Proceso para deposición asistida por plasma con eliminación del tubo de substrato.

(11/05/2016) Procedimiento para fabricar un precursor para una preforma primaria para fibras ópticas por medio de un proceso de deposición de plasma interno, cuyo procedimiento comprende las etapas de: i) proporcionar un tubo de substrato hueco; ii) crear en el interior de dicho tubo de substrato hueco una primera zona de reacción de plasma que tiene primeras condiciones de reacción por medio de radiación electromagnética para efectuar la deposición de capas de sílice sin vitrificar sobre la superficie interna de dicho tubo de substrato hueco, y posteriormente; iii) crear en el interior de dicho tubo de substrato hueco una segunda zona de reacción de plasma que tiene segundas condiciones de reacción por medio de radiación electromagnética para…