DISPOSITIVO PARA LA FORMACION DE UN HAZ DE ELECTRONES, PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DEL DISPOSITIVO Y USO DEL MISMO.

(16/07/2004). Ver ilustración. Solicitante/s: SIEMENS AG. Inventor/es: WERSING, WOLFRAM, BURKHARDT, KLAUS, ECKHARDT, WOLFGANG, GOHLKE, SILVIA, MINNER, RUTH.

Dispositivo para la formación de un haz de electrones que se compone de un cuerpo de cerámica con una estructura monolítica de múltiples capas con - como mínimo dos capas de cerámica de los electrodos que presentan en cada caso como mínimo una abertura de paso para el haz de electrones y en cada caso como mínimo un electrodo dispuesto junto a la abertura de paso con contactos eléctricos, y - como mínimo una capa cerámica aislante que presenta una abertura de paso para el haz de electrones y que está dispuesta entre las capas de cerámica de los electrodos para el aislamiento de las capas de cerámica de los electrodos, con lo que - las capas de cerámica de los electrodos y la capa de cerámica aislante están dispuestas a lo largo de una dirección de propagación del haz de electrones, de tal manera que las aberturas de paso de las capas de cerámica de los electrodos y la capa de cerámica aislante forman una abertura de paso común.