00; trabajo del metal por láser B23K 26/00 ); MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS; MEDIOS PARA IMPEDIR LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL (tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D, C25F ); PROCESOS EN MULTIPLES ETAPAS PARA EL TRATAMIENTO DE LA SUPERFICIE DE MATERIALES METALICOS UTILIZANDO AL MENOS UN PROCESO CUBIERTO POR LA CLASE C23 Y AL MENOS UN PROCESO CUBIERTO BIEN POR LA SUBCLASE C21D   BIEN POR LA SUBCLASE C22F O POR LA CLASE C25.

C23F 3/00 Abrillantado de metales por medios químicos.

C23F 3/02 · Metales ligeros.

CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.

Composición para el tratamiento por grabado químico de un material de resina.

(26/06/2019). Solicitante/s: OKUNO CHEMICAL INDUSTRIES CO., LTD. Inventor/es: NAGAMINE,SHINGO, KITA,KOJI, OTSUKA,KUNIAKI.

Composición para el tratamiento por grabado químico de un material de resina, comprendiendo la composición una solución acuosa que presenta una concentración de ion permanganato de 0,2 mmoles/l o más y una concentración de ácido total de 10 moles/l o más con un límite superior de 15 moles/l y satisfaciendo la solución acuosa la condición siguiente : establecer la concentración molar de ion manganeso divalente a 15 o más veces superior a la concentración molar de ion permanganato, y en la que la solución acuosa opcionalmente satisface además por lo menos una de las condiciones y siguientes: contener un ácido sulfónico orgánico en una cantidad de 1,5 moles/l o más, y establecer la cantidad de adición de una sal de magnesio anhidra a 0,1 a 1 mol/l.

PDF original: ES-2744077_T3.pdf

Composición para el tratamiento por grabado químico de un material de resina.

(08/10/2018). Solicitante/s: OKUNO CHEMICAL INDUSTRIES CO., LTD. Inventor/es: NAGAMINE,SHINGO, KITA,KOJI, OTSUKA,KUNIAKI.

Composición para el tratamiento por grabado químico de un material de resina, comprendiendo la composición una solución acuosa que presenta una concentración de ion permanganato de 0,2 mmoles/l o más y una concentración de ácido total de 10 moles/l o más con un límite superior de 15 moles/l y satisfaciendo la solución acuosa la condición siguiente : establecer la cantidad de adición de una sal de magnesio anhidra a 0,1 a 1 mol/l y en la que la solución acuosa opcionalmente satisface además por lo menos una de las condiciones y siguientes: contener un ácido sulfónico orgánico en una cantidad de 1,5 moles/l o más, y establecer la concentración molar de ion manganeso divalente a 15 o más veces superior a la concentración molar de ion permanganato.

PDF original: ES-2685409_T3.pdf

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