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CIP-2021 : G03F 1/36 : Máscaras que poseen características de correción por proximidad;

Su preparación, p. ej. procesos de diseño para corrección de proximidad óptica [OPC].

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G FISICA.

G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.

G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G).

G03F 1/00 Originales para la producción por vía fotomecánica de superficies texturadas, p. ej. mascaras, foto-mascaras o reticulas; Máscara en blanco o películas para ello; Contenedores especialmente adaptados a este efecto; Su preparación..

G03F 1/36 · Máscaras que poseen características de correción por proximidad; Su preparación, p. ej. procesos de diseño para corrección de proximidad óptica [OPC].

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Clasificación Internacional de Patentes 2015

Sección A: NECESIDADES CORRIENTES DE LA VIDA.
Sección B: TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES.
Sección C: QUIMICA; METALURGIA.
Sección D: TEXTILES; PAPEL.
Sección E: CONSTRUCCIONES FIJAS.
Sección F: MECANICA; ILUMINACION; CALEFACCION; ARMAMENTO; VOLADURA.
Sección G: FISICA.
Sección H: ELECTRICIDAD.

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