(08/07/2020) Método para controlar la temperatura de una bomba electromagnética en un aparato en donde se suministra un metal líquido a través de un tubo de alimentación desde un contenedor adaptado para contener un metal líquido a un dispositivo evaporador en una cámara de vacío, en donde el suministro del metal líquido es controlado ejerciendo una fuerza sobre el metal líquido en el contenedor, la presión en el dispositivo evaporador y la bomba electromagnética en el tubo de alimentación, caracterizado porque el método comprende: - proporcionar una bomba electromagnética que está hecha al menos parcialmente de un material conductor eléctrico, - suministrar corriente para la bomba…

(25/03/2020) Método para operar un aparato para alimentar metal líquido a un dispositivo evaporador en una cámara de vacío, en donde el tubo de alimentación recorre desde un contenedor adaptado para contener un metal líquido al dispositivo evaporador y en donde se proporciona una bomba electromagnética en el tubo de alimentación y una válvula en el tubo de alimentación entre la bomba electromagnética y el dispositivo evaporador, caracterizado porque el método comprende: - proporcionar una bomba electromagnética la cual es al menos parcialmente permeable al gas, - encerrar la bomba electromagnética en un recinto de presión controlada, - bajar la presión y/o mantener un vacío en…

(20/11/2019) Dispositivo para la formación de recubrimientos sobre superficies de una pieza constructiva, un material en forma de banda o una herramienta, en el que al menos un material (2.1 y/o 2.2) en forma de banda o de hilo utilizado para la formación del recubrimiento respectivo forma/forman un cátodo y/o un ánodo que están conectados a una fuente de tensión continua eléctrica, y entre los cuales está configurado un arco eléctrico, pudiéndose alimentar material (2.1 y/o 2.2) en forma de banda o de hilo mediante un equipo de alimentación; y material fundido y/o evaporado del material en forma de hilo o de banda (2.1 y/o 2.2), mediante una corriente de gas de un gas o de una mezcla de gases y a través de una entrada, penetra en el interior…

(06/03/2019) Un método para aplicar un revestimiento de aluminuro, que comprende: proporcionar un componente que tiene una sección externa y una sección interna, caracterizada dicha sección interna por una o más superficies internas que definen una primera cavidad interna y una segunda cavidad interna; proporcionar un primer miembro alargado definido al menos en parte por un tamaño y forma correspondientes a la primera cavidad interna; aplicar una primera suspensión a base de aluminio sobre dicho primer miembro alargado; proporcionar un segundo miembro alargado definido al menos en parte por el tamaño y la forma correspondientes a la segunda cavidad interna; …

(13/02/2019) Un procedimiento para preparar un material magnético permanente de tierras raras con una difusión intercristalina utilizando una diana compuesta mediante deposición en fase vapor, que comprende: etapa 1 de: preparar la diana compuesta que tiene la fórmula química H100-x-yMxQy, en la que: H es Dy y/o Tb, M es Nd y/o Pr, Q es uno o más elementos seleccionados del grupo de Cu, Al, Zn y Sn, x está en el intervalo de 0 a 20 y está en el intervalo de 0 a 40 son porcentajes atómicos de la composición correspondiente en la diana compuesta, y x e y no pueden ser cero simultáneamente; …

(13/02/2019) Procedimiento para la aplicación de capas delgadas sobre sustratos, según el cual - los sustratos se disponen sobre soportes de sustratos , que están instalados respectivamente en un carro y están montados de modo que circulan a través de las cámaras de proceso en un orden determinado, y - los soportes de sustratos se conducen a través de las cámaras de proceso según el orden, en donde se realiza el revestimiento en las cámaras de proceso con ayuda de dispositivos de proceso incorporados en ellas, y - en donde los soportes de sustratos están configurados en forma de tambores giratorios, - en donde los tambores giratorios se conducen a este respecto a través de campos de tratamiento de los dispositivos de proceso en paralelo al eje de giro de los tambores de giro y durante el paso a través de las cámaras de proceso se giran con…

(04/10/2017) Generador de vapor para el depósito de un revestimiento metálico sobre un sustrato , de preferencia una banda de acero, que comprende una cámara de vacío en forma de un recinto, provista de medios para asegurar un estado de depresión con respecto al medio exterior y provista de medios que permiten la entrada y la salida del sustrato , siendo a vez esencialmente estanca con respecto al medio exterior, englobando dicho recinto un cabezal de depósito de vapor, llamado eyector , conformado para crear un chorro de vapor metálico a la velocidad sónica en dirección de y perpendicular a la superficie del sustrato , estando dicho eyector en comunicación…

(11/05/2016) Conjunto de calentamiento de evaporación en vacío para calentar un soporte , en el cual un material de evaporación es cargado, en el cual el soporte presenta una forma cilíndrica y comprende una primera superficie (1a) que dispone de un área abierta, una segunda superficie que se encuentra en el lado opuesto de la primera superficie y está cerrada, y una superficie circunferencial que conecta la primera superficie con la segunda superficie, comprendiendo el conjunto de calentamiento de evaporación en vacío: un recipiente de soporte , en el cual el soporte está situado, en el cual el recipiente de soporte es un elemento de calentamiento en forma de U y en forma…

(06/05/2015) Un material luminiscente que tiene la fórmula: [AaBbXx] [dopantes], en la que: A se selecciona entre potasio, rubidio y cesio; B es estaño; X es yodo; en donde el material incluye dopantes, y los dopantes se seleccionan entre oxígeno (O-2), flúor (F-1), cloro (Cl-1), bromo (Br-1), tiocianato (SCN-1), ortofosfato (PO4 -3), metafosfato (PO3 -1) y pirofosfato (P2O7 -4), y los dopantes están incluidos en el material luminiscente en una cantidad menor de un 5 por ciento en términos de composición elemental; a está en el intervalo de 1 a 9; b está en el intervalo de 1 a 5; y x está en el intervalo de 1 a 9.

(11/03/2015) Instalación de depósito al vacío de forma continua de un revestimiento metálico sobre un sustrato en movimiento, que comprende un recinto de depósito al vacío , al menos una cabeza de revestimiento por chorro de vapor sónico unida a un crisol evaporador destinado a contener el metal de revestimiento en forma líquida , por un conducto de alimentación de vapor equipado con una compuerta de distribución y un horno de fusión de dicho metal, encontrándose dicho horno a la presión atmosférica, estando situado más abajo de la parte más baja del crisol evaporador y estando unido al crisol evaporador por al menos un conducto de alimentación automática del crisol evaporador equipado con una bomba de alimentación y por al menos un conducto (8A, 18) de retorno del metal líquido opcionalmente equipado con una compuerta , estando…

(28/07/2014) La invención presenta una fuente de evaporación para el transporte de precursores químicos, hasta un sustrato en el cual se realiza la deposición de éstos mediante condensación, formada por un tubo principal que alberga en su parte inferior a los precursores, y que tiene medios de calentamiento . En la parte superior del tubo principal se dispone una entrada y una salida para gases portadores, estando situadas en la superficie lateral del tubo principal , opuestas la una frente a la otra y alineadas a lo largo de una línea común que atraviesa transversalmente la superficie lateral del tubo principal . La invención adicionalmente presenta un método de evaporación para el transporte de precursores químicos, en el que la introducción y extracción de los gases portadores del tubo principal se realizan…

(07/05/2014) Inyector para un sistema de deposición de vapor bajo vacío, comprendiendo dicho inyector: - un conducto de inyección apto para recibir materiales vaporizados procedentes de una fuente de evaporación bajo vacío, y - un difusor que comprende una pluralidad de boquillas para difundir dichos materiales vaporizados al interior de una cámara de deposición bajo vacío, comprendiendo cada boquilla un canal apto para conectar dicho conducto de inyección a dicha cámara de deposición, caracterizado por que dicho difusor presenta una distribución de boquillas que varía espacialmente, comprendiendo por lo menos una de dichas boquillas por lo menos un inserto de difusor desmontable…

(15/11/2013) Dispositivo de deposición al vacío que comprende un recinto adaptado para recibir un sustrato a tratar y para ser puesto al vacío y por lo menos un inyector para generar un chorro molecular de vapor de un material orgánico, comprendiendo dicho inyector un conducto que se encuentra en el interior de dicho recinto y que atraviesa una pared de inyección de dicho recinto para formar un terminal exterior adaptado para ser conectado herméticamente, de manera separable, a un medio de alimentación de material orgánico, caracterizado porque dicho medio de alimentación es una botella cuyo gollete está adaptado para ser introducido en dicho terminal , y porque dicho dispositivo de deposición comprende, a uno…

(14/11/2013) Inyector para una fuente de evaporación al vacío, que comprende: - un conducto de inyección que presenta un eje longitudinal y que comprende un orificio de entrada que puede ser conectado a una fuente de evaporación al vacío y por lo menos una boquilla destinada adifundir un material vaporizado, presentando dicha boquilla una cara lateral y una cara superior ,caracterizado porque: - dicha boquilla comprende un canal principal que emerge hacia el exterior de dicho conducto deinyección y por lo menos un canal de alimentación lateral que conecta el interior del conducto deinyección con el…

(22/08/2013) Un aparato para la deposición de vapor de una materia fuente sublimada en forma de una películadelgada sobre un sustrato de un módulo fotovoltaico (FV), comprendiendo dicho aparato: una cabeza de deposición; un receptáculo dispuesto en dicha cabeza de deposición, estando configurado dichoreceptáculo para la recepción de una materia fuente granular; un colector calentado de distribución dispuesto por debajo de dicho receptáculo , configuradodicho colector calentado de distribución para calentar dicho receptáculo hasta un gradosuficiente como para sublimar la materia fuente dentro de dicho receptáculo ; y, una placa de distribución que comprende más…

(14/03/2013) Un procedimiento para la provisión antimicrobiana de superficies de implantes con plata, en el que el implante está hecho de titanio o aleación de titanio, comprendiendo el procedimiento la etapa de: anodizar la superficie del implante en presencia de un electrolito (S1a, S1b), en el que el electrolito comprende una sustancia que proporciona plata y un agente reductor, en el que la plata se reduce al menos parcialmente a partir de iones de plata mediante el agente reductor.

(08/03/2013) Instalación de depósito al vacío de un revestimiento de aleación metálica sobre un sustrato , equipada con ungenerador-mezclador de vapor que comprende una cámara de vacío en forma de un recinto, provista de mediospara asegurar allí un estado de depresión con respecto al medio exterior y provista de medios que permiten laentrada y la salida del sustrato , siendo al mismo tiempo esencialmente estanca con respecto al medio exterior,englobando dicho recinto un cabezal de depósito de vapor, denominado eyector , configurado para crear unchorro de vapor de aleación metálica a la velocidad sónica en dirección y perpendicular a la superficie del sustrato , estando dicho eyector en comunicación de manera estanca…

(07/05/2012) Procedimiento para el recubrimiento de objetos por todos los lados, que están expuestos en una cámara de proceso a un vapor de material y/o niebla de material que sale desde al menos una fuente de material , en el que el vapor de material y/o niebla de material es distribuido y/o desviado a través de medios activos y/o pasivos dentro de la cámara de proceso , caracterizado porque dentro de la cámara de proceso , que presenta un gas de fondo, se ajusta un vacío que permite una circulación viscosa, porque un material líquido o sólido a temperatura ambienta y que presenta a una temperatura de 550 K a 670 K una presión de vapor >1 Pa, es vaporizado en la fuente de material configurada como fuente de vaporización y porque el vapor de material y/o niebla de material , que sale desde la al menos una fuente de vaporización , es distribuido…

(25/04/2012) Un dispositivo de deposición al vacío en el que hay dispuestos una fuente de evaporación y un cuerpodepositado en el interior de una cámara de vacío, un espacio entre la fuente de evaporación y elcuerpo depositado está rodeado por un cuerpo tubular calentado a una temperatura en la cual sevaporiza una sustancia de la fuente de evaporación, y se hace que la sustancia vaporizada procedente dela fuente de evaporación alcance una superficie del cuerpo depositado a través de un lado interno delcuerpo tubular , de forma que sea depositada, en el que se proporciona, dentro de dicho cuerpo tubular ,un miembro de control para controlar de forma…

(08/11/2011) TiO2 nanocristallno dopado con nitrógeno para aplicaciones fotovaltaicas.La presente invención describe un procedimiento de obtención de un TiO2 nanocristalino dopado con nitrógeno mediante la técnica de láser pulsado, que confiere a dicho nanocristalino unas propiedades que lo hacen idóneo para utilizar en dispositivos fotovoltaicos, especialmente en células solares, ya sean éstas de tipo Gratzel, híbridas u orgánicas

(06/06/2011) Templado útil en la fabricación de un sistema de almacenamiento informático y procedimiento de obtención.La invención describe un templado, útil como nanomolde para la obtención de un sistema que comprende dicho templado y dots magnéticos. Dicho sistema es útil para el almacenamiento informático de datos de forma magnética, permitiendo la elaboración, por ejemplo, de un disco duro. La invención describe asimismo un procedimiento para su preparación. Dicho procedimiento comprende la obtención de un templado mediante la reconstrucción superficial de un sustrato de Au y la deposición de un elemento del grupo de las tierras raras por la técnica de epitaxia de rayo molecular sobre el sustrato de Au previamente reconstruido. A continuación sobre el templado…

(27/04/2010) Procedimiento para la aplicación de un recubrimiento de, como mínimo, dos elementos o compuestos a un sustrato, en el que, como mínimo, un primer y un segundo vapores se depositan en dicho sustrato, siendo dichos vapores estrangulados antes del depósito, con velocidad sónica de flujo en las restricciones de flujo, en el que - bien, como mínimo, uno de los vapores se estrangula antes de la mezcla y los vapores mezclados son estrangulados después de la mezcla, o bien - cada vapor se estrangula antes de la mezcla, y en el que el área superficial de cada restricción y las presiones críticas de todos los flujos de vapor en estas restricciones se seleccionan para controlar los caudales másicos y las proporciones de los vapores