CIP-2021 : C09D 183/14 : en las que al menos dos átomos de silicio, pero no todos,
están unidos a otros átomos distintos del oxígeno (C09D 183/10 tiene prioridad).
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Notas[t] desde C01 hasta C14: QUIMICA
Notas[n] desde C09D 101/00 hasta C09D 201/00: - En los grupos C09D 101/00 - C09D 201/00, todo constituyente macromolecular de una composición de revestimiento que no esté identificado por la clasificación en aplicación de la Nota (3) que sigue al título de la subclase C09D, y cuyo uso sea considerado como nuevo y no obvio, debe ser clasificado también en uno de los grupos C09D 101/00 - C09D 201/00 .
- Todo constituyente macromolecular de una composición de revestimiento que no esté identificado por la clasificación en aplicación de la Nota (3) que sigue al título de la subclase C09D o en aplicación de la Nota (1) anterior, y que se considere que representa información de interés para la búsqueda, puede ser clasificado también en uno de los grupos C09D 101/00 - C09D 201/00 . Puede darse este caso, p. ej. cuando se considere de interés hacer posible la búsqueda de composiciones de revestimiento usando una combinación de símbolos de clasificación. Tal clasificación no obligatoria debería darse como "información adicional".
Notas[g] desde C09D 159/00 hasta C09D 187/00: Composiciones de revestimiento a base de compuestos macromoleculares orgánicos obtenidos por reacciones distintas a aquellas en las que intervienen solamente enlaces insaturados carbono-carbono
Notas[n] desde C09D 165/00 hasta C09D 185/00: - En los grupos C09D 165/00 - C09D 185/00, salvo indicación en contra, las composiciones de revestimiento a base de compuestos macromoleculares obtenidos por reacciones que forman dos enlaces diferentes en la cadena principal están clasificadas únicamente según el enlace presente en exceso.
C QUIMICA; METALURGIA.
C09 COLORANTES; PINTURAS; PULIMENTOS; RESINAS NATURALES; ADHESIVOS; COMPOSICIONES NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR; APLICACIONES DE LOS MATERIALES NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR.
C09D COMPOSICIONES DE REVESTIMIENTO, p. ej. PINTURAS, BARNICES, LACAS; EMPLASTES; PRODUCTOS QUIMICOS PARA LEVANTAR LA PINTURA O LA TINTA; TINTAS; CORRECTORES LIQUIDOS; COLORANTES PARA MADERA; PRODUCTOS SOLIDOS O PASTOSOS PARA ILUMINACION O IMPRESION; EMPLEO DE MATERIALES PARA ESTE EFECTO (cosméticos A61K; procedimientos para aplicar líquidos u otros materiales fluidos a las superficies, en general B05D; coloración de madera B27K 5/02; vidriados o esmaltes vitreos C03C; resinas naturales, pulimento francés, aceites secantes, secantes, trementina, per se , C09F; composiciones de productos para pulir distintos del pulimento francés, cera para esquíes C09G; adhesivos o empleo de materiales como adhesivos C09J; materiales para sellar o guarnecer juntas o cubiertas C09K 3/10; materiales para detener las fugas C09K 3/12; procedimientos para la preparación electrolítica o electroforética de revestimientos C25D).
C09D 183/00 Composiciones de revestimiento a base de compuestos macromoleculares obtenidos por reacciones que forman, en la cadena principal de la macromolécula, un enlace que contiene silicio con o sin azufre, nitrógeno, oxígeno o carbono; Composiciones de revestimiento a base de derivados de tales polímeros.
C09D 183/14 · en las que al menos dos átomos de silicio, pero no todos, están unidos a otros átomos distintos del oxígeno (C09D 183/10 tiene prioridad).
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
Composición de recubrimiento a base de silanos que contienen grupos epóxido.
(16/05/2002). Solicitante/s: BAYER AG INSTITUT FIR NEUE MATERIALIEN GEM. GMBH. Inventor/es: SEPEUR, STEFAN, BIER, PETER, KRUG, HERBERT, STEIN, SABINE.
Composición de recubrimiento que comprende al menos un compuestos de silicio (A), que presenta al menos un resto, enlazado directamente con el Si, no disociable por hidrólisis, que contiene un grupo epóxido, un material en forma de partículas (B), que se elige entre los óxidos, los hidratos de óxidos, los nitruros y los carburos de Si, Al y B así como de los metales de transición y que presenta un tamaño de las partículas en el intervalo de 1 hasta 100 nm, un compuesto (C) de Si, Ti, Zr, B, Sn o V y al menos un compuesto hidrolizable (D) de Ti, Zr o Al, caracterizada porque comprende las proporciones siguientes 1,0 mol de compuesto de silicio (A), 0,27-0,49 moles de material en forma de partículas (B), 0,36-0,90 moles de compuesto (C) y 0,14-0,22 moles de compuesto (D).
COMPOSICIONES DE SILICONAS SOLIDIFICABLES PARA REVESTIMIENTOS DE DESPRENDIMIENTO.
(16/10/2000). Solicitante/s: DOW CORNING TORAY SILICONE COMPANY, LIMITED. Inventor/es: KOBAYASHI, HIDEKI, KAIYA, NOBUO, NISHIUMI, WATARU.
LA PRESENTE INVENCION PROPORCIONA UNA COMPOSICION DE SILICONA QUE COMPRENDE (A) UNA COMPOSICION DE RECUBRIMIENTO DE SILICONA LIBERADO Y (B) UN COMPUESTO DE SILICIO ORGANICO QUE TIENE LA FORMULA GENERAL: DONDE R' ES UN GRUPO HIDROCARBONO MONOVALENTE, R2 ES UN GRUPO ALQUILENO, R3 ES UN ATOMO DE HIDROGENO, UN GRUPO ALQUENILO O UN GRUPO HIDROXILO, M TIENE UN VALOR DE CERO O MAYOR Y N TIENE UN VALOR MAYOR QUE CERO. LAS COMPOSICIONES DE SILICONA DE ESTA INVENCION ENDURECEN PARA DAR UN RECUBRIMIENTO LIBERADOR QUE PRESENTA VALORES DE LIBERACION OPTIMOS FRENTE A SUSTANCIAS PEGAJOSAS Y QUE NO DAÑA LA ADHESION RESIDUAL DE SUSTANCIAS PEGAJOSAS.
ORGANOPOLISILOXANOS QUE CONTIENEN RADICALES ALIFATICAMENTE INSATURADOS, SU PREPARACION Y SU EMPLEO EN COMPOSICIONES RETICULABLES.
(16/02/2000). Solicitante/s: WACKER-CHEMIE GMBH. Inventor/es: WEIDNER, RICHARD, HOCKEMEYER, FRIEDRICH.
ORGANOPOLISILOXANOS CON RESTOS ALIFATICOS INSATURADOS QUE SON SOLUBLES HASTA AL MENOS EL 80 % EN PESO EN DISOLVENTES ORGANICOS, SELECCIONADOS ENTRE XILOLES Y TOLUENO, A UNA TEMPERATURA DE 25 (GRADOS) C Y UNA PRESION DE 900 A 1000 HPA Y QUE CONTIENEN AL MENOS UNA UNIDAD DE FORMULA (I) R 1 A R 2-A SIO 2/2 , AL MENOS UNA UNIDAD DE FORMULA (II) R 1 B R 3B SIO 1/2 , AL MENOS UNA UNIDAD DE FORMULA ( III) O 1/2 R 2 - SIO X YRSIO 2/2 Y OPCIONALMENTE AL MENOS UNA UNIDAD DE FORMULA (IV) O 1/2 R 2 S IO X YR 2 SIO 1/2 , DONDE R, R 1 , A B, X E Y TIENEN EL SIGNIFICADO CITADO EN LA REIVINDICACION 1, CON LA CONDICION DE QUE EL ORGANOPOLISILOXANO CONTENGA AL MENOS UNA UNIDAD DE FORMULA (II) CUANDO B SEA DISTINTO DE 0, SU PRODUCCION Y SU USO EN MASAS RETICULABLES.
COMPOSICION DE SILICONA FOTOCURABLE Y PROCEDIMIENTO DE PREPARACION.
(16/12/1999). Solicitante/s: LOCTITE CORPORATION. Inventor/es: CHU, HSIEN-KUN, CROSS, ROBERT P., CROSSAN, DAVID I., WELCH II, EDWARD K.
LA INVENCION SE REFIERE A UN COMPUESTO DE SILICONA FOTOENDURECIBLE QUE COMPRENDE UNA SILICONA QUE TERMINA EN UN ACRILOXIDO FUNCIONAL, A UN COMPUESTO DE RESINA DE ENDURECIMIENTO POLIMODAL QUE COMPRENDE UNA SILICONA QUE TERMINA EN UN ACRILOXIDO FUNCIONAL, Y A UN COMPUESTO DE GEL DE SILICONA FOTOENDURECIBLE Y A UN PRECURSOR DE LA MISMA ASI COMO A METODOS PARA SU FABRICACION.
SILICONAS EPOXICAS FUNCIONALES PREENLAZADAS EN CRUZ DE UV-CURABLE.
(16/10/1997). Solicitante/s: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Inventor/es: ECKBERG, RICHARD PAUL.
SE PROPORCIONAN COMPUESTOS DE UV CURADO QUE COMPRENDEN UNA SILICONA EPOXICA FUNCIONAL PREENLAZADA EN CRUZ Y UN FOTOINICIADOR DE SAL DE ONIUM QUE TIENEN PROPIEDADES FISICAS POTENCIALES EN COMPARACION CON LAS, EN CASO CONTRARIO, DEBILES Y QUEBRADIZAS SILICONAS EPOXICAS FUNCIONALES DE UV-CURADO QUE NO CONTIENEN SILICIONAS EPOXICAS FUNCIONALES PREENLAZADAS EN CRUZ NI FOTOINICIADORES DE SAL DE ONIUM SIN AÑADIR RELLENADORES Y SIN SACRIFICAR UNA RAPIDA Y EFICAR VELOCIDAD DE CURACION UV. DICHOS COMPUESTOS SON UTILES COMO REVESTIMIENTO CONFORMADORES, REVESTIMIENTOS DE FIBRAS OPTICAS, Y ENCAPSULACION ELECTRICA.
RECUBRIMIENTO DE CRISTAL CON ADHERENCIA Y RESISTENCIA MEJORADAS A LAS CONDICIONES ATMOSFERICAS.
(16/05/1997). Solicitante/s: CIBA SC HOLDING AG. Inventor/es: CLARK, KIRTLAND P., DR., HARISIADES, PAUL.
RECUBRIMIENTO DE CRISTAL CON ADHERENCIA Y RESISTENCIA MEJORADAS A LAS CONDICIONES ATMOSFERICAS. UN NUEVO RECUBRIMIENTO DE CRISTAL CON UNA FUERZA ADHESIVA DE > 45 KG/CM2 Y UNA RESISTENCIA MEJORADAS A LA HUMEDAD Y A LA LUZ DEL SOL, QUE PUEDE CONTENER PIGMENTOS OPACIFICANTES PARA LA DECORACION DE SUPERFICIES DE CRISTAL, SE TRATA DE UNA SILOXANO UREA ENTRELAZADA DURA (SHORE D 84), SILOXANO ANO A LA SUPERFICIE DE CRISTAL Y RESISTENTE AL RAYADO Y A LA DELAMINACION.
POLIMERO SILOXANO QUE MUESTRA GRUPOS ALQUENIL, SU FABRICACION Y UTILIZACION.
(16/04/1997). Solicitante/s: WACKER-CHEMIE GMBH. Inventor/es: HERZIG, CHRISTIAN, DEUBZER, BERNWARD, HUETTNER, DAVID, DR.
SE DESCUBREN NUEVOS COPOLIMEROS SILOXANO QUE MUESTRAN GRUPOS ALQUENIL CONTENIENDO (A) UNIDADES SILOXANO DE LA FORMULA (B) CON LA MOLECULA QUE AL MENOS TIENE UNA UNIDAD SILOXANO DE LA FORMULA Y (C) EN CUALQUIER MOMENTO LA MOLECULA POR TERMINO MEDIO PRESENTA UNA UNIDAD AL MENOS, ELEGIDA DEL GRUPO DE UNIDADES DE LAS FORMULAS DONDE R, R1, A, A1, A2, A3, A, B, Y C TIENEN EL SIGNIFICADO DADO EN LA REIVINDICACION DE PATENTE 1.
PROCEDIMIENTO Y COMPOSICION PARA OBTENER MATERIALES RESISTENTES AL RAYADO.
(16/05/1996). Solicitante/s: FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FORDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.. Inventor/es: SCHMIDT, HELMUT, HOFMANN, KLAUS, SEIFERLING, BERNHARD, PHILIPP, GOTTFRIED, DR., KAISER, ALFRED, DR.
PARA OBTENER MATERIALES RESISTENTES AL RAYADO SE PREPARA UNA COMPOSICION QUE SE OBTIENE MEDIANTE (A) POLICONDENSAR HIDRAULICAMENTE UN COMPUESTO ALUMINICO, UN SILANO ORGANOFUNCIOANL Y UNO O VARIOS OXIDOS ORGANICOS; (B) VERTER LA POLICONDENSACION SOBRE UN SUBSTRATO PARA CONFORMAR LA COMPOSICION Y (C) ENDURECER LA COMPOSICION MEDIANTE CALENTAMIENTO.
ARTICULOS DE CUARZO O VIDRIO CON RECUBRIMIENTOS ABSORBEDORES DE RAYOS ULTRAVIOLETA DE ALTA TEMPERATURA QUE CONTIENEN CERIA.
(16/07/1995). Solicitante/s: PPG INDUSTRIES, INC.. Inventor/es: LIN, CHIA-CHENG, HUNIA, ROBERT MICHAEL, BASIL, JOHN DARVIN, BIHUNIAK, PETER PAUL.
SE MUESTRA UN RECUBRIMIENTO ABSORBEDOR DE RADIACION ULTRAVIOLETA QUE COMPRENDE OXIDO DE CERIO EN UNA MATRIZ DE OXIDO INORGANICO FORMADO POR LA HIDROLISIS Y CONDENSACION DE ALCOXISILANO Y/U OTRO OXIDO O ALCOXIDO DE METAL, QUE POSEE UN GROSOR DE RECUBRIMIENTO POR UNIDAD DE ABSORBENCIA MAYOR EN VIRTUD DE SU SUPERIOR CONCENTRACION DE PARTICULAS COLOIDALES EN DICHA MATRIZ, Y UNA TENDENCIA REDUCIDA PARA AGRIETARSE CUANDO SE EXPONE A TEMPERATURAS SUPERIORES A 1000 (GRADOS) C Y/O OSCILACION DE TEMPERATURA ENTRE TEMPERATURA AMBIENTE Y 1000 (GRADOS) C EN VIRTUD DEL CALENTAMIENTO DE UN ARTICULO RECUBIERTO A TEMPERATURA ELEVADA ENTRE 500 (GRADOS) C Y 1100 (GRADOS) C ANTES DEL ENFRIAMIENTO DEL ARTICULO RECUBIERTO. LOS SUSTRATOS DE VIDRIO O CUARZO RECUBIERTOS CON RECUBRIMIENTOS SOLGEL QUE CONTIENEN UNA ALTA CONCENTRACION DE PARTICULAS DE OXIDO DE CERIO COLOIDALES EN UNA MATRIZ DE BASE DE SILICE TIENEN UNA ALTA CAPACIDAD DE ABSORCION DE RADIACION ULTRAVIOLETA EN LA GAMA DE LONGITUD DE ONDA CORTA DE 200 A 320 NANOMETROS.
PROCEDIMIENTO PARA PRODUCIR MATERIALES CON UN REVESTIMIENTO ESTRUCTURADO.
(01/12/1994). Solicitante/s: FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FORDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.. Inventor/es: SCHMIDT, HELMUT, HORTH, FRANZ-JOSEF, HAAS, KARLHEINZ DR.
SE DESCRIBE UN PROCEDIMIENTO PARA PRODUCIR MATERIALES CON UN REVESTIMIENTO ESTRUCTURADO TRANSFORMABLE EN CERAMICA O VIDRIO. DICHO PROCEDIMIENTO CONSISTE EN (A) APLICAR SOBRE UN ELEMENTO UNA LACA; (B) ENDURECER PARTE DE LA LACA DEPOSITADA SOBRE EL SUSTRATO MEDIANTE SECADO TERMICO Y RADIACION, EN LA QUE ZONAS PREDETERMINADAS DE LACAS SE EXPONEN A RADIACIONES TERMICAS Y (C) ELIMINAR PARTES NO ENDURECIDAS DE LAS LACAS. ASI MISMO EL INVENTO TRATA DE UNA LACA PARA SU APLICACION EN PROCEDIMIENTOS SEMEJANTES. LAS LACAS SE OBTIENEN A TRAVES DE POLICONDENSACION ELECTROLITICA DE COMPUESTOS CERAMICOS Y/O DE VIDRIO UTILIZADOS EN UN 25% MOLAR Y SON COMPUESTOS MONOMEROS A BASE DE SILICIO Y DE FORMULA R'SIR3. SIENDO R' UN GRUPO POLIMERIZABLE A TRAVES DE RADIACION TERMICA HIDROLIESTABLE Y R IGUAL O DIFERENTE AL ANTERIOR UN GRUPO OH Y/O GRUPO HIDROILO.