CIP-2021 : C25F 5/00 : Levantado electrolítico de capas o revestimientos metálicos.

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Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA

CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.

Preparación de sal de metal noble, un método para la preparación de la misma, y uso para electrochapado.

(25/12/2019). Solicitante/s: SAXONIA Edelmetalle GmbH. Inventor/es: EHNERT,RAYKO, KÖSTER,PROF. DR. FRANK.

Preparación de sales metálicas, que no comprende iones de cianuro ni de halógeno, que comprende al menos un alquilsulfonato metálico y tiourea, en la que la relación molar de metal a tiourea es 10.000:1 a 1:10, en la que el alquilsulfonato de metal se selecciona de entre oro (Au), platino (Pt), paladio (Pd), rodio (Rh), iridio (Ir), rutenio (Ru) y alquilsulfonatos de indio (In).

PDF original: ES-2773771_T3.pdf

Procedimiento de fabricación de componentes de TiAl.

(03/04/2019) Procedimiento para la fabricación de un componente, en particular, un componente para una turbomáquina, a partir de una aleación de TiAl, que comprende las siguientes etapas en el orden indicado: - producción de un polvo a partir de la aleación de TiAl, - producción de una cápsula, cuya forma corresponda a la forma del componente a ser fabricado, - carga del polvo en la cápsula y cierre de la misma, - prensado isostático en caliente de la cápsula con el polvo, - tratamiento térmico de la cápsula prensada isostáticamente en caliente, comprendiendo el tratamiento térmico en el orden indicado: - un recocido de solución a una temperatura de hasta 1400º C durante 15…

Técnicas de desprendimiento y transferencia para grafeno desarrollado hetero-epitaxialmente.

(17/10/2018). Solicitante/s: Guardian Glass, LLC. Inventor/es: VEERASAMY, VIJAYEN S..

Un método para aislar una película delgada de grafeno, comprendiendo el método: crecimiento hetero-epitaxial de la película delgada de grafeno sobre una película delgada de catalizador; disponer un recubrimiento a base de polímero sobre la película delgada de grafeno sobre una superficie de la misma opuesta a la película 5 delgada de catalizador; curar el recubrimiento a base de polímero; y hacer que la película delgada de grafeno y el recubrimiento a base de polímero se liberen de la película delgada de catalizador, en donde la película delgada de catalizador se dispone sobre un sustrato de soporte posterior, formándose el sustrato de soporte posterior sobre la película delgada de catalizador sobre una superficie opuesta a la película delgada de grafeno, caracterizado por que una capa de liberación de película delgada está dispuesta entre el sustrato de soporte posterior y la película delgada de catalizador, en donde la capa de liberación comprende óxido de zinc.

PDF original: ES-2686329_T3.pdf

PROCEDIMIENTO DE ACONDICIONAMIENTO DE LA SUPERFICIE EXTERNA DE COBRE O ALEACION DE COBRE DE UN ELEMENTO DE UNA LINGOTERA DE COLADA CONTINUA DE METALES, DEL TIPO QUE COMPRENDE UNA ETAPA DE NIQUELADO Y UNA ETAPA DE DESNIQUELADO.

(01/12/1999) LA INVENCION SE REFIERE A UN PROCEDIMIENTO DE ACONDICIONAMIENTO DE LA SUPERFICIE EXTERNA DE COBRE O DE ALEACION DE COBRE DE UN ELEMENTO DE UNA LINGOTERA DE COLADA CONTINUA DE METALES, DEL TIPO QUE INCLUYE UNA ETAPA DE NIQUELADO Y UNA ETAPA DE DESNIQUELADO DE DICHA SUPERFICIES QUE SE CARACTERIZA PORQUE: - SE REALIZA UNA PREPARACION DE DICHA SUPERFICIE MEDIANTE UNA OPERACION DE DESENGRASADO DE DICHA SUPERFICIE DESNUDA, UNA OPERACION DE DECAPADO EN MEDIO OXIDANTE ACIDO DE DICHA SUPERFICIE DESNUDA Y UNA OPERACION DE AVIVAMIENTO DE DICHA SUPERFICIE DESNUDA; - A CONTINUACION SE REALIZA UNA OPERACION DE NIQUELADO DE DICHA SUPERFICIE DESNUDA MEDIANTE DEPOSITO ELECTROLITICO COLOCANDO DICHO ELEMENTO EN CATODO EN UN ELECTROLITO CONSTITUIDO POR UNA SOLUCION…

RETIRADA ELECTROLITICA DEL OXIDO DE CINC O NITRURO DE TITANIO DE UNA COBERTURA.

(16/10/1997). Solicitante/s: GORDON, ROY GERALD. Inventor/es: GORDON, ROY GERALD.

METODO PARA LA RETIRADA DE OXIDO DE CINC O NITRURO DE TITANIO DE UNA SUPERFICIE COBERTORA . LA COBERTURA SE UTILIZA PARA APLICAR EL OXIDO DE CINC O EL NITRURO DE TITANIO A UN SUBSTRATO DE VIDRIO. CUANDO LA ACUMULACION DE OXIDO DE CINC O NITRURO DE TITANIO DE LA SUPERFICIE ALCANZA CIERTO ESPESOR HA DE SER RETIRADO. LA SUPERFICIE CUBIERTA SE UTILIZA COMO CATODO EN UN ELECTROLITO CON UN ANODO . EL OXIDO DE CINC O EL NITRURO DE TITANIO SE RETIRAN ELECTROQUIMICAMENTE DE LA SUPERFICIE.

PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE CUERPOS A PARTIR DE PREFORMAS DE SUPRACONDUCTORES DE OXIDO DE ALTA TEMPERATURA.

(16/05/1996). Solicitante/s: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: BOCK, JOACHIM, DR., PREISLER, EBERHARD, DR..

EN EL PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE CUERPOS DE FORMA A PARTIR DE FASES PREVIAS DE SUPRACONDUCTORES DE ALTA TEMPERATURA OXIDADOS DEL TIPO BSCCO, SE CONECTA UNA COQUILLA DE COBRE DE LA FORMA DESEADA, QUE ENVUELVE UNA COLADA SOLIDA DE CUPRATO DE CALCIO-ESTRONCIO-BISMUTO EN UN PROCESO ELECTROLITICO DE CORRIENTE CONTINUA QUE SE COMPONE DE ANODO, CATODO Y ELECTROLITO. SE EMPLEA COMO ELECTROLITO UN ACIDO SULFURICO DILUIDO Y SE IMPULSA EL ELECTROLITO HASTA LA DISOLUCION DE LA COQUILLA DE COBRE CONECTADA COMO ANODO Y HASTA DEJAR AL DESCUBIERTO LOS CUERPOS DE FORMA-BSCCO CON UNA CORRIENTE CONTINUA DE HASTA 50 MA/CM (AL CUADRADO).

LIMPIEZA ELECTROLITICA SELECTIVA DE RECUBRIMIENTOS DE METAL DE SUSTRATOS CON METAL BASE.

(16/09/1990). Solicitante/s: PENNWALT CORPORATION. Inventor/es: CHEN, JOHNSON CHENG-HSIUNG.

LOS RECUBRIMIENTOS DE METAL SE SEPARAN DE LOS SUSTRATOS CON METAL BASE EN UN PROCESO ELECTROLITICO EMPLEANDO UNA SOLUCION ACUOSA DE ACIDO ALCANOSULFONICO DE 1 A 4 CARBONOS COMO ELECTROLITO A UNA CONCENTRACION DEL 45 AL 70% EN PESO, EL SUSTRATO CON METAL BASE RECUBIERTO COMO EL ANODO, Y UN CATODO ELECTROCONDUCTOR, IMPRIMIENDO UNA FUERZA ELECTROMOTRIZ A TRAVES DE LA SOLUCION ENTRE LOS ELECTRODOS HASTA QUE LA CORRIENTE DISMINUYA HASTA CERO, LO CUAL OCURRE CUANDO EL RECUBRIMIENTO METALICO EN EL MATERIAL ANODICO SE AGOTA Y EL SUSTRATO CON METAL BASE QUEDA AL DESCUBIERTO.

UN PROCEDIMIENTO PARA ELIMINAR ELECTROLITICAMENTE LOS DEPOSITOS DE NIQUEL Y DE ALEACIONES DE NIQUEL-HIERRO DE LAS BASES METALICAS DE COBRE Y DE ALEACIONES DE COBRE.

(16/04/1984). Solicitante/s: OCCIDENTAL CHEMICAL CORPORATION.

METODO DE ELIMINACION ELECTROLITICA DE LOS DEPOSITOS DE NIQUEL Y ALEACIONES DE NIQUEL-HIERRO DE LAS BASES METALICAS DE COBRE Y DE ALEACIONES DE COBRE.CONSISTE EN SUMERGIR EL OBJETO, CUYO REVESTIMIENTO SE DESEA ELIMINAR, EN UN BAÑO ELECTROLITICO CONSTITUIDO POR UNA DISOLUCION ACUOSA ACIDA QUE CONTIENE DE 5-200 G/L DE UNA SAL DE HALURO DE METAL ALCALINO O AMONICA, DE 10-100 G/L DE UN CARBOXIACIDO ORGANICO O UNA DE SUS SALES, SOLUBLES EN EL BAÑO, DE FORMULA (I), EN LA QUE Y ES HIDROGENO O HIDROXI, R Y X PUEDEN SER VARIOS RADICALES Y N VALE 0-2, Y ACIDO SUFICIENTE PARAMANTENER UN PH INFERIOR A 5. MANTENER LA TEMPERATURA DEL BAÑO ENTRE LA AMBIENTE Y 82º C, CONECTAR EL OBJETO AL ANODO Y PASAR LA CORRIENTE CON UNA DENSIDAD ANONICA ENTRE 1,076 Y 53,82 A/DM.

PROCEDIMIENTO PARA SEPARAR ELECTROLITICAMENTE DEPOSITOS METALICOS.

(01/11/1982). Solicitante/s: HOOKER CHEMICALS & PLASTICS CORP..

PROCEDIMIENTO PARA SEPARAR ELECTROLITICAMENTE DEPOSITOS ELECTROLITICOS METALICOS DE SUBSTRATOS. SE SUMERGE EL OBJETO A LIMPIAR EN UNA SOLUCION ACUOSA QUE CONTIENE UN COMPUESTO HALOGENO; UN COMPONENTE DE SEPARACION FORMADO POR UNA AMINA Y/O UN NITRATO INORGANICO; UN AGENTE DE INHIBICION PARA IMPEDI EL ATAQUE DEL SUBSTRATO; Y UN COMPONENTE SOLUBLE QUE CONSISTE EN UN TIOCIANATO, UN OXALATO O UNA MEZCLA DE AMBOS. EL OBJETO SE CONECTA AL ANODO Y SE HACE PASAR UNA CORRIENTE A TRAVES DE LA SOLUCION PARA QU SE PRODUZCAN REACCIONES DE OXIDACION DE LOS DEPOSITOS ELECTROLITICOS. LA TEMPERATURA DEL BAÑO SE MANTIENE DURANTE EL PROCESO ENTRE 15,5 Y 65,5C. >DE APLICACION EN LA INDUSTRIA DE LA GALVANOPLASTIA.

PROCEDIMIENTO PARA SEPARAR ELECTROLITICAMENTE DEPOSITOS METALICOS.

(01/08/1981). Solicitante/s: OXY METAL INDUSTRIES CORPORATION.

PROCEDIMIENTO PARA SEPARAR ELECTROLITICAMENTE DEPOSITOS METALICOS INDESEABLES DE UN SUSTRATO DE METAL DIFERENTE. EL OBJETO QUE SE QUIERE LIMPIAR SE SUMERGE EN UNA SOLUCION ACUOSA DE PH ENTRE 1 Y 14, QUE SE MANTIENE A UNA TEMPERATURA ENTRE 15,5 Y 65,9 GC Y QUE CONTIENE UN HALOGENO; UN COMPONENTE DE SEPARACION, QUE ES UNA AMINA, UN NITRATO INORGANICO O UNA MEZCLA DE AMBOS, Y UN AGENTE INHIBIDOR, COMO ACIDO GLUCOHEPTONICO O MALICO. SE CARGA EL OBJETO ANODICAMENTE Y SE HACE PASAR UNA CORRIENTE ELECTRICA, DE DENSIDAD COMPRENDIDA ENTRE 0,027 Y 1,62 A/CM. CUADRADOS, A TRAVES DE LA SOLUCION HASTA UN CATODO, DURANTE UN PERIODO DE TIEMPO TAL QUE SE OBTENGA LA MAGNITUD DE SEPARACION DESEADA DEL DEPOSITO METALICO CON RELACION AL OBJETO.

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