CIP-2021 : G03F 7/012 : Azidas macromoleculares; Aditivos macromoleculares, p. ej. aglutinantes.
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G FISICA.
G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.
G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G).
G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
G03F 7/012 · · · Azidas macromoleculares; Aditivos macromoleculares, p. ej. aglutinantes.
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
COMPOSICION FOTOSENSIBLE Y PROCEDIMIENTO DE FORMACION DE DIBUJOS.
(01/04/2004). Solicitante/s: TOYO GOSEI KOGYO CO., LTD. Inventor/es: WATANABE, MASAHARU-PHOTO. MATERIALS RESEARCH LAB, TOCHIZAWA, NORIAKI-PHOTOSENSITIVE MATERIAL RES.LAB, IMAMURA, YUKARI-PHOTOSENSITIVE MATERIALS RES. LAB., KIKUCHI, HIDEO-PHOTOSENSITIVE MATERIALS RES. LAB.
COMPOSICIONES FOTOSENSIBLES PREPARADAS SIN USO DE UN COMPUESTO DE CROMO. LAS COMPOSICIONES PRESENTAN UNA ALTA RESOLUCION Y SENSIBILIDAD SATISFACTORIA Y NO CAUSAN CONTAMINACION MEDIOAMBIENTAL. LAS COMPOSICIONES FOTOSENSIBLES CONTIENEN UN COMPUESTO DE AZIDA HIDROSOLUBLE, QUE SIRVE COMO UN AGENTE DE FOTOENLACE CRUZADO Y POLI(N-VINILFORMANIDA) QUE ES FOTOENLAZABLE DE MANERA CRUZADA EN LA PRESENCIA DEL COMPUESTO DE AZIDA HIDROSOLUBLE.
COMPUESTOS FOTOSENSIBLES, COMPOSICIONES DE RESINA FOTOSENSIBLE Y PROCEDIMIENTO DE FORMACION DE IMAGENES UTILIZANDO DICHOS COMPUESTOS O DICHAS COMPOSICIONES.
(16/07/2003). Ver ilustración. Solicitante/s: TOYO GOSEI KOGYO CO., LTD. Inventor/es: SHIBUYA, TORU, XIE, JIAN RONG, TOCHIZAWA, NORIAKI.
EL COMPUESTO FOTOSENSIBLE DE LA PRESENTE INVENCION COMPRENDE LA UNIDAD SIGUIENTE: Y ESTA PARTICULARMENTE EXPRESADA POR LA FORMULA SIGUIENTE: COMPOSICIONES DE RESINAS FOTOSENSIBLES DIFERENTES SE PUEDEN PREPARAR A PARTIR DE ESTE COMPUESTO DE RESINA FOTOSENSIBLE NOVEDOSO, Y LAS COMPOSICIONES DE RESINA FOTOSENSIBLES ASI OBTENIDAS NO PRESENTAN PROBLEMAS DE POLUCION AMBIENTAL, Y PRODUCIENDOSE CON UN PROCESO DE ALTA RESOLUCION CON UN ALTO NIVEL DE SENSIBILIDAD Y EXHIBIENDO EXCELENTES CARACTERISTICAS DE ADHESION A SUSTRATOS, REVESTIMIENTO Y ESTABILIDAD DURANTE SU ALMACENAMIENTO.
MEJORAS EN O EN RELACION CON COMPOSICIONES SENSIBLES A LA RADIACION.
(01/11/1994). Solicitante/s: E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY. Inventor/es: ETHERINGTON, TERENCE, KOLODZIEJCZYK, VICTOR.
UN MATERIAL SENSIBLE A LA RADIACION ADECUADO PARA LA PRODUCCION DE PLACAS SENSIBLES A LA RADIACION, PARA IMPRESION DE PLACAS DE IMPRESION LITOGRAFICA, COMPRENDE UN POLIMERO QUE TIENE AÑADIDOS GRUPOS DE ETER AROMATICO SUSTITUIDOS POR AZIDA Y GRUPOS DE SULFONIL URETANO. EL COMPUESTO SENSIBLE A LA RADIACION SE FORMA MEDIANTE UN PROCESO EN EL QUE ALGUNOS GRUPOS HIDROXILO Y/O EPOXI DE UN POLIMERO SE HACEN REACCIONAR CON UN ACIDO O ESTER CARBOXILICO SUSTITUIDO POR AZIDA, FORMANDO SU DERIVADO, Y ALGUNOS GRUPOS HIDROXILO SE HACEN REACCIONAR CON UN ISOCIANATO DE SULFONILO.
