(22/04/2020) Proceso para depositar un revestimiento en un sustrato de vidrio, dicho proceso estando caracterizado porque comprende las siguientes etapas sucesivas: a) pasar dicho sustrato a través de un dispositivo para deposición al vacío por pulverización catódica, b) introducir un gas en dicho dispositivo para deposición al vacío y generar un plasma a partir de dicho gas, c) co-pulverización simultáneamente, en una y la misma cámara del dispositivo para deposición al vacío, - de un primer componente hecho de un material que consiste en un óxido, un nitruro o un oxinitruro de un primer elemento y - de un segundo componente que consiste en la forma…

(12/02/2020) Un aparato de recubrimiento para aplicar un recubrimiento en recipientes de vidrio con un compuesto químico que comprende: una carcasa con un túnel de recubrimiento una cinta transportadora que mueve los recipientes a través del túnel de recubrimiento desde la entrada a la salida de dicho túnel de recubrimiento al menos un circuito para la circulación de un compuesto de recubrimiento y al menos una placa de guía, caracterizado por que dicha placa de guía está situada en un compartimento entre la pared lateral interior del aparato de recubrimiento y la pared exterior y dicho compartimento comprende la placa de guía, una placa de fijación con medios de fijación, un orificio de succión y una salida y caracterizado por que la…

(09/09/2019) Procedimiento de producción de películas de óxidos, de nitruros o de oxinitruros de metales o semi-conductores sobre un sustrato, mediante el método de PECVD que comprende las etapas que consisten en: a) proveerse de un dispositivo de PECVD, a baja presión, que comprende al menos una fuente de doble haz lineal de plasma, la cual comprende al menos dos electrodos unidos a un generador AC o DC pulsado, para el depósito de dichas películas sobre el sustrato, b) aplicar una potencia eléctrica entre los dos electrones de tal manera que la densidad de potencia del plasma esté comprendida entre 5 y 50 W por cm2 de plasma, y, c) aplicar sobre el sustrato un precursor gaseoso…

(05/06/2019) Un método para depositar una capa protectora sobre un sustrato, en donde: el revestimiento protector comprende (i) una capa de barrera contra la humedad que está en contacto con el sustrato y que comprende una primera subcapa, opcionalmente una o más subcapas intermedias, y una subcapa final, (ii) una capa protectora mecánica que es inorgánica, y (iii) una capa de gradiente intercalada entre la capa de barrera contra la humedad y la capa protectora mecánica; y el método comprende: (a) depositar la primera subcapa de la capa de barrera contra la humedad sobre el sustrato mediante deposición de plasma de una mezcla precursora (X) que comprende un compuesto de organosilicio,…

(30/05/2019) Una herramienta de corte recubierta que consiste en un sustrato de carburo cementado, cermet, cerámica, acero o nitruro de boro cúbico y un revestimiento de capas múltiples resistente al desgaste depositado por deposición química de vapor (CVD) y que tiene un espesor total de 4 a 25 μm. en el que el recubrimiento resistente al desgaste de múltiples capas que comprende una capa de TiAICN (a) representada por la fórmula general Ti1-xAlxCyNz con 0.2 ≤ x ≤ 0.97, 0 ≤ y ≤ 0.25 y 0.7 ≤ z ≤ 1.15 depositados por CVD, y Una capa de κ-Al2O3 (b) de óxido de aluminio kappa depositada por CVD inmediatamente encima de la capa TiAICN (a), y en la que la capa Ti1-xAlxCyNz (a) tiene una…

(03/04/2019) Una herramienta de corte recubierta que comprende un substrato recubierto con un recubrimiento que comprende una capa de α-Al2O3, en donde dicha capa de α-Al2O3 muestra un coeficiente de textura TC(hkl), medido por difracción de rayos-X utilizando radiación CuKα y escaneo θ-2θ, definido según la fórmula de Harris**Fórmula** Donde I(hkl) es la intensidad medida (área integrada) de la reflexión (hkl), I0(hkl) es el intensidad estándar según la tarjeta PDF de ICDD n° 00-010-0173, n es el número de reflexiones utilizadas en el cálculo, y donde las reflexiones (hkl) utilizadas son , , , , , , y caracterizadas en que TC ≥ 7,2, preferiblemente ≥ 7,4, más preferiblemente ≥ 7,5, más preferiblemente ≥ 7,6, lo más preferiblemente ≥ 7,7, y en 10 donde la relación de l /I ≥ 1, preferiblemente…

(29/03/2019) Un sustrato revestido que comprende: un sustrato; una primera capa sobre al menos una porción del sustrato, comprendiendo la primera capa: - un polímero seleccionado del grupo que consiste en un acrílico, un epoxi, un poliuretano, un copolímero de los mismos y una mezcla de los mismos y - un aditivo seleccionado del grupo que consiste en un absorbente de luz ultravioleta (UV), un estabilizante de UV y una mezcla de los mismos; una segunda capa sobre al menos una porción de la primera capa, comprendiendo la segunda capa: un polímero de polisiloxano, un polímero de poliuretano, un polímero epoxi, un copolímero de los mismos o una mezcla de los mismos y teniendo una dureza más alta que aquella de la primera capa; y una tercera capa sobre al menos una porción de la segunda capa,…

(27/03/2019) Un sistema que comprende: (a) un recipiente , del cual al menos una porción de la superficie de la pared interior se va a revestir, que comprende un extremo abierto , un segundo extremo en posición opuesta al extremo abierto , y una pared que se extiende entre ambos, teniendo la pared una superficie de la pared exterior y una superficie de la pared interior , y teniendo el recipiente una cámara dentro de un área definida por la superficie de la pared interior entre el extremo abierto y el segundo 10 extremo del recipiente, en el que la cámara está sellada del exterior del recipiente , y el recipiente actúa como su propia cámara de vacío; (b) una fuente de suministro de gas monomérico que contiene al menos un gas monomérico ; (c) un conducto de entrada de gas colocado en el extremo abierto…

(30/10/2018) Quemador para su uso en la deposición de combustión que deposita un recubrimiento sobre un sustrato, que comprende: colectores de gas de combustión espaciados primero y segundo (202a, 202b) configurados para producir respectivamente llamas primera y segunda (204a, 204b), formando los colectores de gas de combustión primero y segundo (202a, 202b) una zona de reacción del precursor entre ellos; y un colector de suministro de precursor verticalmente ajustable situado entre los colectores de gas de combustión primero y segundo (202a, 202b) configurados para recibir un precursor usado en la formación del recubrimiento, estando el colector de suministro de precursor posicionado para proporcionar de manera sustancialmente directa…

(02/05/2018) Un sistema de deposición por combustión remota para su uso en la deposición, mediante deposición por combustión, de un revestimiento sobre un sustrato , que comprende: un quemador de infrarrojos (IR) que está configurado para generar una energía radiante (18') en un área entre el quemador y el sustrato ; y un dispositivo de distribución , en donde el dispositivo de distribución está dispuesto externamente con respecto al quemador, configurado para proporcionar una corriente que comprende un precursor vaporizado y un gas portador a partir de una ubicación que es remota con respecto a la energía radiante que es generada por el quemador de IR, estando configurado adicionalmente el dispositivo de distribución para dar lugar…

(06/12/2017) Herramienta de corte para la elaboración de materiales mecánicos con un cuerpo metálico duro y un revestimiento multicapa aplicado en al menos una zona de superficie sobre el cuerpo metálico duro , presentando el revestimiento multicapa, en un sentido del cuerpo metálico duro a la superficie (O) de la herramienta de corte, en el siguiente orden: al menos una capa de TiCx1Ny1 con x1 + y1 ≥ 1, x1 ≥ 0, y1 > 0; al menos una capa de TiCx2Ny2Oz2 con x2 + y2 + z2 ≥ 1, 0,01 ≤ z2 ≤ 0,02 y 0,5 ≤ x2 ≤ 0,85; al menos una capa : TiN, o o TiCx31Ny31 con 0,2 ≤ x31 ≤ 0,8 y x31 + y31 ≥ 1, o TiNy32Bv32 con 0,0001 ≤ v32 ≤ 0,05 e y32 + v32 ≥ 1; …

(31/05/2017) Un método para la formación de una capa que comprende Li sobre un substrato mediante deposición de capa atómica que comprende las siguientes etapas: a) proporcionar un substrato en una cámara de reacción en la que dicha cámara de reacción se dispone para reacciones de gas a superficie, b) pulsar un precursor de litio a través de dicha cámara de reacción, c) hacer reaccionar dicho precursor de litio con por lo menos una superficie de dicho sustrato, d) purgar dicha cámara de reacción d1) al enviar un gas de purga a través de dicha cámara de reacción para purgar la cámara de reacción o d2) al evacuar dicha cámara, y e) repetir las etapas b) a d) un número de veces deseado en orden para la formación de una…

(08/03/2017) Inserto de corte de un cuerpo de sustrato de metal duro, de cermet, o de cerámica y de un revestimiento de varias capas aplicado encima por medio de un procedimiento CVD con un espesor total de la capa de 5 a 40 μm, 5 partiendo desde la superficie del sustrato presenta una o más capas de material duro, sobre las capas de material duro presenta una capa de alfa-alúmina (α-Al2 03) con un espesor de las capas de 1 a 20 μm y opcionalmente, al menos en secciones sobre la capa de α-Al2 03, presenta una o más capas adicionales de material duro como capas decorativas o capas de identificación del desgaste, caracterizado…

(12/10/2016) Procedimiento para formar una capa de óxido sobre un componente permeable constituido por un material o un apilamiento de materiales estable a 400°C, comprendiendo dicho componente una superficie externa a revestir y al menos un poro de diámetro comprendido entre 50 y 1.000 μm que desemboca en dicha superficie externa, que comprende los pasos siguientes: a) inyectar un gas portador cargado de gotitas de al menos un precursor del óxido en un plasma a baja presión dentro de un recinto de reactor de plasma que alberga el componente a revestir, e inyectar un fluido que pasa por el componente permeable y sale en estado gaseoso por dicho al menos un poro, con flujo opuesto al del gas portador en la cámara de plasma para evitar la obstrucción…

(10/08/2016) Un método de fabricación de un artículo de polímero que tiene un recubrimiento fino formado sobre al menos una de sus caras por plasma, consistiendo dicho recubrimiento en un primer recubrimiento y un segundo recubrimiento, caracterizado por que dicho método comprende sucesivamente: - un tratamiento con plasma sobre dicho artículo de polímero; - una deposición del primer recubrimiento de SiOxCyHz por generación de un plasma tanto de tetrametilsilano como de tetrametilsilano y un gas oxidante, estando la relación entre el gas oxidante y el tetrametilsilano comprendida entre cero y tres en una primera etapa para obtener dicho primer recubrimiento, de manera que el valor x…

(29/06/2016) Elemento de inserción de herramienta de corte recubierta que consiste en un sustrato de carburo cementado, cermet, materiales de cerámica, acero o nitruro de boro cúbico que tiene depositado sobre el mismo un recubrimiento con un grosor total de un máximo de 60 μm que consiste en una o más capas refractarias que comprenden una capa resistente al desgaste externa de α-Al2O3 con un grosor de 2 a 45 μm depositada mediante deposición química en fase de vapor (CVD), caracterizado porque cuando se observa en una microfotografía de SEM de una sección transversal de la capa de α-Al2O3, la capa de α-Al2O3 tiene una estructura de granos α-Al2O3 esencialmente columnar, y los límites de grano de al menos 1 de cada 25 granos de α-Al2O3, preferiblemente al menos 5 de cada 25 granos de…

(11/05/2016) Procedimiento para fabricar un precursor para una preforma primaria para fibras ópticas por medio de un proceso de deposición de plasma interno, cuyo procedimiento comprende las etapas de: i) proporcionar un tubo de substrato hueco; ii) crear en el interior de dicho tubo de substrato hueco una primera zona de reacción de plasma que tiene primeras condiciones de reacción por medio de radiación electromagnética para efectuar la deposición de capas de sílice sin vitrificar sobre la superficie interna de dicho tubo de substrato hueco, y posteriormente; iii) crear en el interior de dicho tubo de substrato hueco una segunda zona de reacción de plasma que tiene segundas condiciones de reacción por medio de radiación electromagnética para…

(30/03/2016) Un inserto para herramientas de corte, que consiste en un sustrato de carburo cementado, cermet, cerámica, acero o un material superduro tal como nitruro de boro cúbico (CBN) y un revestimiento con un grosor total de 5 a 40 μm, revestimiento que consiste en una o más capas refractarias de las que al menos una capa es una capa de α-Al2O3 que tiene un grosor de 1 a 25 μm caracterizado por que la al menos una capa de α-Al2O3 tiene un contenido de azufre de más que 100 ppm, analizado por Espectroscopía de Masas de Iones Secundarios (SIMS) y la al menos una capa de α-Al2O3 tiene un coeficiente de textura TC > 4 para la dirección de crecimiento , definiéndose el TC como sigue: (hkl) ≥ intensidad medida de la reflexión (hkl) Io (hkl) ≥ intensidad estándar…

(03/02/2016) Una herramienta de corte revestida que comprende un sustrato y un revestimiento, en la que el revestimiento comprende una capa de MTCVD TiCN, y una capa de α-Al2O3, en la que la capa de α-Al2O3 presenta un patrón de difracción de rayos X, medido usando radiación de CuKα y barrido θ-2θ, donde el coeficiente de textura TC(hkl) se define, según la fórmula de Harris**Fórmula** en la que I(hkl) ≥ intensidad medida (área integrada) de la reflexión (hkl), I0(hkl) ≥ intensidad normalizada según la PDF-card N.º 00-010-0173 de la ICDD, n ≥ número de reflexiones usadas en el cálculo, las reflexiones (hkl) usadas son , , , , , , y , y caracterizada por que el TC es mayor de 5, preferiblemente mayor de 6, lo más preferiblemente mayor de 7, y donde una anchura completa en el semimáximo (FWHM)…

(05/06/2014) Procedimiento para la preparación de una capa o multicapa barrera y/o dieléctrica sobre un sustrato y dispositivo para su realización. La presente invención se refiere a un procedimiento para la preparación de capas barrera y/o dieléctricas sobre un sustrato caracterizado por que comprende las siguientes etapas: (a) limpieza de sustratos, (b) colocación del sustrato en un portamuestras e introducción del mismo en el interior de una cámara de vacío, (c) dosificación en dicha cámara de vacío de un gas inerte y un gas reactivo, (d) inyección en la cámara de vacío de un precursor volátil que tenga al menos un catión del compuesto a depositar, (e) activación de una fuente de radiofrecuencia y activación de al menos un magnetrón, (f) descomposición del precursor volátil por plasma, produciéndose…

(11/12/2013) Un procedimiento de deposición de un revestimiento sobre un sustrato por medio de una técnica dedeposición química de vapor asistida por llama, en el que el sustrato se expone a una llama producida por unquemador , al tiempo que se añade un flujo de elementos de precursor a dicha llama, y en el que el sustrato sesomete a un movimiento relativo con respecto a dicho quemador, en el que el sustrato comprende su superficie oconsiste en un material termo sensible, en el que la deposición del revestimiento tiene lugar en dos o más etapas dedeposición sobre un sustrato opcionalmente pre-calentado, consistiendo cada etapa de deposición en un número depases posteriores…

(13/08/2013) Un metodo para formar un revestimiento en un sustrato de vidrio usando una deposicion por combustion, metodo que comprende: proporcionar un sustrato de vidrio que tiene al menos una superficie que ha de revestirse; elegir un reactivo, reactivo que se elige de forma que al menos una parte del reactivo se usa en la formacion del revestimiento; introducir un primer precursor para quemarse con una primera llama; quemar al menos una parte del reactivo y del primer precursor para formar un primer material quemado, primer material quemado que comprende material no vaporizado; proporcionar el sustrato de vidrio en una primera…

(29/04/2013) Una herramienta de corte con la superficie revestida, que se forma revistiendo una superficie de un sustrato de herramienta hecho de carburo cementado basado en carburo de wolframio o cermet basado en carbonitruro de titanio con una capa de revestimiento dura que incluye las siguientes capas superior e inferior (a) y (b) por depósito de vapor: (a) como capa inferior, una capa de compuesto de titanio que tiene una o varias de las siguientes capas, capa de carburo de titanio, capa de nitruro de titanio, capa de carbonitruro de titanio, capa de carbóxido de titanio y capa de oxicarbonitruro de titanio con un espesor total de capa medio de 3 a 20 m, y (b) como capa superior, una capa de óxido de aluminio que tiene una estructura cristalina de tipo y que contiene Zr con un espesor de capa medio de…

(11/04/2012) Un sustrato revestido que comprende: un sustrato de vidrio; una subcapa de revestimiento que comprende por lo menos una capa seleccionada de entre(a) una mezcla de sílice y óxido de circonio que comprende del 60 al 95% en volumen de sílice ydel 40 al 5% en volumen de óxido de circonio y con un espesor en el intervalo de 10 nm a 150 nm; (b) una mezcla de sílice y alúmina que comprende del 50 al 99% en volumen de sílice y del 50 al1% en volumen de alúmina y con un espesor en el intervalo de 10 nm a 150 nm; o (c) una mezcla de sílice, alúmina y óxido de titanio que comprende del 30 al 80% en volumen desílice, del 1 al 15% en volumen de alúmina y del 69 al 5% en volumen de óxido de titanio y con unespesor en el intervalo de 10 nm a 150 nm, que cubre por lo menos una parte del sustrato;…