CIP-2021 : H05H 1/46 : utilizando campos electromagnéticos aplicados, p. ej. energía a alta frecuencia o en forma de microondas (H05H 1/26 tiene prioridad).

CIP-2021HH05H05HH05H 1/00H05H 1/46[2] › utilizando campos electromagnéticos aplicados, p. ej. energía a alta frecuencia o en forma de microondas (H05H 1/26 tiene prioridad).

H ELECTRICIDAD.

H05 TECNICAS ELECTRICAS NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR.

H05H TECNICA DEL PLASMA (tubos de haz iónico H01J 27/00; generadores magnetohidrodinámicos H02K 44/08; producción de rayos X utilizando la generación de un plasma H05G 2/00 ); PRODUCCION DE PARTICULAS ACELERADAS ELECTRICAMENTE CARGADAS O DE NEUTRONES (obtención de neutrones a partir de fuentes radiactivas G21, p. ej. G21B, G21C, G21G ); PRODUCCION O ACELERACION DE HACES MOLECULARES O ATOMICOS NEUTROS (relojes atómicos G04F 5/14; dispositivos que utilizan la emisión estimulada H01S; regulación de la frecuencia por comparación con una frecuencia de referencia determinada por los niveles de energía de moléculas, de átomos o de partículas subatómicas H03L 7/26).

H05H 1/00 Producción del plasma; Manipulación del plasma (aplicación de la técnica del plasma a reactores de fusión termonuclear G21B 1/00).

H05H 1/46 · · utilizando campos electromagnéticos aplicados, p. ej. energía a alta frecuencia o en forma de microondas (H05H 1/26 tiene prioridad).

CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.

Dispositivo de generación de plasma para suprimir descargas localizadas.

(08/01/2020). Solicitante/s: Saga University. Inventor/es: MISAWA TATSUYA, HAYASHI NOBUYA.

Un dispositivo de generación de plasma que se dispone con una pluralidad de electrodos que se orientan uno frente al otro, que comprende: una unidad de control de la posición de descarga , la cual se dispone entre cada uno de la pluralidad de electrodos , y se forma mediante un contenedor formado de un material dieléctrico que se llena con un material de característica inversa compuesto de un fluido que tiene una polarizabilidad y una constante dieléctrica que disminuye con un incremento en la temperatura; en donde el material de característica inversa se separa de cada uno de la pluralidad de electrodos.

PDF original: ES-2769350_T3.pdf

Aplicador de plasma de microondas con uniformidad de potencia mejorada.

(25/12/2019) Un aparato (200,200A) para generar plasma, que comprende: un tubo de descarga de plasma (250A) sustancialmente transparente a la energía de microondas, el tubo de descarga de plasma que tiene un eje longitudinal ; una bobina conductora enrollada alrededor de una superficie externa del tubo de descarga de plasma, la bobina conductora que comprende un material eléctricamente conductor; una cavidad de microondas (252A) que rodea el tubo de descarga de plasma, una guía de ondas acoplada a la cavidad de microondas para guiar la energía de microondas hacia el tubo de descarga de plasma de manera que el plasma se genere en el tubo…

Dispositivo de plasma capilar sumergible.

(04/12/2019) Un dispositivo de plasma capilar sumergible que comprende: una unidad de fuente de alimentación configurada para suministrar una fuente de alimentación; un electrodo de descarga configurado para recibir, durante el uso, la fuente de alimentación suministrada desde la unidad de fuente de alimentación e inducir la descarga de plasma capilar dentro de un fluido ; y una unidad de suministro de gas configurada para inyectar un gas auxiliar en el fluido en el que tiene lugar la descarga de plasma capilar, durante el uso, por medio del electrodo de descarga , en el que el electrodo de descarga comprende: una punta metálica conectada eléctricamente a un terminal de salida de la unidad…

Aparato y método para generar óxido nítrico en cantidades controladas y precisas.

(04/12/2019) Un aparato para generar óxido nítrico que comprende: una cámara de reacción que contiene dos electrodos separados por un espacio; un puerto de entrada de gas para introducir un flujo de gas que contiene oxígeno y nitrógeno en dicha cámara de reacción; un circuito de control electrónico para generar una descarga eléctrica en los dos electrodos a través del flujo de gas, estando el circuito de control eléctrico configurado para controlar la frecuencia de las descargas eléctricas periódicas intermitentes y la duración del pulso de cada descarga eléctrica intermitente de la descarga eléctrica para producir una concentración de óxido nítrico en el flujo de gas, en el que dicho circuito de control electrónico está…

Sistema de conversión de gas.

(28/08/2019) Un sistema de conversión de gas que usa un plasma de microondas, que comprende: una guía de ondas de microondas para transmitir microondas a través del mismo; un tubo de flujo de gas que pasa a través de la guía de ondas de microondas y está configurado para transmitir las microondas a través del tubo de flujo de gas ; un sensor de temperatura configurado para medir una temperatura de la guía de ondas de microondas ; un primer medio de control de la temperatura para controlar una temperatura de la guía de ondas de microondas , en donde el primer medio de control de la temperatura incluye un sistema de refrigeración que usa un refrigerante; un ignitor situado junto al tubo de flujo de gas y configurado para encender un plasma en el interior…

Dispositivo para generar un plasma que presenta una extensión significativa a lo largo de un eje por resonancia ciclotrónica de electrones (RCE) a partir de un medio gaseoso.

(12/06/2019). Solicitante/s: H.E.F. Inventor/es: SCHMIDT, BEAT, HEAU, CHRISTOPHE, MAURIN-PERRIER, PHILIPPE.

Dispositivo para generar un plasma que presenta una extensión significativa a lo largo de un eje por resonancia ciclotrónica de electrones RCE a partir de un medio gaseoso y que comprende al menos dos guías de onda coaxial constituidas cada una por un conductor central y un conductor externo para llevar microondas a una cámara de tratamiento, caracterizado porque, al menos las dos guías de inyección de ondas electromagnéticas se combinan con un circuito magnético alargado en una dirección, rodeando dicho circuito magnético las guías de onda creando un campo magnético capaz de conseguir una condición de RCE en la proximidad de dichas guías de onda.

PDF original: ES-2742884_T3.pdf

Sistema de electrodo para formar una descarga de plasma de barrera dieléctrica.

(24/04/2019). Solicitante/s: CINOGY GMBH. Inventor/es: WANDKE,DIRK, HAHNL,MIRKO, TRUTWIG,LEONHARD, STORCK,KARL-OTTO.

Sistema de electrodo que incluye un electrodo y un dieléctrico para formar una descarga de plasma de barrera dieléctrica entre el electrodo alimentado con una alta tensión alterna desde un equipo de control y una superficie a tratar de un cuerpo eléctricamente conductor, cubriendo el dieléctrico por completo el electrodo hacia la superficie a tratar y constituyendo un lado de apoyo para la superficie y estando compuesto el electrodo por al menos dos electrodos parciales dispuestos a la misma distancia del lado de apoyo y uno junto a otro y aislados entre sí mediante el dieléctrico y porque los electrodos parciales contiguos son alimentados por el equipo de control con altas tensiones alternas parciales diametralmente opuestas en cuanto a la forma de la onda y a la magnitud de la tensión y que se compensan, caracterizado porque el cuerpo eléctricamente conductor sirve como electrodo de masa.

PDF original: ES-2710316_T3.pdf

DISPOSITIVO DE DEPOSICIÓN QUÍMICA DE VAPOR REMOTA ASISTIDA POR PLASMA Y MÉTODO PARA PRODUCIRLO.

(21/03/2019). Solicitante/s: CONSORCI PER A LA CONSTRUCCIÓ, EQUIPAMENT I EXPLOTACIÓ DEL LABORATORI DE LLUM DE SINCROTRÓ. Inventor/es: PELLEGRIN,Eric, GONZÁLEZ CUXART,Marc.

Dispositivo de deposición química de vapor remota asistida por plasma y método para producirlo, el cual comprende un tubo rodeado por una bobina de corriente eléctrica de radiofrecuencia para transformar un gas o gases de suministro que pasan a través de dicho tubo en plasma , incluyendo el tubo un extremo de entrada (13a) para la entrada del gas o gases de suministro. El tubo está hecho de Al2O3, un extremo (13b) de salida del tubo tiene el mismo tamaño que ei área de sección transversal del tubo , y un elemento de conexión de acero inoxidable está dispuesto en el extremo (13b) de salida del tubo , conectando dicho elemento de conexión de acero inoxidable el tubo a medios (18a) de unión del dispositivo para unir de forma amovible el extremo (13b) de salida del tubo a una cámara externa (C) en la que tiene lugar la deposición química de vapor remota asistida por plasma.

Aplicador para esterilización por plasma mediante microondas.

(31/10/2018) Un aplicador de plasma manual para un sistema de esterilizacion por plasma, comprendiendo el aplicador : una region de generacion de plasma encerrada que tiene: una entrada de gas para recibir gas procedente de una alimentacion de gas , una entrada de energia para recibir energia de microondas, y una salida para suministrar plasma fuera de la region de generacion de plasma hacia la materia a esterilizar; un conector de microondas para impulsar la potencia de microondas desde un cable de microondas a la entrada de energia; y un ajustador de impedancia dispuesto para controlar la impedancia dentro de la region de generacion…

Disposición de montaje para el tratamiento de heridas.

(29/10/2018) Disposición de montaje para el tratamiento de heridas, la cual comprende un dispositivo para la generación de un plasma (P), o un gas excitado o, respectivamente una mezcla de gases excitados, una cobertura para para la zona de la herida a tratar; una bomba ; una carcasa del dispositivo , caracterizada por el hecho de que, el dispositivo , comprende una primera línea de conducción para la conducción del plasma (P) o de la mezcla de gases excitada, desde el dispositivo a la cobertura , para la zona de la herida a tratar; una segunda línea de conducción , para la conducción del plasma…

DISPOSITIVO DE DEPOSICIÓN QUÍMICA DE VAPOR REMOTA ASISTIDA POR PLASMA Y MÉTODO PARA PRODUCIRLO.

(10/04/2018). Solicitante/s: CONSORCI PER A LA CONSTRUCCIÓ, EQUIPAMENT I EXPLOTACIÓ DEL LABORATORI DE LLUM DE SINCROTRÓ. Inventor/es: PELLEGRIN,Eric, GONZÁLEZ CUXART,Marc.

Dispositivo de deposición química de vapor remota asistida por plasma y método para producirlo, el cual comprende un tubo rodeado por una bobina de corriente eléctrica de radiofrecuencia para transformar un gas o gases de suministro que pasan a través de dicho tubo en plasma , incluyendo el tubo un extremo de entrada (13a) para la entrada del gas o gases de suministro. El tubo está hecho de Al2O3, un extremo (13b) de salida del tubo tiene el mismo tamaño que el área de sección transversal del tubo , y un elemento de conexión de acero inoxidable está dispuesto en el extremo (13b) de salida del tubo , conectando dicho elemento de conexión de acero inoxidable el tubo a medios (18a) de unión del dispositivo para unir de forma amovible el extremo (13b) de salida del tubo a una cámara externa (C) en la que tiene lugar la deposición química de vapor remota asistida por plasma.

PDF original: ES-2662939_A1.pdf

Procedimiento de tratamiento de superficie de al menos una pieza mediante fuentes elementales de plasma por resonancia ciclotrónica electrónica.

(01/02/2017). Solicitante/s: H.E.F. Inventor/es: SCHMIDT, BEAT, HEAU, CHRISTOPHE, MAURIN-PERRIER, PHILIPPE.

Procedimiento de tratamiento de superficie de al menos una pieza mediante fuentes elementales de plasma por resonancia ciclotrónica electrónica, que consiste en someter la(s) pieza(s) a al menos un movimiento de revolución con respecto a al menos una fila lineal fija de fuentes elementales , estando la o dichas filas lineales de fuentes elementales dispuesta(s) de manera paralela al eje o a los ejes de revolución de la o de las piezas, caracterizado por que la distancia Dmáx entre fuentes se determina mediante la fórmula:**Fórmula** fórmula en la que: Rmáxo es aproximadamente 5 cm, Po 2,10-3 mbar, siendo P la presión de trabajo en mbar.

PDF original: ES-2621164_T3.pdf

Sistema de generación de plasma que tiene electrodos móviles.

(05/10/2016) Un sistema de generación de plasma , que comprende: un par de electrodos (12a, 12b) que tienen extremos distales; un portaelectrodos que sostiene dicho par de electrodos (12a, 12b); una puerta (18a, 18b) que tiene una superficie sobre la que dicho soporte de electrodo está montado de forma deslizante y adaptado para ser controlado por el deslizamiento de dicho soporte de electrodo en dicha superficie; un elemento elástico (20a, 20b) fijado a dicha puerta (18a, 18b) y adaptado para generar una fuerza para cerrar una abertura definida por dicha puerta (18a, 18b), una guía de ondas que tiene una entrada de gas para recibir un gas de trabajo y adaptada para transmitir a través del mismo energía de microondas, estando dicha puerta (18a, 18b) montada de forma deslizante sobre una superficie de dicha guía de ondas…

Dispositivo y procedimiento de producción y/o de confinamiento de un plasma.

(27/07/2016). Solicitante/s: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS). Inventor/es: PELLETIER, JACQUES, LACOSTE,ANA, BECHU,STÉPHANE, BES,ALEXANDRE.

Dispositivo de producción y/o de confinamiento de un plasma , que comprende un recinto en cuyo volumen se produce y/o se confina el plasma, comprendiendo dicho recinto una pared que define una envuelta interior al recinto y que abarca el volumen, comprendiendo dicho dispositivo a continuación - por lo menos un conjunto de producción y/o de confinamiento del plasma, estando cada conjunto compuesto por imanes únicamente de dirección de imantación axial, y hundido en la pared que define la envuelta, de manera que la dirección de imantación de todos los imanes que componen cada conjunto sea sustancialmente perpendicular a la envuelta definida por la pared , estando dicho dispositivo caracterizado por que el conjunto es sustancialmente simétrico con respecto a la envuelta, no atravesando las líneas de campo magnético la pared del recinto.

PDF original: ES-2600252_T8.pdf

PDF original: ES-2600252_T3.pdf

Dispositivo y procedimiento de producción y/o de confinamiento de un plasma.

(01/06/2016). Solicitante/s: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS). Inventor/es: PELLETIER, JACQUES, LACOSTE,ANA, BECHU,STÉPHANE.

Dispositivo de producción y/o de confinamiento de un plasma , que comprende: - un recinto en cuyo volumen se produce o se confina el plasma, comprendiendo dicho recinto una pared que define una envuelta interior al recinto y que engloba el volumen, - una pluralidad de imanes anulares , centrados sobre una normal a la envuelta, de dirección de imantación radial y dispuestos en la proximidad de la pared que define la envuelta que soporta la normal, de modo que la dirección de imantación sea sustancialmente perpendicular a dicha normal a la envuelta; caracterizado por que dichos imanes anulares están dispuestos de manera no concéntrica a nivel de la pared para formar una red bidimensional o tridimensional.

PDF original: ES-2589109_T3.pdf

Fuente de plasma.

(16/12/2015) Fuente de plasma destinada al depósito de un revestimiento sobre un sustrato y apta para estar unida a una fuente de energía (P) que comprende: a) Un electrodo que delimita una cavidad de descarga que desemboca en una apertura enfrente de la cual puede estar posicionado dicho sustrato, comprendiendo la sección transversal de dicho electrodo una primera y una segunda pared lateral situadas a ambos lados de un fondo provisto de una parte central que sobresale en dicha cavidad de descarga, comprendiendo dicha parte central una primera y una segunda pared central y una punta que une las dos paredes centrales, b) un conjunto magnético situado en la periferia de dicho electrodo y que comprende un conjunto de imanes unidos entre sí por un soporte magnético , comprendiendo cada uno de dichos imanes un polo expuesto girado hacia…

REACTOR DE PLASMA PULSADO Y SU APLICACIÓN PARA LA TRANSFORMACIÓN DE HIDROCARBUROS EN GRAFENOS.

(30/04/2015). Ver ilustración. Solicitante/s: UNIVERSIDAD DE CORDOBA. Inventor/es: JIMENEZ SANCHIDRIAN, CESAR, ROMERO SALGUERO, FRANCISCO JOSE, MORA MÁRQUEZ,Manuel, VAN DIJK,Nicolaas.

La presente invención se refiere a un dispositivo generador de plasma, a un reactor de plasma que comprende un dispositivo iniciador de plasma que permite la formación de plasma con cualquier gas aplicando un potencial RF a través de un electrodo, no siendo 5 imprescindible iniciarlo con otro gas colaborador. Además, dicho plasma se emplea en la descomposición de hidrocarburos y otros compuestos para la generación de grafenos.

REACTOR DE PLASMA PULSADO Y SU APLICACIÓN PARA LA TRANSFORMACIÓN DE HIDROCARBUROS EN GRAFENOS.

(28/04/2015) La presente invención se refiere a un dispositivo generador de plasma, a un reactor de plasma que comprende un dispositivo iniciador de plasma que permite la formación de plasma con cualquier gas aplicando un potencial RF a través de un electrodo, no siendo imprescindible iniciarlo con otro gas colaborador. Además, dicho plasma se emplea en la descomposición de hidrocarburos y otros compuestos para la generación de grafenos.

Procedimiento de tratamiento de un gas y dispositivo para llevar a cabo dicho procedimiento.

(25/03/2015) Un procedimiento de tratamiento de un gas, comprendiendo el procedimiento: • emplear un tanque alargado con un espacio interior de simetría cilíndrica, en el que el tanque alargado: i) sobresale a través de una cámara de microondas, ii) la pared de la parte del tanque alargado que no está en contacto con la cámara de microondas es opaca a la radiación de microondas, iii) la pared de la parte del tanque alargado que penetra en la cámara de microondas es transparente a la radiación de microondas, iv) el tanque alargado tiene en un primer extremo del tanque un canal cilíndrico alargado coaxial de salida con un diámetro interior, D, igual o menor que un factor de 1/16 de la longitud de onda de un campo…

Dispositivo de esterilización por plasma gaseoso.

(17/12/2014) Dispositivo de esterilización por un plasma gaseoso obtenido mediante la ionización de un gas, comprendiendo dicho dispositivo una fuente de microondas de potencia nominal (Pn) determinada, que comprende un magnetrón , un circuito de alimentación, una cavidad resonante y un guiaondas , uniendo el guiaondas el magnetrón a la cavidad resonante , y recibiendo el magnetrón su energía eléctrica del circuito de alimentación, caracterizado por que el magnetrón presenta una potencia nominal de aproximadamente 800 W y necesita un pico de tensión del orden de 3 a 4 kV para el cebado, y por que el circuito de alimentación…

Procedimiento de suministro de energía a un material y dispositivo correspondiente.

(01/09/2014) Procedimiento de suministro de energía a un material y dispositivo correspondiente. Procedimiento de suministro de energía a un material que comprende las etapas de: generación de dos haces de ondas electromagnéticas de una frecuencia predeterminada, transmisión de los haces a través de una guía de ondas , donde uno de los haces se transmite en sentido opuesto al otro y desfasado 180º, generando así una onda estacionaria en su interior, y disposición del material en uno de los nodos de la onda estacionaria. El dispositivo comprende un generador de ondas que genera ambos haces, una guía de ondas con dos extremos, ambos unidos al generador, de manera que el primer y segundo haz recorren la guía en sentidos opuestos y desfasados…

REACTOR DE PLASMA.

(02/04/2012) Reactor de plasma. Se trata de un reactor de plasma que puede trabajar en un amplio rango de presión, desde el vacío y presiones reducidas hasta la presión atmosférica y presiones superiores. Adicionalmente el reactor de plasma tiene la capacidad de regular otros parámetros importantes y permite su uso para el tratamiento de muestras de tipología muy diversa, como por ejemplo las de tamaño relativamente grande o de superficie rugosa.

PROCEDIMIENTO DE PRODUCCION DE UN PLASMA ELEMENTAL CON VISTAS A CREAR UN PLASMA UNIFORME PARA UNA SUPERFICIE DE UTILIZACION Y DISPOSITIVO DE PRODUCCION DE DICHO PLASMA.

(19/05/2010) Procedimiento de producción de un plasma para una superficie de utilización (Su) con la ayuda de un dispositivo que comprende unos medios de producción de una energía en el campo de las microondas y unos medios para crear por lo menos una superficie de campo magnético constante y de intensidad correspondiente a la resonancia ciclotrónica electrónica y dispuesta por lo menos en la zona de propagación de las microondas, con vistas a la excitación del plasma, caracterizado porqué consiste: - en constituir una serie de dispositivos elementales de excitación de plasma constituidos cada uno por un aplicador filar de una energía microonda del que un extremo está conectado a una fuente de producción (E) de una energía microonda y del que el otro…

RED DE ADAPTACION DE ALTA FRECUENCIA.

(19/02/2010) Red de adaptación de alta frecuencia constituida por - un circuito primario con un condensador cualquiera y un condensador variable y una bobina con núcleo de aire de alta frecuencia así como - un circuito secundario con un condensador cualquiera , una bobina con núcleo de aire de alta frecuencia y al menos un electrodo de excitación , en la que los circuitos están acopladas entre sí a través del flujo inductivo de las bobinas con núcleo de aire de alta frecuencia , caracterizada porque el circuito primario y el secundario están acoplados adicionalmente también de forma capacitiva a través de uno o varios condensadores

DISPOSITIVO DE ACOPLAMIENTO ENTRE UNA ANTENA DE PLASMA Y UN GENERADOR DE SEÑAL DE POTENCIA.

(17/02/2010) Dispositivo de acoplamiento entre una columna de plasma que hace las veces de antena y un generador eléctrico de señal de potencia, asociado con un láser , caracterizado porque comprende al menos dos electrodos conductores perforados cada uno por un orificio , siendo estos orificios coaxiales, estando los electrodos conectados por una parte a una fuente de alta tensión continua y por otra parte a una fuente de señal alterna de potencia , estando el láser dispuesto de forma que su haz llegue según el eje de los indicados orificios de los electrodos

DISPOSITIVOS PARA CONTROLAR LA DIFERENCIA DE FASE EN SISTEMAS DE PROCESAMIENTO DE PLASMA.

(01/06/2006) LA PRESENTE INVENCION SE REFIERE A UN METODO PARA UN SISTEMA DE PROCESAMIENTO DE PLASMA, PARA MODIFICAR UNA DIFERENCIA DE FASE ENTRE UNA PRIMERA FRECUENCIA DE RADIO (RF) Y UNA SEGUNDA SEÑAL RF. UNA PRIMERA FUENTE DE ENERGIA RF PROPORCIONA LA PRIMERA SEÑAL RF AL PRIMER ELECTRODO, Y UNA SEGUNDA FUENTE DE ENERGIA RF PROPORCIONA UNA SEGUNDA SEÑAL RF A UN SEGUNDO ELECTRODO DE UN SISTEMA DE PROCESAMIENTO DE PLASMA. LA SEGUNDA FUENTE DE ENERGIA RF ESTA ACOPLADA A LA PRIMERA FUENTE DE ENERGIA RF COMO ESCLAVA EN UNA CONFIGURACION AMA-ESCLAVA. EL METODO INCLUYE UN PASO DE DETERMINACION DE UNA DIFERENCIA DE FASE ENTRE LA FASE DE LA PRIMERA SEÑAL RF Y LA DE LA SEGUNDA SEÑAL RF. EL METODO INCLUYE ADEMAS EL…

DISPOSITIVO PARA PRODUCIR PLASMAS DE MICROONDAS POTENTES.

(16/03/2005). Ver ilustración. Solicitante/s: SPITZL, RALF ASCHERMANN, BENEDIKT. Inventor/es: SPITZL, RALF, ASCHERMANN, BENEDIKT.

EN UN DISPOSITIVO PARA GENERAR PLASMAS POTENTES DE MICROONDAS SE HA CONFORMADO EL RESONADOR COMO RESONADOR AXIAL CON CONDUCTORES INTERIORES Y EXTERIORES. EL ACOPLAMIENTO DE MICROONDAS EN LA CAMARA DE PLASMA SE REALIZA A TRAVES DE DELIMITACIONES DEL RESONADOR COAXIAL.

FILTRO DE MASA PARA PLASMA.

(16/12/2004) Se presenta un filtro de masa de plasma para separar partículas de masa baja de partículas de masa alta en un plasma multiespecie, el filtro comprende una pared de forma cilíndrica que rodea una cámara hueca. Se monta un imán sobre la pared para generar un campo magnético que se alinea básicamente en paralelo con el eje longitudinal de la cámara. También se genera un campo eléctrico que es básicamente perpendicular al campo magnético y que, junto con el campo magnético, crea campos magnéticos y eléctricos cruzados en la cámara. Es importante que el campo eléctrico tenga un potencial positivo sobre el eje con relación a la pared que sea habitualmente un potencial cero. Cuando se inyecta plasma multiespecie…

DISPOSITIVO PARA PRODUCIR PLASMA MEDIANTE MICROONDAS.

(01/04/2000). Ver ilustración. Solicitante/s: SPITZL, RALF. Inventor/es: ASCHERMANN, BENEDIKT.

LA INVENCION SE REFIERE A UN DISPOSITIVO PARA GENERAR PLASMAS DE MICROONDAS CON UN GENERADOR DE MICROONDAS Y SU ACOPLAMIENTO A UN RESONADOR DE GUIA DE ONDAS , QUE COMPRENDE UNA CAMARA DE PLASMA . EL LADO CORTO DE LA SECCION DEL RESONADOR SE SITUA PARALELO AL EJE Z EN LA PARED COMUN CON LA CAMARA Y LA POTENCIA DE LAS MICROONDAS DEL RESONADOR SE MODULA MEDIANTE PUNTOS DE ACOPLAMIENTO EN ESTE LADO CORTO DE LA SECCION EN LA CAMARA . LOS PUNTOS DE ACOPLAMIENTO SE EJECUTAN CON PREFERENCIA COMO ACOPLADORES DE VENTANA AZIMUTAL EN LA PARED COMUN DE 5 Y 7.

METODO Y SISTEMA DE ELECTRODOS PARA EXCITACION DE UN PLASMA.

(01/03/2000). Solicitante/s: NKT RESEARCH CENTER A/S. Inventor/es: GLEJBOL, KRISTIAN.

UN METODO PARA LA EXCITACION DE UN PLASMA, CARACTERIZADO POR QUE COMPRENDE DE LOS PASOS DE SOMETER UN GAS A UNA CAMPO ELECTRICO GENERADO POR UN SISTEMA DE ELECTRODOS QUE COMPRENDE N ELECTRODOS, SIENDO N UN NUMERO ENTERO SUPERIOR O IGUAL A 3, PREFERENTEMENTE ENTRE 3 Y 30, ESTANDO CADA UNO DE N ELECTRODOS CONECTADOS A UNO DE LAS SIGUIENTES TENSIONES CA. DONDE F ES UNA FRECUENCIA QUE VA DE 10 A 10000 HZ, PREFERENTEMENTE 30 A 200 HZ MAS, PREFERENTEMENTE 50 A 60 HZ, U{SUB,0} ES UNA TENSION QUE VA DE 50 A 10000 V, ESTANDO AL MENOS UN ELECTRODO CONECTADO A U{SUB,R}, ESTANDO AL MENOS UN ELECTRODO CONECTADO A U{SUB,S}, Y ESTANDO AL MENOS UN ELECTRODO CONECTADO A U{SUB,T}. LA INVENCION TAMBIEN SE REFIERE A UN SISTEMA DE ELECTRODOS PARA LLEVAR A CABO EL METODO Y EL USO DEL SISTEMA DE ELECTRODOS.

APARATO PARA PRODUCIR UNA DESCARGA EN ARCO LINEAL, PARA UN TRATAMIENTO POR PLASMA.

(16/01/2000) SE PRESENTA UN APARATO PARA LA GENERACION DE UNA DESCARGA DE ARCO LINEAL PARA EL PROCESAMIENTO DE PLASMA, PARTICULARMENTE PARA EL PROCESAMIENTO SUPERFICIAL DE SUBSTRATOS SOLIDOS, INSTALADO EN UN REACTOR MANTENIDO A PRESIONES DE GAS POR DEBAJO DE 5 X 10 {SUP,4} PA Y ALIMENTADO POR UN GENERADOR DE CORRIENTE ALTERNA Y/O ENERGIA PULSANTE , Y QUE INCLUYE: AL MENOS UN PAR DE UNA PRIMERA ELECTRODOS Y SEGUNDA PLACA DE ELECTRODOS COLOCADAS DE FORMA OPUESTA ENTRE SI A UNA DISTANCIA QUE EXCEDE DE 0.4 MM Y CONECTADAS AL MISMO POLO DEL GENERADOR QUE TIENE UN POLO CONTRARIO CONECTADO A UN ELECTRODO CONTRARIO , UN CAMPO MAGNETICO PRODUCIDO POR IMANES PARA EL DESARROLLO DE UNA ZONA CALIENTE LINEAL SOBRE LA PRIMERA PLACA DE ELECTRODOS Y UNA ZONA CALIENTE LINEAL…

DISPOSITIVO DE PRODUCCION DE UN PLASMA.

(01/01/1999). Solicitante/s: ATEA SOCIETE ATLANTIQUE DE TECHNIQUES AVANCEES. Inventor/es: GOUDMAND, PIERRE, DESSAUX, ODILE, DUPRET, CHRISTIAN, HOYEZ, CHRISTOPHE.

EL DISPOSITIVO COMPRENDE UNA CAVIDAD DELIMITADA POR UNA PARED EXTERIOR METALICA Y ATRAVESADA POR UN TUBO DE DESCARGA EN EL QUE CIRCULA UN GAS PLASMAGENO, UN GENERADOR DE MICROONDAS Y MEDIOS DE TRANSPORTE DE LAS MICROONDAS ENTRE LA SALIDA DEL GENERADOR Y EL INTERIOR DE LA CAVIDAD . LOS MEDIOS DE TRANSPORTE DE LAS MICROONDAS COMPRENDEN UNA GUIA DE ONDAS Y UNA ANTENA EN FORMA DE VARILLA METALICA QUE SE EXTIENDE ENTRE EL INTERIOR DE LA GUIA DE ONDAS Y EL INTERIOR DE LA CAVIDAD . EL GAS PLASMAGENO QUE CIRCULA EN EL TUBO DE DESCARGA ESTA PREFERENTEMENTE EXPUESTO EN LAS ONDAS TRANSMITIDAS EN EL INTERIOR DE LA CAVIDAD SOBRE UNA LONGITUD A LO LARGO DEL TUBO DE DESCARGA REDUCIDA RESPECTO DE LA DIMENSION DE LA CAVIDAD PARALELAMENTE A LA DIRECCION DEL TUBO DE DESCARGA . UTILIZACION EN LAS APLICACIONES DE LOS PLASMAS DE FUERTE POTENCIA.

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