CIP 2015 : C23C 16/00 : Revestimiento químico por descomposición de compuestos gaseosos,

no quedando productos de reacción del material de la superficie en el revestimiento, es decir, procesos de deposición química en fase vapor (pulverización catódica reactiva o evaporación reactiva en vacío C23C 14/00).

CIP2015CC23C23CC23C 16/00[m] › Revestimiento químico por descomposición de compuestos gaseosos, no quedando productos de reacción del material de la superficie en el revestimiento, es decir, procesos de deposición química en fase vapor (pulverización catódica reactiva o evaporación reactiva en vacío C23C 14/00).

Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA
Notas[g] desde C23C 16/00 hasta C23C 20/00: Deposición química o revestimiento por descomposición; Deposición por contacto

C23C 16/01 · sobre sustratos temporales, p. ej., sobre sustratos que posteriormente se eliminan por ataque químico.

C23C 16/02 · Pretratamiento del material a revestir (C23C 16/04 tiene prioridad).

C23C 16/04 · Revestimiento de partes determinadas de la superficie, p. ej. por medio de máscaras.

C23C 16/06 · caracterizado por la deposición de un material metálico.

C23C 16/08 · · a partir de haluros metálicos.

C23C 16/10 · · · Deposición solamente de cromo.

C23C 16/12 · · · Deposición solamente de aluminio.

C23C 16/14 · · · Deposición de solo otro elemento metálico.

C23C 16/16 · · a partir de carbonilos metálicos.

C23C 16/18 · · a partir de compuestos organometálicos.

C23C 16/20 · · · Deposición solamente de aluminio.

C23C 16/22 · caracterizado por la deposición de materiales inorgánicos, distintos de los materiales metálicos.

C23C 16/24 · · Deposición solamente de silicio.

C23C 16/26 · · Deposición solamente de carbono.

C23C 16/27 · · · solamente diamante.

C23C 16/28 · · Deposición de solo otro elemento no metálico.

C23C 16/30 · · Deposición de compuestos, de mezclas o de soluciones sólidas, p. ej. boruros, carburos, nitruros.

C23C 16/32 · · · Carburos.

C23C 16/34 · · · Nitruros.

C23C 16/36 · · · Carbo-nitruros.

C23C 16/38 · · · Boruros.

C23C 16/40 · · · Oxidos.

C23C 16/42 · · · Siliciuros.

C23C 16/44 · caracterizado por el proceso de revestimiento (C23C 16/04 tiene prioridad).

C23C 16/442 · · utilizando procesos en lechos fluidizados.

C23C 16/448 · · caracterizado por el proceso utilizado para producir corrientes de gases reactivos, p. ej. materiales precursores.

C23C 16/452 · · · por activación de corriente de gases reactivos antes de la introducción en la cámara de reacción, p. ej. por ionización o por adición de especies reactivas.

C23C 16/453 · · haciendo pasar los gases de reacción a través de quemadores o de antorchas, p. ej. CVD a presión atmosférica (C23C 16/513 tiene prioridad; para la pulverización de material de revestimiento en estado fundido con ayuda de una llama o de un plasma C23C 4/00).

C23C 16/455 · · caracterizado por el proceso utilizado para introducir gases en la cámara de reacción o para modificar las corrientes de gas en la cámara a reacción.

C23C 16/458 · · caracterizado por el proceso utilizado para mantener el sustrato en la cámara de reacción.

C23C 16/46 · · por la forma de calentar el sustrato (C23C 16/48, C23C 16/50 tienen prioridad).

C23C 16/48 · · por irradiación, p. ej. por fotolisis, radiolisis o radiación corpuscular.

C23C 16/50 · · por medio de descargas eléctricas.

C23C 16/503 · · · utilizando descargas con corriente continua o alterna.

C23C 16/505 · · · utilizando descargas con radiofrecuencia.

C23C 16/507 · · · · utilizando electrodos externos, p. ej. en reactores de tipo túnel.

C23C 16/509 · · · · utilizando electrodos internos.

C23C 16/511 · · · utilizando descargas con microondas.

C23C 16/513 · · · utilizando chorros de plasma.

C23C 16/515 · · · utilizando descargas impulsadas.

C23C 16/517 · · · utilizando una combinación de descargas cubiertas por varios de los grupos C23C 16/503 - C23C 16/515.

C23C 16/52 · · Control o regulacción del proceso de deposición (control o regulación en general G05).

C23C 16/54 · · Aparatos especialmente adaptados para el revestimiento en continuo.

C23C 16/56 · Tratamiento posterior.

CIP2015: Invenciones publicadas en esta sección.

Procedimiento para el suministro de corriente a un reactor.

(11/05/2016) Procedimiento para el suministro de corriente a un reactor en el que uno o varios electrodos conducidos a través de una pared del reactor de una red de energía eléctrica aislada galvánicamente contra el contacto a tierra están unidos respectivamente a un elemento eléctricamente conductor, con lo que se aplica una tensión de servicio en el al menos un elemento eléctricamente conductor y la corriente eléctrica pasa por el mismo, encontrándose entre la pared del reactor y el electrodo respectivamente una junta de un material eléctricamente aislante, insertándose en al menos una de estas juntas un núcleo de impermeabilización eléctricamente conductor, conectándose este núcleo de impermeabilización eléctricamente conductor a un equipo de control de aislamiento o a una red de tensión…

Procedimiento para la preparación de una capa barrera dieléctrica de óxido de silicio (SiOx) y capa así preparada.

(27/03/2015) Procedimiento para la preparación de una capa barrera dieléctrica de óxido de silicio (SiOx) sobre un sustrato, para lo cual se realiza, una vez limpiado el sustrato, una deposición de una capa de SiOx por la técnica de PECVD y otra deposición de SiOx por el método sol-gel. La composición de recubrimiento (sol) utilizada en la etapa sol-gel es preparada a partir de los siguientes componentes: MTES, entre 30 y 50% en peso; TEOS, entre 7% y 12% en peso; N, N' -DMS, entre 11 y 19% en peso; PEG, entre 19 y 31% en peso; agua destilada, entre 7 y 12% en peso y acido ortofosfórico, entre 0,6% y 0,9% en peso. Una vez preparada la composición de recubrimiento, se deposita y se densifica para formar la capa de óxido correspondiente.

DLC hidrófilo sobre sustrato con tratamiento de pirólisis de descarga de barrera.

(18/10/2013) Un método de fabricación de un artículo recubierto, el método comprendiendo: el depósito una capa que comprende carbono tipo diamante (DLC) sobre un sustrato; después de dicho depósito, el sometimiento de la capa que comprende DLC a un tratamientode descarga de barrera en una atmósfera que contiene oxígeno con el fin de reducir unángulo de contacto θ de la capa que comprende DLC en el cual el tratamiento de descarga debarrera comprende la proporción de un primer electrodo por encima del sustrato y un segundoelectrodo por debajo del sustrato de modo que el sustrato esté entre los electrodos primero ysegundo, en el cual dichos electrodos están cubiertos con un dieléctrico en sus lados estandoorientados hacia el sustrato, y provocando que se genere un plasma entre los electrodosprimero y segundo, en el cual el plasma está al menos parcialmente…

Fuente de iones con hueco en el electrodo.

(08/10/2013) Una fuente de iones capaz de emitir un haz de iones, comprendiendo: un ánodo y un cátodo , teniendo uno del ánodo y cátodo una brecha dedescarga definida en el mismo y teniendo el otro del ánodo y cátodo un hueco definido en el mismo en una ubicación cercana a la brecha de descarga , teniendo elhueco una pared de base (25a) y primera y segunda pared lateral (25b);al menos un imán capaz de generar un campo magnético cerca de la brecha dedescarga ; y un suministro de energía en comunicación eléctrica con el ánodo y/o el cátodo ,caracterizado porque el hueco tiene una profundidad de 2,5 a 10 mm y una anchura…

Método de fabricación de un artículo de vidrio recubierto resistente al rayado que incluye capa(s) resistente(s) a agente(s) de grabado a base de fluoruro, utilizando deposición química de vapor por combustión.

(14/08/2013) Un método de fabricación de un artículo recubierto, el método que consiste en: producir un sustrato de vidrio; utilizar pirólisis de llama para depositar al menos una capa sobre el sustrato de vidrio;y formar una capa antigrabado encima del sustrato de vidrio sobre la capa depositadapor pirólisis de llama, en la que la pirólisis de llama se utiliza para depositar una capaque comprende óxido de silicio sobre el sustrato de vidrio, y en la que la pirólisis dellama utiliza gas TEOS que se introduce al menos en un quemador para depositar lacapa que comprende óxido de silicio y donde el artículo recubierto es una ventana, enla que la capa antigrabado comprende oxicarburo de circonio.

REVESTIMIENTO DE CAPA DE BARRERA Y PROCEDIMIENTO DE FABRICACIÓN.

(12/07/2012). Ver ilustración. Solicitante/s: ASOCIACION DE LA INDUSTRIA NAVARRA AIN. Inventor/es: BELLIDO-GONZALEZ, VICTOR, GARCIA FUENTES,GONZALO, GARCIA LORENTE,JOSE ANTONIO, RODRÍGEZ TRÍAS,Rafael.

Revestimiento de capa de barrera y procedimiento de fabricación, para recubrir un sustrato base , comprendiendo dicha capa de barrera un grupo de, al menos, una capa inorgánica (2a) y una capa polimérica , donde una capa de interfase rica en metal (2ay) está dispuesta entre la capa inorgánica (2a) y la capa polimérica.

Sustratos revestidos con subcapas de revestimiento que presentan actividad fotocatalítica mejorada.

(11/04/2012) Un sustrato revestido que comprende: un sustrato de vidrio; una subcapa de revestimiento que comprende por lo menos una capa seleccionada de entre(a) una mezcla de sílice y óxido de circonio que comprende del 60 al 95% en volumen de sílice ydel 40 al 5% en volumen de óxido de circonio y con un espesor en el intervalo de 10 nm a 150 nm; (b) una mezcla de sílice y alúmina que comprende del 50 al 99% en volumen de sílice y del 50 al1% en volumen de alúmina y con un espesor en el intervalo de 10 nm a 150 nm; o (c) una mezcla de sílice, alúmina y óxido de titanio que comprende del 30 al 80% en volumen desílice, del 1 al 15% en volumen de alúmina y del 69 al 5% en volumen de óxido de titanio y con unespesor en el intervalo de 10 nm a 150 nm, que cubre por lo menos una parte del sustrato;…

LAMINA CON RECUBRIMIENTO DE BRONCE METALICO DE PLATINO, PROCEDIMIENTODE OBTENCION Y SUS APLICACIONES.

(25/11/2010) Lámina con recubrimiento de bronce metálico de platino, procedimiento de obtención y sus aplicaciones.La producción de los bronces metálicos del platino requiere de procedimientos químicos costosos que conducen a la producción de cantidades reducidas de estos compuestos y mezclas. La actual invención proporciona una lámina con recubrimiento de bronce metálico de platino y método para sintetizar estos compuestos, así como, para depositar estas mezclas en superficies grandes en forma de recubrimiento con un alto grado de especificidad, siendo este un factor determinante en aplicaciones concretas. El modo de obtención de los recubrimientos consiste en la reducción térmica parcial del dióxido de platino en atmósfera libre, acompañado de una difusión…

ENDOPROTESIS CON UNA CAPA DE PLATA GALVANIZADA.

(16/05/2007). Solicitante/s: IMPLANTCAST GMBH. Inventor/es: GOSHEGER, GEORG, SASS, JENS.

Endoprótesis para reemplazo de huesos, que comprende una estructura de soporte metálica constituida por una aleación de fundición o forjable, caracterizada porque por lo menos una parte de la superficie se ha plateado por electrodeposicón y porque, por debajo de la capa de plata, está prevista una capa de adhesión, que preferentemente comprende oro, no estando expuesto el oro en la superficie de la endoprótesis para reemplazo de huesos.

REVESTIMIENTOS DE POLIMEROS.

(01/04/2007). Solicitante/s: MICROCOATING TECHNOLOGIES, INC. Inventor/es: DESHPANDE, GIRISH, HUNT, ANDREW, TYE, SHANMUGHAM, SUBRAMANIAM, YURTKURAN, ERIC, J., POLLEY, TODD, OLJACA, MIODRAG, HWANG, TZYY-JIUAN, JAN, PODA, AIMEE, NEUMAN, GEORGE, ANDREW.

Un método para depositar un revestimiento de polímero en la superficie de un substrato que consiste de: el abastecimiento de un líquido que es una dispersión o una solución de dicho polímero en un medio líquido, formando un aerosol finamente atomizado del dicho líquido y aplicando el dicho aerosol a la superficie del dicho substrato para revestir dicha superficie con el dicho líquido y aplicando sustancialmente simultáneamente una fuente de gas caliente a la superficie revestida para quitar el dicho medio líquido de la superficie.

TRATAMIENTO DE DESACIDIFICACION DE MATERIALES CELULOSICOS IMPRESOS.

(16/03/2004). Ver ilustración. Solicitante/s: SMITH, RICHARD DANIEL. Inventor/es: SMITH, RICHARD DANIEL.

Una composición para desacidificar un material celulósico impreso que comprende en solución: 0, 1-4% en peso de al menos uno de un carbonato de magnesio orgánico, un carbonato de aluminio orgánico, y un carbonato de zinc orgánico; 0-10% en peso de un alcohol C1-C4 que tiene un contenido de humedad menor que 100 ppm; y 86 - 99% en peso de un disolvente que tiene un contenido de humedad menor que 100 ppm, que comprende un hidrocarburo alifático y/o un hidrofluorocarbono.

PROCEDIMIENTO Y APARATO PARA LA PREPARACION DE CAPAS Y RECUBRIMIENTOS POR MEDIO DE DEPOSICION QUIMICA EN FASE DE VAPOR ASISTIDA POR COMBUSTION.

(01/11/2003). Solicitante/s: GEORGIA TECH RESEARCH CORPORATION. Inventor/es: HUNT, ANDREW T., COCHRAN, JOE K., CARTER, WILLIAM BRENT.

SE PRESENTA UN METODO PARA APLICAR REVESTIMIENTOS A SUBSTRATOS UTILIZANDO DEPOSICION DE VAPOR QUIMICO DE COMBUSTION MEZCLANDO ENTRE SI UN REAGENTE Y UNA SOLUCION PORTADORA PARA FORMAR UNA MEZCLA DE REAGENTES. ENCENDIENDO LA MEZCLA DE REAGENTES PARA CREAR UNA LLAMA O HACIENDO FLUIR LA MEZCLA DE REAGENTES A TRAVES DE UNA ANTORCHA DE PLASMA, EN LA CUAL EL REAGENTE SE VAPORIZA AL MENOS PARCIALMENTE EN UNA FASE DE VAPOR, Y PONIENDO EN CONTACTO LA BASE DE VAPOR DEL REAGENTE CON UN SUBSTRATO RESULTANDO LA DEPOSICION, AL MENOS EN PARTE DESDE LA FASE DE VAPOR, DE UN REVESTIMIENTO DEL REAGENTE QUE PUEDE CONTROLARSE DE MANERA QUE TENGA UNA ORIENTACION PREFERIDA SOBRE EL SUBSTRATO, TAMBIEN SE PRESENTA UN APARATO PARA LLEVAR A CABO EL METODO. LA FIGURA MUESTRA UN ESQUEMA DE UN APARATO CCVD EN DONDE EL SUBSTRATO PUEDE COLOCARSE DENTRO DE UNA REGION DE REDUCCION DEL SEPARADOR DE SMITHELL ENTRE LA LLAMA INTERNA (18A) Y LA LLAMA EXTERIOR (18B).

SISTEMA DE HORNO DE DIFUSION HORIZONTAL Y ALTO RENDIMIENTO.

(16/09/2003). Solicitante/s: THERMTEC, INC. Inventor/es: PECK, KEVIN, B., ERICKSON, RONALD, E., MATTHEWS, STEPHEN, H.

LA EJECUCION DE UN HORNO DE DIFUSION DE ALTA TEMPERATURA ES MEJORADA POR UN DISEÑO DE MODULO MULTI HORNO. EL HORNO ESTA CONSTRUIDO DE MATERIALES ADECUADOS PARA ENTORNOS DE CUARTO LIMPIO CON UNA JUNTA DE ARMAZON DE NIVELACION AJUSTABLE. UNA JUNTA EXTERNA LATERAL Y MECANISMO DE ALINEAMIENTO DE ELEMENTO CALENTADOR DE MODULOS DE TUBO DE HORNO INDIVIDUAL CON UN MECANISMO DE ELEVACION DE ELEMENTO CALENTADOR PERMITE MANTENIMIENTO MEJORADO. LA EJECUCION DEL TRATAMIENTO DE CALOR ES MEJORADA POR UN ELEMENTO CALENTADOR SELLADO CON SISTEMA DE REFRIGERACION DE MODULO DE HORNO INDIVIDUAL. ACOPLAMIENTO TERMICO MEJORADO ESTA COLOCADO PARA MEJORAR EL CONTROL DE PROCESO DE TRATAMIENTO DE CALOR Y EL MANTENIMIENTO DEL ELEMENTO DE CALENTAMIENTO.

PRODUCCION DE PELICULAS DE BARRERA REVESTIDAS CON CARBONO QUE TIENEN UNA CONCENTRACION AUMENTADA DE CARBONO CON COORDINACION TETRAEDRICA.

(01/12/2001). Solicitante/s: MOBIL OIL CORPORATION. Inventor/es: WAGNER, JOHN RALPH, JR.

SE DEPOSITA CARBONO SOBRE UN SUSTRATO A TRAVES DE DEPOSICION DE VAPOR QUIMICO MEJORADO DE PLASMA DE UN PROCESADOR QUE SE PUEDE DESCOMPONER QUE CONTIENE UN ADITIVO DE MATERIAL DE SEMILLAS. EL MATERIAL DE SEMILLA ES UN HIDROCARBURO QUE TIENE UNA ALTA CONCENTRACION DE CARBONO SP{SUP,3} COORDINADO EN FORMA DE TETRAEDRO. EL MATERIAL DE SEMILLA PROPORCIONA UNA MUESTRA PARA LA REPLICACION DE LOS ATOMOS DE CARBONO SP{SUP,3} COORDINADOS EN FORMA DE TETRAEDRO EN EL REVESTIMIENTO DE CARBONO AMORFO DEPOSITADO.

METODO DE RECUBRIMIENTO DE CRISTAL Y CRISTAL RECUBIERTO CON EL MISMO.

(01/11/2001). Solicitante/s: LIBBY-OWENS-FORD CO. Inventor/es: SOUBEYRAND, MICHEL, J.

SE PRESENTA UN SUBSTRATO DE CRISTAL SE RECUBRE MEDIANTE CVD CON UN REVESTIMIENTO ESTRATIFICADO QUE COMPRENDE CAPAS DE BASE, INTERMEDIAS Y SUPERIORES (58, 60, Y 62), RESPECTIVAMENTE, EN DONDE LAS CAPAS SON SILICE, OXIDO DE METAL, NITRURO DE METAL, CARBURO DE METAL Y COMPLEJO DE SILICE, ETC. EN EL CVD DEL REVESTIMIENTO QUE CONTIENE SILICE SOBRE EL SUBSTRATO DE METAL SE COMBINA SILANO, OXIGENO, UN GAS DEPURADOR DE RADICALES TAL COMO EL ETILENO Y UN GAS PORTADOR COMO MEZCLA PRECURSORA.

APARATO Y PROCEDIMIENTO PARA LA DESCARGA DE REACTIVOS NO VOLATILES.

(16/06/1998) SE PRESENTA UN PROCESO Y UN APARATO PARA SUMINISTRAR UN MATERIAL REAGENTE DE UNA FUENTE DE SOLIDO NO VOLATIL QUE TIENE UNA PRESION DE VAPOR INFERIOR A ALREDEDOR DE 0.1 TORR EN CONDICIONES DE 25 (GRADOS) C Y UNA ATMOSFERA DE PRESION, Y QUE ES TERMICAMENTE ESTABLE A SU TEMPERATURA DE VAPORIZACION, COMO VAPOR DEL MATERIAL REAGENTE DE LA FUENTE EN UN REACTOR CVD QUE COMPRENDA UNA ZONA DE VAPORIZACION Y UNA ESTRUCTURA DE MATRIZ DE VAPORIZACION PARA VAPORIZAR POR DESTELLO EL MATERIAL REAGENTE DE LA FUENTE DE SOLIDO NO VOLATIL. LA INVENCION ES PARTICULARMENTE UTIL PARA EL SUMINISTRO DE REAGENTES DE GRUPO II Y DE COMPUESTOS Y COMPLEJOS DE METALES DE BAJA TRANSICION TALES COMO EL ZIRCONIO Y EL HAFNIO, Y PUEDE…

APARATO DE PROCESAMIENTO EN VACIO, TENIENDO RENDIMIENTO PERFECCIONADO.

(16/10/1996) EL DESCUBRIMIENTO SE REFIERE A UN METODO PARA DEPOSITAR PELICULAS FINAS SOBRE SUSTRATOS DE VIDRIO MEDIANTE DEPOSICION UNICA DE SUSTRATOS, COMPRENDIENDO LA CARGA DE UN LOTE DE SUSTRATOS EN UNA CAMARA DE CIERRE DE CARGA Y EVACUANDO LA CAMARA, TRANSFIRIENDO LOS SUSTRATOS A UNA CAMARA DE CALENTAMIENTO DE LOTES PARA CALENTAR LOS SUSTRATOS A TEMPERATURAS ELEVADAS; TRANSFIRIENDO LOS SUSTRATOS DE VIDRIO DE UNO EN UNO A UNA O MAS CAMARAS DE PROCESAMIENTO DE SUSTRATOS UNICOS Y TRANSFIRIENDO SECUENCIALMENTE LOS SUSTRATOS DE RETORNO A LA CAMARA DE CIERRE DE CARGA, DONDE SON ENFRIADOS EN LOTES. EL DESCUBRIMIENTO TAMBIEN SE REFIERE A UN SISTEMA DE VACIO PARA REALIZAR EL METODO, E INCLUYE UNA CAMARA DE ENFRIAMIENTO/CIERRE DE CARGAS (14A, 14B) PARA EVACUAR UNA PLURALIDAD DE SUSTRATOS DE VIDRIO; UNA CAMARA DE CALENTAMIENTO PARA CALENTAR UNA PLURALIDAD…

METODO MEJORADO PARA PRODUCIR ARTICULOS MEDIANTE DEPOSITACION DE VAPOR QUIMICO Y MANDRILES DE SOPORTE USADOS EN EL MISMO.

(01/05/1996). Solicitante/s: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Inventor/es: ANTHONY, THOMAS RICHARD, ETTINGER, ROBERT HELMUT, FLEISCHER, JAMES FULTON.

SE PRESENTA UN METODO MEJORADO PARA PRODUCIR UN TUBO DE DIAMANTE MEDIANTE DEPOSITACION QUIMICA DE VAPOR Y EL MANDRIL HUECO DE SOPORTE QUE SE USA EN EL MISMO. EL METODO COMPRENDE LA DEPOSITACION DE UNA PELICULA DE DIAMANTE SOBRE UNA CARA EXTERIOR DEL MANDRIL HUECO MEDIANTE EL PROCESO CVD. POSTERIORMENTE EL MANDRIL SE ATACA QUIMICAMENTE MEDIANTE LA EXPOSICION DEL LADO INTERNO DEL MANDRIL A LA ACCION DEL ATAQUE QUIMICO. SORPRENDENTEMENTE, SE HA COMPROBADO QUE EL TIEMPO DE ATAQUE QUIMICO SE REDUCE DE FORMA DRASTICA MEDIANTE EL USO DE MANDRILES HUECOS.

HERRAMIENTA DE DIAMANTE POLICRISTALINO Y METODO PARA PRODUCIR LA MISMA.

(01/04/1996). Solicitante/s: SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LIMITED. Inventor/es: TANABE, KEIICHIRO, FUJIMORI, NAOJI.

UN DIAMANTE POLICRISTALINO TIENE UNA CONCENTRACION DE IMPUREZAS NO UNIFORME A LO LARGO DE LA DIRECCION DE SU GROSOR. EL DIAMANTE CERCA DE LA SUPERFICIE INCLINADA TIENE UNA CONCENTRACION DE IMPUREZAS MENOR. EL DIAMENTE CERCA DE LA SUPERFICIE DE FIJACION TIENE UNA ALTA CONCENTRACION DE IMPUREZAS. EL DIAMANTE CON MAYOR CONCENTRACION DE IMPUREZAS CERCA DE LA SUPERFICIE DE FIJACION ALIVIA UNA FUERTE TENSION Y ABSORBE LOS GOLPES EXTERNOS. DEBIDO A LA MAYOR CONCENTRACION DE IMPUREZAS DEL DIAMANTE CERCA DE LA SUPERFICIE DE FIJACION, LA HERRAMIENTA DE DIAMANTE PRESENTA GRAN DUREZA Y UNA ALTA RESISTENCIA AL DESCASCARILLAMIENTO . EL DIAMANTE CON UNA ALTA CONCENTRACION DE IMPUREZAS CERCA DE LA SUPERFICIE INCLINADA ELEVA SU RESISTENCIA A LA ABRASION, SU RESISTENCIA A LA ADHESION Y SU FUERZA.

PROCESO PARA LA FABRICACION DE UNA LAMINA METALIZADA DE FILM-FIBRA PLEXIFILAMENTARIA DE POLIETILENO.

(16/03/1996). Solicitante/s: E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY. Inventor/es: LEE, CHI-CHANG, JONES, DAVID CHARLES.

ESTA INVENCION SE REFIERE A UN PROCESO PARA LA FABRICACION DE UNA LAMINA ESPECULAR METALIZADA, ALTAMENTE SATINADA, DE FILM-FIBRA PLEXIFILAMENTARIA DE POLIETILENO, CON MUY BAJA EMISION, QUE SE REALIZA MEDIANTE EL PROCESO DE CALDEADO DE UNA LAMINA DE FILM-FIBRA DE POLIETILENO QUE PASA ENTRE UN RODILLO MULLIDO METALICO Y OTRO RODILLO RESISTENTE, PARA FORMAR UNA LAMINA ESPECULAR ALTAMENTE SATINADA, SEGUIDA POR LA METALIZACION AL VACIO DE LA SUPERFICIE ALTAMENTE SATINADA. DICHAS HOJAS METALIZADAS SON UTILES COMO BARRERAS A LA RADIACION O REVESTIMIENTO DE TEJADOS PARA EL AHORRO DE ENERGIA.

DISPOSITIVO DE FABRICACION DE PREFORMAS PARA FIBRAS OPTICAS.

(01/01/1993). Solicitante/s: ETAT FRANCAIS REPRESENTE PAR LE MINISTRE DES POSTES, TELECOMMUNICATIONS ET DE L'ESPACE. Inventor/es: CHOLLET, PATRICK, SAADA, SERGE, MOISAN, MONIQUE, PAVY, DOMINIQUE, DAVOUST, MARIE-EVE.

SE PONE EN MARCHA LA TECNICA DE DEPOSITO QUIMICO EN FASE VAPOR USANDO UN PLASMA MANTENIDO POR ONDAS DE SUPERFICIE EN UN TUBO DESTINADO A LA OBTENCION DE UNA PREFORMA Y COMPRENDE MEDIOS DE FOTODETECCION SENSIBLES A LA LUZ EMITIDA POR LA ZONA DE DEPOSITO DEL REVESTIMIENTO VIDRIADO RESULTANDO DE LA REACCION ENTRE COMPUESTOS GASEOSOS ADECUADOS, Y APTOS PARA PROPORCIONAR INFORMACIONES RELATIVAS A LA ZONA DE EMISION DE ESTA LUZ, Y MEDIOS DE REGULACION DEL DESPLAZAMIENTO DE LA ZONA DE DEPOSITO, SIENDO EL DESPLAZAMIENTO TAL QUE EL ESPESOR DEL REVESTIMIENTO SEA UNIFORME EN EL TUBO, PIDIENDO ESTOS MEDIOS DE REGULACION LA POTENCIA DEL GENERADOR DE MICROONDAS DEL DISPOSITIVO EN FUNCION DE DICHAS INFORMACIONES. APLICACION AL CAMPO DE LAS TELECOMUNICACIONES.

VIGA DISTRIBUIDORA PARA DEPOSICION DE VAPOR QUIMICO SOBRE VIDRIO.

(16/07/1989). Ver ilustración. Solicitante/s: LIBBEY-OWENS-FORD CO.. Inventor/es: GREENBERG, WILLIAM M., BAUMAN, RANDALL L., MAAS, DENNIS G.

UNA VIGA DISTRIBUIDORA PARA DEPOSITAR MATERIAL DE REVESTIMIENTO SOBRE LA SUPERFICIE DE UNA LAMINA DE VIDRIO INCLUYE UNA CAMARA IMPELENTE DIVIDIDA POR UN TABIQUE PARA SEPARAR DIFERENTES GASES DE REVESTIMIENTO. SALIDAS PARA LOS GASES ESTAN CONECTADAS A UNA ENTRADA A UNA CAMARA DE MEZCLADO PARA SEPARAR Y DIRIGIR DE NUEVO EL FLUJO DE LOS GASES A FIN DE MEZCLARLO A FONDO EN FORMA DE UN MATERIAL DE REVESTIMIENTO. UN DEFLECTOR DE DEDO QUE TIENE DOS GRUPOS DE ELEMENTOS DE DEDO EXTERNOS SE EXTIENDE A TRAVES DE LA ANCHURA DE LA CAMARA DE MEZCLADO. CADA ELEMENTO DE DEDO TIENE UN EXTREMO MAS PROXIMO DE LA SALIDA DE LA CAMARA IMPELENTE QUE DE UN EXTREMO OPUESTO. LA CAMARA IMPELENTE ESTA RODEADA POR UN CONDUCTO DE FLUIDO DE ENFRIAMIENTO, Y ESTAN PREVISTOS ELEMENTOS DE CALENTAMIENTO PARA CONTROL DE LA TEMPERATURA.

"UN METODO DE FABRICACION DE UNA PILA SOLAR".

(16/12/1983). Solicitante/s: WESTINGHOUSE ELECTRIC CORPORATION.

METODO DE FABRICACION DE UNA PILA SOLAR. SE FORMA UNA CAPA DE UN METAL M SEGUN LA REACCION (I) EN DONDE M SE SELECCIONA DEL GRUPO CONSTITUIDO POR ELEMENTOS DE LOS GRUPOS III, IV Y V DE LA TABLA PERIODICA, CADA X SE SELECCIONA INDEPENDIENTEMENTE DEL GRUPO CONSTITUIDO POR CLORO, BROMO Y YODO, R SE SELECCIONA DEL GRUPO CONSTITUIDO POR HIDROGENO Y LOS ELEMENTOS DE LOS GRUPOS I Y II DE LA TABLA PERIODICA HASTA NUMERO ATOMICO 30, N ES LA VALENCIA DE M Y M ES N/VALENCIA DE R, CALENTANDO UN SUSTRATO HASTA UNA TEMPERATURA ALTA PARA VAPORIZAR EL MRXN/M, SIENDO CALENTADO DICHO MR SOBRE UNA CARA DEL SUSTRATO, QUE ES PERMEABLE A DICHO MR LO SUFICIENTE PARA QUE ESTE SE DIFUNDA A TRAVES DE DICHO SUSTRATO, QUE ES INERTE PARA LOS REACTIVOS, Y SEPARANDO DICHO SUSTRATO INERTE DE DICHO MXN, PARA POR ULTIMO CALENTAR ESTE SOBRE LA OTRA CARA DE DICHO SUSTRATO LO SUFICIENTE PARA VAPORIZARLO.