(30/10/2018) Quemador para su uso en la deposición de combustión que deposita un recubrimiento sobre un sustrato, que comprende: colectores de gas de combustión espaciados primero y segundo (202a, 202b) configurados para producir respectivamente llamas primera y segunda (204a, 204b), formando los colectores de gas de combustión primero y segundo (202a, 202b) una zona de reacción del precursor entre ellos; y un colector de suministro de precursor verticalmente ajustable situado entre los colectores de gas de combustión primero y segundo (202a, 202b) configurados para recibir un precursor usado en la formación del recubrimiento, estando el colector de suministro de precursor posicionado para proporcionar de manera sustancialmente directa…

(02/05/2018) Un sistema de deposición por combustión remota para su uso en la deposición, mediante deposición por combustión, de un revestimiento sobre un sustrato , que comprende: un quemador de infrarrojos (IR) que está configurado para generar una energía radiante (18') en un área entre el quemador y el sustrato ; y un dispositivo de distribución , en donde el dispositivo de distribución está dispuesto externamente con respecto al quemador, configurado para proporcionar una corriente que comprende un precursor vaporizado y un gas portador a partir de una ubicación que es remota con respecto a la energía radiante que es generada por el quemador de IR, estando configurado adicionalmente el dispositivo de distribución para dar lugar…

(11/12/2013) Un procedimiento de deposición de un revestimiento sobre un sustrato por medio de una técnica dedeposición química de vapor asistida por llama, en el que el sustrato se expone a una llama producida por unquemador , al tiempo que se añade un flujo de elementos de precursor a dicha llama, y en el que el sustrato sesomete a un movimiento relativo con respecto a dicho quemador, en el que el sustrato comprende su superficie oconsiste en un material termo sensible, en el que la deposición del revestimiento tiene lugar en dos o más etapas dedeposición sobre un sustrato opcionalmente pre-calentado, consistiendo cada etapa de deposición en un número depases posteriores…

(30/10/2013) Un aparato para realizar la deposición química de vapor por filamento caliente de capas semiconductoras odieléctricas, que comprende una cámara de tratamiento que tiene una entrada y una salida, un filamento calentado eléctricamente para la conversión catalítica de moléculas de gas precursor, ysoportes entre los cuales se mantiene el filamento, en el que la entrada está conectada a una válvula de derivación para desviar un flujo de gas de tratamientolejos de la cámara de tratamiento para permitir cambios rápidos de la composición de gas, caracterizado porque la entrada está cubierta por un distribuidor de gas hecho de un material poroso paradistribuir de forma uniforme un flujo de gas a lo largo de una longitud.

(13/08/2013) Un metodo para formar un revestimiento en un sustrato de vidrio usando una deposicion por combustion, metodo que comprende: proporcionar un sustrato de vidrio que tiene al menos una superficie que ha de revestirse; elegir un reactivo, reactivo que se elige de forma que al menos una parte del reactivo se usa en la formacion del revestimiento; introducir un primer precursor para quemarse con una primera llama; quemar al menos una parte del reactivo y del primer precursor para formar un primer material quemado, primer material quemado que comprende material no vaporizado; proporcionar el sustrato de vidrio en una primera…

(20/06/2012) Procedimiento para la fabricación de un objeto de vitrocerámica con un recubrimiento de barrera sobre unsustrato , en el que al menos una zona de la superficie del sustrato es barrida con una llama y una capa que contiene óxido metálico o silicato es separada por medio de hidrólisis con un compuesto que contiene metal oun compuesto de silicio en la llama , mientras la llama barre la zona del sustrato , caracterizado porque lacapa que contiene óxido de metal o silicato es aplicada, antes de la sinterización cerámica sobre al menos unlado de un sustrato de vidrio de partida , el sustrato de vidrio de partida es aplicado con su ladorecubierto sobre una capa inferior de…

(13/01/2012) Uso de una capa óptica como capa de supresión de reflejos para la mejora de transmisión y/o la reducción de reflexión, fabricada mediante un procedimiento de recubrimiento a la llama sobre sustratos, en el que por al menos una llama de hidrógeno carburado y/o hidrógeno un precursor que contiene silicio se descompone térmica y/o hidrolíticamente con la ayuda de un oxidante, y se deposita directamente de la fase gaseosa sobre el sustrato como capa de SiO x(OH) (4-2x), dónde 0< x