CIP 2015 : C23C 14/50 : Portasustrato.

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Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA

C SECCION C — QUIMICA; METALURGIA.

C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.

C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (aplicación de líquidos o de otros materiales fluidos sobre las superficies, en general B05; fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; mecanizado del metal por acción de una fuerte concentración de corriente eléctrica sobre un objeto por medio de un electrodo B23H; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; pinturas, barnices, lacas C09D; esmaltado o vidriado de metales C23D; medios para impedir la corrosión de materiales metálicos, las incrustaciones, en general C23F; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D, C25F; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04; detalles de aparatos de sonda de barrido, en general G01Q; fabricación de dispositivos semiconductores H01L; fabricación de circuitos impresos H05K).

C23C 14/00 Revestimiento por evaporación en vacío, pulverización catódica o implantación de iones del material que constituye el revestimiento (tubos de descarga provistos de medios que permiten la introducción de objetos o de un material para ser expuestos a la descarga H01J 37/00).

C23C 14/50 · · Portasustrato.

CIP2015: Invenciones publicadas en esta sección.

Aparato de procesamiento PVD y método de procesamiento PVD.

(08/05/2019) Un aparato de procesamiento PVD para realizar la formación de revestimiento sobre superficies respectivas de una pluralidad de sustratos (W), el aparato de procesamiento PVD comprendiendo: una cámara de vacío conteniendo en su interior la pluralidad de sustratos (W); una mesa giratoria provista en la cámara de vacío y configurada para soportar la pluralidad de sustratos (W) y para hacer girar los sustratos soportados (W) alrededor de un eje de revolución ; una pluralidad de mesas rotatorias configuradas para soportar los sustratos respectivos (W) de la pluralidad de sustratos (W) y rotar los sustratos soportados (W), sobre la mesa giratoria , sobre sus respectivos ejes de rotación paralelos al…

Accesorios que comprenden medios magnéticos para sostener piezas de trabajo simétricas rotatorias.

(12/03/2019) Un sistema de accesorio que comprende varias partes, siendo al menos una de las partes una pieza de sujeción para sujetar una pieza de trabajo que comprende sustancias ferromagnéticas, comprendiendo dicha pieza de trabajo un cuerpo con dos extremos y exhibiendo a lo largo de un eje giratorio una forma simétrica con una dimensión radial y con superficies que pueden tratarse por medio de un proceso de tratamiento de vacío asistido por plasma, comprendiendo dicha parte de retención medios magnéticos que generan un campo magnético con una fuerza magnética en la dirección del eje rotatorio que es lo suficientemente alta para sostener la pieza de trabajo si la pieza de trabajo se coloca en una…

Herramientas de alto rendimiento que exhiben desgaste del cráter reducido en particular por las operaciones de maquinado en seco.

(28/02/2019) Sistema de recubrimiento depositado sobre una superficie de un sustrato que comprende al menos una película de varias capas formada de nanocapas A y B alternadas depositadas una sobre otra, en el que las nanocapas A contienen nitruro de boro aluminio y cromo y las nanocapas B contienen nitruro de aluminio y cromo, pero no contienen boro, caracterizado porque las nanocapas A tienen una región con el mayor contenido de boro y una región con un menor contenido de boro, en el que la región que tiene menor contenido de boro es la región adyacente a las nanocapas B, en la que la suma del espesor de una nanocapa A y el espesor de una nanocapa B depositadas una sobre otra en la película de varias capas…

Dispositivo de soporte para sustratos, así como procedimiento para el revestimiento de un sustrato.

(27/02/2019) Dispositivo de soporte para sustratos a revestir que comprende un dispositivo de apoyo para el sustrato a revestir, que presenta una cara delantera configurada de forma plana para el apoyo del sustrato , así como una cara trasera enfrentada a la cara delantera con una cara delantera configurada de forma plana para el apoyo del sustrato, así como una cara trasera enfrentada a la cara delantera, en donde está presente al menos una abertura pasante, que une las dos caras del dispositivo de apoyo , a través de la cual es posible una regulación de la presión de gas que reina en la cara del sustrato , caracterizado por que el dispositivo de apoyo está delimitado por al menos dos elementos de soporte dispuestos de manera enfrentada, en donde los elementos de soporte están formados…

Procedimiento para la aplicación de capas delgadas sobre sustratos y dispositivo de producción para ello.

(13/02/2019) Procedimiento para la aplicación de capas delgadas sobre sustratos, según el cual - los sustratos se disponen sobre soportes de sustratos , que están instalados respectivamente en un carro y están montados de modo que circulan a través de las cámaras de proceso en un orden determinado, y - los soportes de sustratos se conducen a través de las cámaras de proceso según el orden, en donde se realiza el revestimiento en las cámaras de proceso con ayuda de dispositivos de proceso incorporados en ellas, y - en donde los soportes de sustratos están configurados en forma de tambores giratorios, - en donde los tambores giratorios se conducen a este respecto a través de campos de tratamiento de los dispositivos de proceso en paralelo al eje de giro de los tambores de giro y durante el paso a través de las cámaras de proceso se giran con…

Dispositivo de sujeción para el tratamiento de superficies de cuchillas de barras.

(25/09/2018). Solicitante/s: Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon. Inventor/es: VOGEL,REMO, STEWART,ROBERT EUGENE, LAFORCE,PHILLIP J.

Dispositivo de sujeción con cuchillas de barras para la fijación de cuchillas de barras para el recubrimiento de sus aristas cortantes, estando configurada la fijación de tal modo que varias cuchillas de barras pueden colocarse en fila de modo que sus superficies cortantes y puntas presenten la misma orientación, y el dispositivo de sujeción comprende un blindaje, que protege las superficies cortantes al menos parcialmente del recubrimiento, caracterizado por que en el caso de las cuchillas de barras colocadas en fila de la manera descrita el borde1 superior del blindaje supera en altura las puntas de cuchilla en un modo que no sobresale ninguna punta de cuchilla, estando distanciado el blindaje de las superficies cortantes.

PDF original: ES-2683231_T3.pdf

Soporte para revestimiento de cabezal de taladro.

(08/03/2017) Soporte para sustentar taladros en una instalación de revestimiento, con una primera pared perforada con primeros orificios y una segunda pared perforada, separada con respecto a la primera pared, con segundos orificios o hendiduras, que están armonizados con respecto a los primeros orificios, de manera tal que los taladros pueden introducirse de manera correspondiente en los primeros orificios y los mismos taladros puedan introducirse simultáneamente en los segundos orificios o hendiduras comprendiendo el soporte por lo menos una tercera pared separada con respecto a la segunda pared, que es adecuada para…

Aparato para recubrimiento de placas de impresión calcográfica.

(14/12/2016) Un aparato para recubrimiento de placas de impresión calcográfica que comprende: - una cámara de vacío que posee un espacio interno adaptado para recibir al menos una placa de impresión calcográfica que va a ser recubierta; - un sistema de vacío acoplado a la cámara de vacío y que está adaptado para crear vacío en el espacio interno de la cámara de vacío; y - un sistema de deposición física de vapor (PVD) adaptado para llevar a cabo la deposición de material de recubrimiento resistente al desgaste bajo condiciones de vacío sobre una superficie (10a) grabada de la placa de impresión calcográfica, de manera que el sistema de deposición física de vapor incluye al menos un blanco de material de recubrimiento que comprende una fuente del material de recubrimiento resistente al desgaste que va…

Aparato para recubrimiento de placas de impresión calcográfica.

(27/07/2016) Un aparato para recubrimiento de placas de impresión calcográfica que comprende: - una cámara de vacío que posee un espacio interno adaptado para recibir al menos una placa de impresión calcográfica que va a ser recubierta; - un sistema de vacío acoplado a la cámara de vacío y que está adaptado para crear vacío en el espacio interno de la cámara de vacío; y - un sistema de deposición en fase de vapor (PVD) adaptado para llevar a cabo la deposición de material de recubrimiento resistente al desgaste bajo condiciones de vacío sobre una superficie (10a) grabada de la placa de impresión calcográfica, de manera que el sistema de deposición en fase de vapor incluye al menos un blanco…

Dispositivo de deposición y método de deposición que usa el mismo.

(13/04/2016) Un dispositivo de deposición que realiza un tratamiento de deposición mientras se enfrían las piezas de trabajo (W), comprendiendo el dispositivo de deposición : una cámara que tiene un espacio (2e) en el que se acomodan las piezas de trabajo (W) y en el que se realiza el tratamiento de deposición de las piezas de trabajo (W); una unidad de enfriamiento que enfría las piezas de trabajo (W) dentro del espacio (2e); una mesa giratoria que gira alrededor de un eje vertical (C) en un estado en el que las piezas de trabajo (W) están colocadas sobre la misma y que tiene una porción de colocación de la unidad de enfriamiento configurada para permitir que la unidad de enfriamiento se coloque sobre la misma y porciones de colocación de las piezas de trabajo que están dispuestas para rodear la periferia de la porción de colocación …

Sistema de administración de fármacos y procedimiento de fabricación del mismo.

(23/02/2016) Procedimiento de producción de un sistema de administración de fármacos, que comprende las etapas de: (a) seleccionar una primera sustancia de fármaco; (b) depositar la primera sustancia farmacológica sobre al menos una zona de la superficie de un producto sanitario a fin de formar una primera capa de fármaco depositado; (c) formar un primer haz de iones de clúster de gas en una cámara de vacío; (d) posicionar al menos una zona de la superficie del producto sanitario en la cámara de vacío para irradiación mediante el primer haz de iones de clúster de gas; (e) irradiar la primera capa de fármaco depositado…

Carro con carrusel para instalaciones de tratamiento al vacío.

(22/12/2015). Ver ilustración. Solicitante/s: Oerlikon Surface Solutions AG, Trübbach. Inventor/es: GWEHENBERGER,JUERGEN.

Instalación de tratamiento al vacío con una cámara de vacío y un carro de carrusel con un carrusel , donde la cámara de vacío presenta una compuerta y un propulsor del carrusel, caracterizada por que el propulsor del carrusel es un propulsor periférico, que se ha previsto en la cámara de vacío en la pared de la cámara de vacío y/o en la proximidad de la pared opuesta a la compuerta de la cámara de vacío.

PDF original: ES-2554683_T3.pdf

Un revestimiento solar selectivo híbrido multicapa para aplicaciones solares térmicas a alta temperatura y un proceso para la preparación del mismo.

(16/12/2015). Solicitante/s: COUNCIL OF SCIENTIFIC AND INDUSTRIAL RESEARCH. Inventor/es: CHANDRA,HARISH BARSHILIA, BASU,JYOTHI BHARATHIBAI, VARA,LAKSHMI RAMACHANDRAPPA.

Un revestimiento solar selectivo híbrido multicapa que comprende una pila en tándem de capas que contienen una capa intermedia de cromo/titanio, una primera capa absorbente de aluminio-nitruro de titanio (AlTiN), una segunda capa absorbente de aluminio-oxinitruro de titanio (AlTiON), una capa antirreflectante de aluminio-óxido de titanio (AlTiO) y una capa barrera de sílice modificada orgánicamente (ormosil), en el que dicho revestimiento exhibe resistencia térmica hasta 500°C en aire y hasta 600°C en vacío con una relación de selectividad solar de 5 a 9.

PDF original: ES-2631680_T3.pdf

Instalación de recubrimiento en vacío en-línea.

(20/05/2015) Instalación de recubrimiento en vacío en-línea con una cámara de recubrimiento en vacío con al menos una unidad de recubrimiento así como con un carro desplazable a través de la cámara de recubrimiento en vacío para el alojamiento de sustratos en forma de tubo giratorios alrededor de su eje longitudinal, caracterizada por un árbol dentado giratorio instalado fijo estacionario y conectado con un accionamiento giratorio y por medio de una rueda dentada que se puede llevar a engrane con el árbol dentado y que está alojada de forma giratoria en el carro , cuya rueda dentada es desplazable cargada por resorte en contra de la dirección de la marcha del carro longitudinalmente en una extensión predeterminada.

Portapiezas de trabajo.

(08/04/2015) Portapiezas de trabajo para un sistema de revestimiento, que comprende una base y un barra anclada o montada en la misma y una pluralidad de discos que se suceden a lo largo de la barra y pueden rotar respecto a la base y que en cada caso están provistos de una pluralidad de soportes distribuidos en la circunferencia del disco , inclinados hacia fuera oblicuamente, separados de la barra , y destinados a una pieza de trabajo , caracterizado porque dicho portapiezas tiene una envoltura que rodea la barra y los discos y deja libres grupos de aberturas que están distribuidas en la circunferencia y separadas en cada caso por almas, a través de cuyas aberturas sobresalen en cada caso los soportes que pertenecen a uno de los discos , y que se compone de una pluralidad de anillos que se…

Manipulador para el posicionamiento dinámico de un sustrato, procedimiento de recubrimiento así como utilización de un manipulador.

(28/05/2014) Manipulador de componentes para el posicionamiento dinámico de un sustrato que debe tratarse en un proceso de tratamiento térmico, en el que el manipulador de componentes comprende un eje de accionamiento principal giratorio alrededor de un eje de giro principal , un elemento de acoplamiento y un soporte del sustrato , que se puede conectar con el elemento de acoplamiento , caracterizado porque el elemento de acoplamiento es un elemento de acoplamiento cerámico y un segmento de conexión del soporte del sustrato está dispuesto de manera que se puede conectar por medio de una conexión giratoria de enchufe de forma fija contra tracción…

Dispositivos de soporte de sustratos.

(26/03/2013) Dispositivo de soporte de sustrato, que comprende: un marco que presenta una cara posterior y por lo menos una abertura pasante , estando dichaabertura adaptada para soportar el borde de un sustrato colocado sobre la abertura por la cara posterior de dichomarco; caracterizado porque presenta: un conjunto de grapa elástica compuesta destinado a proporcionar una fuerza para forzar el sustrato contra el marco, que incluye: un resorte de lámina , que presenta una constante de resorte de lámina, con un extremo sujetado y unextremo en voladizo, estando dicho resorte de lámina adaptado para proporcionar una fuerza de sujeción desustrato en un sustrato en contacto con el extremo en voladizo, un brazo de palanca que sobresale alejándose del marco, un elemento de soporte de grapa que conecta el brazo de palanca al extremo sujetado,…

Método para depositar un material.

(19/04/2012) Método para depositar un material de una diana sobre una superficie de una muestra, método que comprende las etapas de: - Irradiar una superficie de la diana con un rayo láser o de electrones para generar un penacho de partículas del material diana; - Posicionar la muestra cerca del penacho, tal que las partículas del material diana se depositen sobre la superficie de la muestra; - Hacer girar la muestra alrededor de un eje de rotación que es perpendicular a la superficie de la muestra sobre las cual se depositan las partículas; - Mover el rayo láser o de electrones a lo largo de la superficie de la diana, tal que el penacho se mueva en una dirección…

METODO DE DEPOSICION DE PELICULA Y APARATO DE DEPOSICION DE PELICULA.

(16/11/2006) Método de deposición de película para formar una película esparciendo un material de deposición desde una superficie de un material seleccionado y depositando el material de deposición esparcido sobre una superficie de un sustrato , comprendiendo el método: - una fase que consiste en disponer dicho sustrato y dicho material seleccionado de manera que la superficie de dicho sustrato forme ángulo con la superficie del material seleccionado ; y - una fase de deposición que consiste en formar dicha película sobre dicho sustrato de manera que el área de la superficie de dicha película aumenta continuamente en dirección bidimensional, mientras que al mismo tiempo la posición relativa de dicho sustrato se desplaza…

APARATO DE ROTACION PLANETARIA IMPULSADO POR GAS Y METODOS PARA FORMAR CAPAS DE CARBURO DE SILICIO.

(16/10/2006). Solicitante/s: CREE, INC.. Inventor/es: PAISLEY, MICHAEL, JAMES, SUMAKERIS, JOSEPH, JOHN.

Aparato de rotación impulsado por gas para su uso con un flujo de gas impulsor, comprendiendo el aparato: a) un elemento de base que tiene una superficie (151A) superior; b) un plato principal que recubre la superficie superior del elemento de base; y c) un plato satélite que recubre el plato principal; d) en el que el aparato está adaptado para dirigir el flujo de gas impulsor entre la superficie (151A) superior del elemento de base y el plato principal, de tal manera que el plato principal se haga rotar con respecto al elemento de base mediante el flujo del gas impulsor; y dirigir al menos una parte del flujo de gas impulsor desde entre la superficie superior del elemento de base y el plato principal hasta entre el plato principal y el plato satélite, de tal manera que el plato satélite se haga rotar con respecto al plato principal mediante al menos una parte del flujo de gas impulsor.

APARATO PARA RECUBRIR OBJETOS POR PVD.

(16/04/2004) Aparato para aplicar al menos un revestimiento a objetos por medio de deposición en fase vapor (PVD) al vacío, que comprende: – un dispositivo de PVD para revestir el objeto al vacío; – al menos una cámara intermedia que separa el dispositivo de PVD del ambiente; – un dispositivo de transporte que se extiende a través del dispositivo de PVD y hacia dentro de la cámara intermedia; – en el que el dispositivo de transporte está destinado a transportar objetos dispuestos sobre portadores; – el dispositivo de PVD está destinado a tratamiento semicontinuo de objetos dispuestos sobre los portadores; – un dispositivo de pretratamiento para realizar un pretratamiento en el objeto; – un dispositivo de postratamiento para postratar los objetos;…

INSTALACION DE RECUBRIMIENTO A VACIO Y DISPOSICION DE ACOPLAMIENTO Y PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE PIEZAS DE TRABAJO.

(16/06/2003) Instalación de recubrimiento a vacío con al menos: - una cámara de distribución central que se puede evacuar con una disposición de transporte de piezas de trabajo accionada controlada esencialmente a lo largo de un plano; - al menos una cámara de control para las cámaras de distribución así como al menos dos cámaras de tratamiento para producto a tratar, cuyas al menos tres cámaras se comunican a través de aberturas de control con la cámara de distribución, a través de cuyas aberturas se pueden transportar piezas de trabajo desde una cámara a la otra por medio de la disposición de transporte, caracterizada porque - están presentes soportes de piezas…

PROCEDIMIENTO PARA MEJORAR EL COMPORTAMIENTO REFRACTARIO DE ACEROS INOXIDABLES.

(01/07/2001). Solicitante/s: UNIVERSIDAD DE SEVILLA, VICERRECTORADO DE INVESTIGACION. Inventor/es: ODRIOZOLA GORDON,JOSE ANTONIO, PAUL ESCOLANO,ANTONIO.

Procedimiento para mejorar el comportamiento refractario de aceros inoxidables. La presente invención se refiere a un procedimiento para mejorar el comportamiento refractario de aceros inoxidables mediante la modificación superficial de dicho acero por adición de lantánidos, con o sin oxidación previa, por el que se consiguen mejoras de la reistencia a la oxidación en aire a temperaturas superiores a 650ºC. El procedimiento consiste en la adición de lantánidos a la superficie de aceros y consta de las siguiente etapas: - Atomización de una salde lantánidos mediante ondas ultrasónicas. - Arrastre de las microgotas atomizadas en la etapa anterior mediante un flujo de gas portador. - Evaporación del solvente y deposición de la sal de lantánidos sobre el acero inoxidable mediante calentamiento en horno de las microgotas atomizadas y arrastradas con el gas portador.

METODO Y APARATO PARA TRATAMIENTO GASEOSO.

(16/10/2000). Solicitante/s: NOVARTIS AG NOVARTIS-ERFINDUNGEN VERWALTUNGSGESELLSCHAFT M.B.H.. Inventor/es: WINTERTON, LYNN, COOK, GRANT, TIMOTHY JAMES.

UN DISPOSITIVO DE FIJACION Y UN METODO PARA TRATAR UN ARTICULO EN UNA ATMOSFERA GASEOSA, DE MANERA UNIFORME Y EFICIENTE. EL DISPOSITIVO DE FIJACION PROPORCIONA UNA SERIE DE ZONAS DE SOPORTE DE PUNTOS DE CONTACTO (1B), PARA SUJETAR EL ARTICULO DURANTE EL TRATAMIENTO. EL DISPOSITIVO DE FIJACION Y EL METODO DE TRATAMIENTO, SON ESPECIALMENTE UTILES EN EL TRATAMIENTO CON PLASMA DE LENTES DE CONTACTO, PARA MEJORAR LA BIOCOMPATIBILIDAD E HIDROFILIA SUPERFICIALES.

PROCEDIMIENTO PARA EL RECUBRIMIENTO DE SUBSTRATOS.

(01/02/1995) DISPOSITIVO (FIGURA 2) PARA EL RECUBRIMIENTO DE SUBSTRATOS (31, 31', ...) EN UNA CAMARA DE VACIO CON UN PORTASUBSTRATOS ALOJADO EN ELLA, CON UN DISPOSITIVO PARA GENERAR UNA NUBE DE PLASMA Y CON IMANES , QUE DESVIAN LA NUBE DE PLASMA HACIA LA SUPERFICIE DE LOS SUBSTRATOS (31, 31', ...). EL DISPOSITIVO PARA GENERAR LA NUBE DE PLASMA POSEE UN EMISOR DE ELECTRONES CON UN ANODO TUBULAR SITUADO DETRAS PROVISTO DE UNA ENTRADA PARA EL GAS DE PROCESO PARA LA IGNICION DEL PLASMA. PARA LA ORIENTACION Y LA CONDUCCION DEL PLASMA A TRAVES DEL ANODO TUBULAR HACIA LA CAMARA DE PROCESO SE PREVEN IMANES . EN LA…

DISPOSITIVO PARA SUJETAR Y GIRAR LENTES EN UNA INSTALACION DE METALIZACION A ALTO VACIO O RAPIDA, PARA CUBRIR GAFAS DE LENTES DE CRISTAL.

(01/12/1993) EL INVENTO SE REFIERE A UN DISPOSITIVO PARA SUJETAR Y GIRAR LENTES EN UNA INSTALACION DE METALIZACION A ALTO VACIO O RAPIDA PARA CUBRIR GAFAS DE LENTES DE CRISTAL. EL INVENTO SE CARACTERIZA PORQUE EL DISPOSITIVO, DISPONE DE UN PAR DE ANILLOS QUE SOPORTAN LA LENTE A SUJETAR Y SE ALOJAN EN UN SUJETADOR EN FORMA DE SUSTRATO, QUE ESTA SITUADO EN LA CAMARA DE PROCESO DE LA INSTALACION A ALTO VACIO. EL DISPOSITIVO TIENE UNAS PIEZAS DE CHAPA QUE SE CONFORMAN A MODO DE SEMI CARCASA, FORMAN EL SUJETADOR QUE TIENE FORMA DE SUSTRATO Y GIRA ALREDEDOR DE UN EJE (33, 33') VERTICAL Y SE SOLAPAN A PARTIR DE CORTE DE CHAPA EN FORMA DE HOZ, PARA CONFORMAR UN RASTRILLO . EL RASTRILLO SE MANTIENE Y SE GUIA A PARTIR DE UN MANGUITO QUE SE DESPLAZA EN DIRECCION DEL EJE (33, 33') DE ROTACION Y DE UN MIEMBRO ELEVADOR…

SUJETADOR DE LENTES EN INSTALACIONES DE METALIZACION A ALTO VACIO O RAPIDA, PARA RECUBRIR GAFAS DE LENTES DE CRISTAL.

(01/12/1993). Solicitante/s: LEYBOLD AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: KLINGENSTEIN, DIETER, KUNKEL, GEORG, MAHR, HEINZ, FLIEDNER, MICHAEL.

EL INVENTO SE REFIERE A UN SUJETADOR DE LENTES EN INSTALACIONES DE METALIZACION A ALTO VACIO O RAPIDA, PARA CUBRIR GAFAS DE LENTES DE CRISTAL. DICHO INVENTO SE CARACTERIZA PORQUE: EL SUJETADOR DE LENTES SE CONFORMA COMO UN ANILLO PARA SOPORTAR LA LENTE A SUJETAR Y SE UNE CON UN FIJADOR DE LENTES EN FORMA DE SUSTRATO; EL FIJADOR SE MANTIENE DENTRO DE LA CAMARA DE PROCESO DE LA INSTALACION A ALTO VACIO, EN LA POSICION MAS CERCANA A LA FUENTE DE RECUBRIMIENTO Y COLOCA LA LENTE ESTRE DOS ANILLOS QUE SON ARRIOSTRADOS EN SENTIDO OPUESTO POR MUELLE EN FORMA DE ALAMBRES; EL PRIMER ANILLO ESTA EQUIPADO EN SU CUBIERTA EXTERIOR CON RAMPAS QUE COOPERAN CONJUNTAMENTE CON LOS MUELLES EN FORMA DE ALAMBRE Y SE FIJAN EN LA CUBIERTA RADIAL EXTERIOR DEL SEGUNDO ANILLO , Y UNO DE LOS ANILLOS PRESENTA EN LA CUBIERTA RADIAL EXTERIOR DOS PIVOTES DIAMETRALMENTE OPUESTOS, PARA APOYAR EL FIJADOR EN FORMA DE SUSTRATO EN LAS CORRESPONDIENTES HORQUILLAS QUE GIRAN CASI 180.

MATERIAL BASICO SEMICONDUCTOR.

(01/07/1989). Ver ilustración. Solicitante/s: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: SCHULTE, ROLF, KAMMERMAIER, JOHANN, DR.

NUEVO MATERIAL BASICO SEMICONDUCTOR. EL NUEVO MATERIAL BASICO SEMICONDUCTOR SE DEBERA PODER OBTENER SEGUN LA TECNOLOGIA DE CAPA DELGADA EMPLEANDO PROCESOS DE BANDA Y PRESENTAR UNA MOTILIDAD DE LOS PORTADORES DE CARGA DE COMO MINIMO 1 C.

PERFECCIONAMIENTOS INTRODUCIDOS EN UN APARATO PARA DEPOSITAR UNA PELICULA DELGADA DE MATERIAL DE RECUBRIMIENTO SOBRE PIEZAS DE TRABAJO.

(01/03/1977). Solicitante/s: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION.

Resumen no disponible.

 

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