(16/04/2006). Solicitante/s: DSM N.V.. Inventor/es: JANSEN, JOHAN, FRANZ, GRADUS, ANTONIUS, STANSSENS, DIRK, ARMAND, WIM.

LA INVENCION SE REFIERE A UNA COMPOSICION QUE COMPRENDE MATERIAL POLIMERIZABLE Y UN FOTOCATALIZADOR ANIONICO. DICHO FOTOCATALIZADOR ES UN COMPUESTO FOTOLABIL, CAPAZ DE LIBERAR UNA BASE FUERTE CON UN PK A 12. DICHO CATALIZADOR SE PUEDE REP RESENTAR MEDIANTE LA FORMULA ESTRUCTURAL Z - A, DONDE Z ES UN GRUPO FOTOLABIL Y A ES UNA BASE FUERT, POR EJEMPLO, UN COMPUESTO QUE CONTIENE NITROGENO COMO, POR EJEMPLO, UNA AMINA SECUNDARIA, UNA GUANIDINA O AMIDINA, Y Z ESTA UNIDO COVALENTEMENTE A A.

(16/03/2005). Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Inventor/es: HUG, GEBHARD, WOLF, JEAN-PIERRE.

Monoacilalquilfosfinas organometálicas. Son compuestos correspondientes a las fórmulas I, II o III, en donde los radicales Ar, M, R6, Ax, Y1, Z1, y los radicales subordinados correspondientes se describen en la descripción y en las reivindicaciones. Se describen también procesos para la preparación de estos compuestos. Los compuestos I se usan como materiales de partida para la preparación de mono- o bisacilfosfinas, óxidos de mono- o bisacilfosfinas, o sulfuros de mono- bisacilfosfinas. Los compuestos II y III se usan como iniciadores de fotopolimerización de compuestos monoméricos no volátiles, y compuestos oligoméricos o poliméricos que tengan al menos un doble enlace etilénico insaturado.

(01/04/2004). Solicitante/s: SHIPLEY COMPANY INC.. Inventor/es: DANIELS, BRIAN KENNETH, MADOUX, DAVID CHARLES, TEMPLETON, MICHAEL KARPOVICH, TREFONAS III, PETER, WOODBREY, JAMES CALVIN, ZAMPANI, ANTHONY.

ESTA INVENCION ESTA DIRIGIDA A NUEVOS PROCEDIMENTOS Y COMPOSICIONES FOTORRESISTENTES QUE TIENEN RESINAS ALCALI-SOLUBLES DE ALTA RESOLUCION, COMPONENTES FOTOACTIVOS DE ALTA RESOLUCION CON VARIOS GRUPOS DE DIAZOQUINONA POR MOLECULA, Y DISOLVENTES QUE TIENEN UN ALTO PODER DE DISOLUCION, MEJOR SEGURIDAD, FOTOVELOCIDAD MEJORADA, CONTRASTE MAS ALTO Y GROSOR DE PELICULA FUNDIDA EQUIVALENTE A PARTIR DE FORMULACIONES DE SOLIDOS DE PORCENTAJE INFERIOR.

(01/02/2002). Solicitante/s: CIBA SPECIALITY CHEMICALS HOLDING INC. Inventor/es: DE LEO, CHRISTOPH, ASAKURA,TOSHIGAKE, BLEIER,HARTMURT.

Sulfoniloximas para fotorresistores de línea I de alta sensibilidad y altos espesores de resistencia. La invención describe una composición que puede activarse por la luz, que comprende a) un compuesto que puede reticularse con la acción de un ácido; b) un compuesto que cambia sus solubilidad bajo la acción de un ácido; y c) como fotoiniciador un compuesto que genera un ácido sulfónico bajo la exposición de luz de longitud de onda de 240 a 390 nm, y con un coeficiente de extinción {ep} inferior a la línea i(365 nm). Estas composiciones son especialmente apropiadas para la preparación de fotorresistores negativos y positivos, placas de impresión, materiales de registro de imagen o filtros de color.

(16/12/2001). Solicitante/s: CIBA SC HOLDING AG. Inventor/es: SCHULTHESS, ADRIAN, DR., STEINMANN, BETTINA, HOFMANN, MANFRED.

SE DESCRIBE UN PROCEDIMIENTO PARA ESTABILIZAR UNA COMPOSICION LIQUIDA ENDURECIBLE POR RADIACION, CONTENIENDO UN COMPUESTO CATIONICAMENTE POLIMERIZABLE, Y UN FOTOINICIADOR PARA LA POLIMERIZACION CATIONICA, CONTRA UN INICIO TEMPRANO DE LA POLIMERIZACION, HACIENDO ENTRAR EN CONTACTO UN INTERCAMBIADOR BASICO DE IONES CON LA COMPOSICION AL MENOS TEMPORALMENTE. PREFERIBLEMENT EL INTERCAMBIADOR DE IONES NO DEBE ESTAR EN CONTACTO POR LO MENOS CON LA PARTE DE LA COMPOSICION QUE SEA SENSIBLE A LAS RADIACIONES ANTES DEL COMIENZO DEL ENDURECIMIENTO POR RADIACION. EL PROCEDIMIENTO ESTA ESPECIALMENTE INDICADO PARA LA ESTABILIZACION DE BAÑOS DE ESTEREOLITOGRAFIA QUE HAN SIDO MUY UTILIZADOS, PARA EVITAR UN AUMENTO NO DESEADO DE LA VISCOSIDAD.

(16/01/2001). Ver ilustración. Solicitante/s: MORTON INTERNATIONAL, INC.. Inventor/es: KOES, THOMAS A., BELTRAMO, GRIEG B.

COMPOSICION DE UNA CAPA PROTECTORA DE LA LUZ QUE ACTUA DE POSITIVO (P.EJ. UNA PELICULA SECA EN MONOCAPA) QUE ES DESPRENDIBLE EN SOLUCION ACUOSA ALCALINA, COMPUESTA DE UN GENERADOR FOTOACIDO Y UN SISTEMA AGLUTINANTE DE RESINA TRANSPARENTE AL UV, QUE PERMITE UN FOTOBLANQUEADO EFICIENTE DEL COMPONENTE FOTOACTIVO. UNA RESINA CELULOSICA CON UN GRUPO FUNCIONAL ACIDO PUEDE SER LA UNICA RESINA AGLUTINANTE, AUNQUE OPCIONALMENTE PUEDE USARSE UNA RESINA ACRILICA ACIDA. EL RECUBRIMIENTO SECO ES FLEXIBLE Y PUEDE USARSE COMO CAPA DE PROTECCION EN PROCESOS DE AGUAFUERTE Y PLAQUEADO.

(16/08/2000). Solicitante/s: TORAY INDUSTRIES, INC.. Inventor/es: IGUCHI, YUICHIRO, MASAKI, TAKAKI, IWANAGA, KEIJI.

SE SUMINISTRA UNA PASTA FOTOSENSIBLE QUE PERMITE LA FORMACION DE IMAGENES CON UNA ALTA RELACION DE ASPECTO Y UNA ALTA EXACTITUD ASI COMO UNA PANTALLA DE PLASMA QUE COMPRENDE LA PASTA FOTOSENSIBLE, LA PASTA FOTOSENSIBLE COMPRENDE, COMO COMPONENTES ESENCIALES, PARTICULAS INORGANICAS Y UN COMPONENTE ORGANICO QUE CONTIENE UN COMPUESTO FOTOSENSIBLE SIENDO LA DIFERENCIA ENTRE EL INDICE REFRACTIVO MEDIO DEL COMPONENTE ORGANICO Y EL INDICE REFRACTIVO MEDIO DE LAS PARTICULAS INORGANICAS DE 0.1 O INFERIOR.

(16/07/2000). Solicitante/s: MACDERMID, INCORPORATED. Inventor/es: HALLOCK, JOHN SCOTT, EBNER, CYNTHIA LOUISE, BECKNELL, ALLAN, FREDERICK, HART, DANIEL, JOSEPH.

SE DESCRIBEN COMPOSICIONES DE SUSTANCIA FOTOENDURECIBLE ESTABLES, FLOTANTES Y METODOS DE SU PREPARACION Y UTILIZACION. LAS COMPOSICIONES SE CARACTERIZAN POR RESISTENCIA AL CORTE INCREMENTADA Y ESTABILIDAD DE ALMACENAMIENTO. LA COMPOSICION DE SUSTANCIA FOTOENDURECIBLE COMPRENDE UNA EMULSION ACUOSA DE UN 22 % O MENOS DE RESINA CARBOXILATADA NEUTRALIZADA Y SURFACTANTE NOIONICO QUE CONTIENE SEGMENTOS DE POLI(ETILENO-OXIDO), MONOMERO FOTOPOLIMERIZABLE Y FOTOINICIADOR. LA NEUTRALIZACION SE LOGRA UTILIZANDO UNA BASE ORGANICA O INORGANICA O MEZCLAS DE LAS MISMAS. LAS COMPOSICIONES DE SUSTANCIA FOTOENDURECIBLE SON UTILES PARA CUBRIR Y PROTEGER SELECTIVAMENTE SUPERFICIES SUJETAS A AMBIENTES CORROSIVOS, POR EJEMPLO, PROCESOS DE BAÑOS DESOXIDANTES, EN LA PRODUCCION DE SEGUIMIENTOS DE CIRCUITOS PARA PLACAS DE CIRCUITOS ELECTRONICOS.

(01/07/1999). Solicitante/s: MORTON INTERNATIONAL, INC.. Inventor/es: BARR, ROBERT K.

UNA COMPOSICION FLOTANTE CON LA QUE SE PUEDEN FORMAR IMAGENES POR VIA FOTOMECANICA O SUSTANCIA PROTECTORA FOTOSENSIBLE QUE CONTIENE UN POLIMERO AGLUTINANTE DE LATEX QUE POSEE UNA FUNCIONALIDAD DEL ACIDO CARBOXILICO SUFICIENTE COMO PARA HACER QUE SE PUEDA REVELAR EN UNA SOLUCION ACUOSA ALCALINA, UNA FRACCION MONOMERICA FOTOPOLIMERIZABLE, UN SISTEMA QUIMICO FOTOINICIADOR Y UN SURFACTANTE QUE ES UN ADUCTO DE OXIETILENO FLUORALIFATICO.

(01/07/1995). Solicitante/s: JOHNSON MATTHEY PUBLIC LIMITED COMPANY. Inventor/es: SHORTHOUSE, GARY PAUL.

UN ENGRUDO DIELECTRICO DE PELICULA GRUESA PARA DAR UNAS LINEAS Y CAPAS FINAS, COMPRENDE UN BOROSILICATO DE BAJA PERMISIVIDAD O UN MATERIAL DIELECTRICO DE ALUMINOBOROSILICATO DE UN TAMAÑO DE PARTICULAS MENOR DE 5 (MU)M, JUNTO CON UN MEDIO. EL MATERIAL-DIELECTRICO SE SINTERIZA DESDE LOS 600 C A 1.100 C Y SE FABRICA PREFERENTEMENTE MEDIANTE TECNICAS SOL-GEL. PUEDEN COMBINARSE TEMPERATURAS RELATIVAMENTE BAJAS DE SINTERIZACION CON UNA BAJA PERMISIVIDAD.

(16/12/1994). Solicitante/s: CANON KABUSHIKI KAISHA. Inventor/es: NOGUCHI, HIROMICHI.

LA COMPOSICION COMPRENDE (I) UN POLIMERO COPOLIMERIZADO POR UN INERTO CON UNA CADENA PRINCIPAL QUE CONTIENE UN GRUPO DERIVADO DE DICICLO PENTENILO CON UN PESO MOLECULAR PROMEDIO EN NUMERO DE 5000 O MAYOR Y UN PESO MOLECULAR PROMEDIO EN PESO DE 50000 O MENOR, (II) UN POLIMERO LINEAL CON UN PMPN DE 5000 O MAYOR Y UN PMPP DE 350000 O MENOR Y CON UNA TEMPERATURA DE TRANSICION VITREA DE 60 (GRADOS) C O MAYOR, (III) UN MONOMERO CON UN ENLACE INSATURADO ETILENICAMENTE, Y (IV) UN INICIADOR DE FOTOPOLIMERIZACION CAPAZ DE GENERARA RADICALES LIBRES CON IRRADIACION DE UNA RADIACION ENERGETICA ACTIVA. LA COMPOSICION PUEDE SER CURADA ADECUADAMENTE CON UNA RADIACION ENERGETICA ACTIVA TAL COMO UV O HAZ DE ELECTRONES Y ES CAPAZ DE SER LAMINADA SEGUN UN DISEÑO DESEADO SOBRE UN LAMINADO RECUBIERTO DE COBRE PARA UTILIZAR COMO TARJETA IMPRESA O SOBRE UNA PLACA DE METAL, VIDRIO, CERAMICA O PLASTICO.

(01/11/1993). Solicitante/s: CANON KABUSHIKI KAISHA. Inventor/es: NOGUCHI, HIROMICHI.

LA COMPOSICION COMPRENDE (I) UN POLIMERO COPOLIMERIZADO POR INJERTO QUE TIENE UN PESO MOLECULAR PROMEDIO EN NUMERO DE 5000 O MAYOR Y UN PESO MOLECULAR PROMEDIO EN PESO DE 50000 O MENOR (II) UN POLIMERO LINEAL QUE TIENE UN PESO MOLECULAR PROMEDIO EN NUMERO DE 5000 O MAYOR Y UN PESO MOLECULAR PROMEDIO EN PESO DE 350000 O MENOR Y CON UNA TEMPERATURA DE TRANSICION VITREA DE 60 (GRADOS) C O MAYOR (III) UNA RESINA EPOXI QUE CONTIENE, AL MENOS, UN COMPUESTO QUE TIENE UNO O MAS GRUPOS EPOXI EN MASA MOLECULA (IV) UN MONOMERO CON UN ENLACE INSATURADO ETILENICAMENTE Y (V) UN INICIADOR DE LEWIS POR IRRADIACIONM CON RADIACION ENERGETICA ACTIVA. LA COMPOSICION DE RESINA PUEDE SE CURADA CON UNA RADIACION ENERGETICA ACTIVA TAL COMO UV O HAZ DE ELECTRONES Y ES CAPAZ DE SER LAMINADA SEGUN UN DIBUJO DESEADO SOBRE UN LAMINADO RECUBIERTO DE COBRE PARA UTILIZAR COMO TARJETA IMPRESA O SOBRE UNA PLACA DE METYAL, VIDRIO, CERAMICA O PLASTICO.

(01/11/1993). Solicitante/s: CANON KABUSHIKI KAISHA. Inventor/es: NOGUCHI, HIROMICHI.

COMPOSICION MEJORADA COMPRENDE (I) UN COPOLIMERO COPOLIMERIZADO POR INJERTO CON UN PESO MOLECULAR PROMEDIO EN NUMERO (PMPN) DE 5000 O MAYOR Y UN PESO MOLECULAR PROMEDIO EN PESO (PMPP) DE 50000 O MENOR, (II) UN POLIMERO LINEAL CON UN PMPN DE 5000 O MAYOR Y UN PMPP DE 350000 O MENOR Y CON UNA TEMPERATURA DE TRANSICION VITREA DE 60 (GRADOS) C O MAYOR, (III) UN POLIURETANO ESTERIFICADO OBTENIDO A PARTIR DE UN OLIGOESTERDIOL O A PARTIR DE UN OLIGOESTERDIOL Y DE UN ISOCIANATO DIHIDRICO QUE TIENE UN EXTREMO TERMINAL DE LA CADENA MOLECULAR ESTERIFICADO CON ACIDO ACRILICO, Y (IV) UN INICIADOR DE FOTOPOLIMERIZACION. LA COMPOSICION PUEDE CURARSE ADECUADAMENTE CON UNA RADIACION ENERGETICA ACTIVA TAL COMO UV O HAZ DE ELECTRONES Y ES CAPAZ DE SER LAMINADA SEGUN UN DISEÑO DETERMINADO SOBRE UN LAMINADO RECUBIERTO DE COBRE PARA UTILIZAR COMO TARJETA IMPRESA O SOBRE UNA PLACA DE METAL, VIDRIO, CERAMICA O PLASTICO.

(01/11/1993). Solicitante/s: CANON KABUSHIKI KAISHA. Inventor/es: NOGUCHI, HIROMICHI.

DICHA COMPOSICION MEJORADA COMPRENDE (I) UN POLIMERO COPOLIMERIZADO POR INJERTO QUE TIENE UN PESO MOLECULAR PROMEDIO EN NUMERO (PMPN) DE 5000 O MAYOR Y UN PESO MOLECULAR PROMEDIO EN PESO (PMPP) DE 50000 O MENOR, (II) UN POLIMERO LINEAL QUE TIENE UN PMPN DE 5000 O MAYOR Y UN PMPP DE 350000 O MENOR Y CON UNA TEMPERATURA DE TRANSICION VITREA DE 60 (GRADOS) C O MAYOR, (III) UNA RESINA EPOXI SEMIESTERIFICADA, Y (IV) UN INICIADOR DE POLIMERIZACION CAPAZ DE GENERAR UN ACIDO DE LEWIS POR IRRADIACION CON UNA RADIACION ENERGETICA ACTIVA. LA COMPOSICION PUEDE SER CURADA ADECUADAMENTE CON UNA RADIACION ENERGETICA ACTIVA TAL COMO UV O HAZ DE ELECTRONES Y ES CAPAZ DE SER LAMINADA SEGUN UN DISEÑO DETERMINADO SOBRE UN LAMINADO RECUBIERTO DE COBRE PARA UTILIZAR COMO TARJETA IMPRESA O SOBRE UNA PLACA DE METAL, VIDRIO, CERAMICA O PLASTICO.

(01/11/1993). Solicitante/s: CANON KABUSHIKI KAISHA. Inventor/es: NOGUCHI, HIROMICHI.

ESTA COMPOSICION MEJORADA COMPRENDE (I) UN POLIMERO COPOLIMERIZADO POR INJERTO CON UN PESO MOLECULAR PROMEDIO EN NUMERO (PMPN) DE 5000 O MAYOR Y UN PESO MOLECULAR PROMEDIO EN PESO (PMPP) DE 50000 O MENOR, (II) UN POLIMERO LINEAL CON PMPN DE 5000 O MAYOR Y UN PMPP DE 350000 O MENOR Y CON UNA TEMPERATURA DE TRANSICION VITREA DE 60 (GRADOS) C O MAYOR, (III) UNA RESINA EPOXI SEMIESTERIFICADA, (IV) UN MONOMERO QUE TIENE UN ENLACE INSATURADO ETILENICAMENTE, Y (V) UN INICIADOR DE POLIMERIZACION CAPAZ DE GENERAR UN ACIDO LEWIS POR IRRADIACION DE UNA RADIACION ENERGETICA ACTIVA. LA COMPOSICION PUEDE SER CURADA ADECUADAMENTE CON UNA RADIACION ENERGETICA ACTIVA TAL COMO UV O HAZ DE ELECTRONES Y ES CAPAZ DE SER LAMINADA SEGUN UN DISEÑO DETERMINADO SOBRE UN LAMINADO RECUBIERTO DE COBRE PARA UTILIZAR COMO TARJETA IMPRESA O SOBRE UNA PLACA DE METAL, VIDRIO, CERAMICA O PLASTICO.

(01/11/1993). Solicitante/s: E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY (A DELAWARE CORPORATION). Inventor/es: WADE, JOHN ROBERT, POTTS, RODNEY MARTIN, FLETCHER, KEITH MALCOLM, ETHERINGTON, TERRENCE.

UN PRECURSOR DE PLACAS DE IMPRESION COMPRENDE UN SUSTRATO REVESTIDO CON UNA COMPOSICION SENSIBLE A LA RADIACION QUE COMPRENDE UN FOTOINICIADOR Y UN ACRILATO O METACRILATO DE URETANO FOTOPOLIMERIZABLE. EL ACRILATO O METACRILATO DE URETANO SE OBTIENE POR ACRILACION O METACRILACION PARCIAL DE UN POLIOL TETRAFUNCIONAL Y LOS GRUPOS HIDROXILO QUE QUEDAN DEL POLIOL SE HACEN REACCIONAR CON UN DI O POLIISOCIANATO.

(01/11/1993). Solicitante/s: CANON KABUSHIKI KAISHA. Inventor/es: NOGUCHI, HIROMICHI.

UNA COMPOSICION DE RESINA QUE PARA DE ENERGIA ACTIVA MEJORADA QUE COMPRENDE (I) UN POLIMERO COPOLIMERIZADO DE INJERTO QUE TIENE UN PESO MOLECULAR MEDIO DE NUMERO DE 5,000 O MAS Y UN PESO MOLECULAR MEDIO DE PESO DE 50,000 O MENOS; (II) UN POLIMERO LINEAL QUE TIENE UN PESO MOLECULAR MEDIO DE NUMERO 5,000 O MAS Y UN PESO MOLECULAR MEDIO DE PESO 350,000 O MENOS Y QUE TIENE UNA TEMPERATURA DE TRANSMISION DE CRISTAL DE 60 C O MAS; (III) UNA RESINA EPOXI QUE CONTIENE AL MENOS UN COMPONENTE QUE TENGA UNO O MAS GRUPOS EPOXI EN UNA MOLECULA; (IV) UN INICIADOR DE POLIMERIZACION CAPAZ DE GENERAR UN CUADRO LEWIS POR IRRADIACION DE UN RAYO DE ENERGIA ACTIVA. LA COMPRESION DE RESINA PUEDE SER CONVENIENTEMENRE CURADA CON UN RAYUO DE ENERGIA ACTIVA TAL COMO UN RAYO ULTRAVIOLETA O HAZ ELECTRONICO Y ES CAPAZ DE SER LAMINADO EN UN MODELO DESEADO SOBRE UNA LAMINA CUBIERTA DE COBRE PPARA USAR COMO UNA TABLA IMPRIMIDA O EN UNA LAMINA DE METAL, VIDRIO, CERAMICA O PLASTICO.

(01/07/1993). Solicitante/s: HORSELL PLC. Inventor/es: COYLE, JOHN DAVID, HORTON, AVERIL MYVANWY.

LA INVENCION SE REFIERE A UN DERIVADO DE TRIAZINA DE FORMULA (I) EN LA QUE R ES UN GRUPO ALQUILO O ARILO, X ES AZUFRE, SELENIO O TELURO, N Y M SON CERO O UN ENTERO DE 1 A 3, NO SIENDO LA SUMA DE M+N MAYOR DE 3, Y P Y Q SON CERO O UN NUMERO ENTERO DE 1 A 3, NO SIENDO LA SUMA DE P+Q MAYOR DE 3. ESTAS TRIAZINAS PUEDEN USARSE EN COMPOSICIONES FOTOPOLIMERIZABLES.

(01/12/1992). Solicitante/s: BASF AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: SCHORNICK, GUNNAR, HENNE, ANDREAS, DR., TESCH, HELMUT, LEYRER, REINHOLD J., DR., OCHS, WOLFRAM, DR.

POR CALENTAMIENTO O RADIACION CON LUZ ACTINICA LAS MEZCLAS ENDURECIBLES CONTIENEN AL MENOS UNA UNION ENDURECIBLE CATIONICAMENTE COMO UN EPOXIDO, UN MONOMERO INSATURADO OLEFINICAMENTE, UN AMINOPLASTO O FENOPLASTO, Y TAMBIEN COMO CATALIZADOR DE ENDURECIMIENTO AL MENOS UNA SAL DE N-SULFONILAMINOSULFONIO DE LA FORMULA (I), COMO HEXAFLUOROFOSFATO DE N-P-TOLUOLSULFONIL-N-METILAMINOSULFONIO ASI COMO, SI ES CASO, QUINONA O PEROXIDO. LAS MEZCLAS SON APROPIADAS PARA OBTENCION DE CUERPOS DE MOLDEO, RECUBRIMIENTOS, FORMADORES DE RELIEVE Y MUESTRAS DE RESERVA.

(01/07/1987). Solicitante/s: AMERICAN TELEPHONE & TELEGRAPH COMPANY.

PROCEDIMIENTO LITOGRAFICO PARA LA FABRICACION DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES. CONSISTE EN FORMAR UN MATERIAL SENSIBLE A LA ENERGIA SOBRE UNA SUPERFICIE DE UN SUSTRATO; EXPONER A LA ENERGIA PORCIONES SELECCIONADAS DE DICHO MATERIAL SENSIBLE A ESTA; TRATAR EL MATERIAL SENSIBLE A LA ENERGIA CON UN AGENTE DE DESARROLLO; DONDE LA SUPERFICIE DEL SUSTRATO ES NO PLANAR, Y DONDE EL MATERIAL SENSIBLE A LA ENERGIA REVISTA A LA SUPERFICIE DEL SUSTRATO DE UN MODO PRACTICAMENTE CONFORMAL; FORMANDOSE EL MATERIAL SENSIBLE A LA ENERGIA POR DEPOSICION A PARTIR DE UN VAPOR O DE UNA NIEBLA. TIENEN APLICACION EN LA FABRICACION DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES DE CIRCUITOS INTEGRADOS.

(01/05/1987). Solicitante/s: MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY.

PROCEDIMIENTO PARA PREPARAR UN ELEMENTO FOTOSENSIBLE. CONSISTE EN: MEZCLAR CON UN DISOLVENTE UNA RESINA FENILICA SOLUBLE EN ALCALIS Y UNA SAL DE ONIO SENSIBLE A LAS RADICACIONES, EMPLEANDOSE ESTA SAL EN UNA CANTIDAD COMPRENDIDA ENTRE 1 Y 40% EN PESO CON RELACION AL PESO TOTAL DE LA RESINA FENOLICA Y DE LA SAL DE ONIO; APLICAR LA COMPOSICION RESULTANTE COMO RECUBRIMIENTO SOBRE LA SUPERFICIE DE UN SUSTRATO; Y SECAR LA SUPERFICIE RECUBIERTA DURANTE UN TIEMPO Y A UNA TEMPERATURA SUFICIENTE PARA QUE SE SEQUE LA PELICULA APLICADA, FORMANDO ASI UN RECUBRIMIENTO SOLIDO FOTOSOLUBILIZABLE O QUE PUEDE HACERSE SOLUBLE POR LA ACCION DE LA LUZ. TIENE UTILIDAD EN CLISES TIPOGRAFICOS, POSITIVOS Y NEGATIVOS.

(16/04/1986). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG.

PROCEDIMIENTO PARA LA PRODUCCION DE IMAGENES SOBRE SUSTRATOS, ASI COMO PARA LA FABRICACION DE PLACAS DE IMPRESION O DE CIRCUITOS IMPRESOS. COMPRENDE LOS SIGUIENTES PASOS: PRIMERO, SE REALIZA LA PRECIPITACION GALVANICA DE UNA CAPA DE UNA FOTOLACA DE ACCION POSITIVA SOBRE UN SUSTRATO; SEGUNDA, SE EXPONE LA CAPA APLICADA A RADIACION ACTINICA, A TRAVES DE UN ORIGINAL ESTABLECIDO PREVIAMENTE, CON LO CUAL LOS LUGARES DE LA CAPA APLICADA EXPUESTOS A LA RADIACION SE VUELVEN MAS SOLUBLES, FRENTE A UN AGENTE REVALADOR, QUE LOS LUGARES NO IRRADIADOS; Y POR ULTIMO, SE ELIMINA LA CAPA APLICADA DE LOS LUGARES EXPUESTOS, MEDIANTE CONTACTO CON UN REVELADOR.

(01/04/1982). Solicitante/s: WESTERN ELECTRIC COMPANY, INC..

PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE ARTICULOS MEDIANTE LITOGRAFIA. CONSTA DE UNA OPERACION DE LITOGRAFIA DURANTE LA CUAL EL ARTICULOS COMPRENDE, AL MENOS TEMPORALMENTE, UNA CAPA VITREA Y UN MATERIAL DE METAL FUENTE DE CONTACTO CON LA CAPA VITREA, EN EL CUAL SE IRRADIAN REGIONES DEL ARTICULO PRODUCIENDOSE REGIONES DEMARCADAS POR ZONAS INTERFACIALES DE LUZ/OSCURIDAD PARA PRODUCIR MIGRACION DEL METAL A LA CAPA VITREA, PRINCIPALMENTE DENTREO DE LAS REGIONES IRRADIADAS, DEFINIENDOSE UN MODELO DE MATERIAL VITREO CON UNA FACILIDAD DIFERENTE DE CAPACIDAD DE REMOCION.

(16/03/1981). Solicitante/s: WESTERN ELECTRIC COMPANY, INC..

PROCEDIMIENTO DE FABRICACION DE CIRCUITOS IMPRESOS POR UN PROCESO LITOGRAFICO. SOBRE UNA SUPERFICIE DE ELABORACION ACTINICA SE SITUA UNA CAPA DE IDENTICO MATERIAL CON UNA ALTA PORCION DE VIDRIO DE CALCOGENURO Y MATERIAL CON CONTENIDO DE PLATA. PARTES DE ESTA CAPA SE SOMETEN A RADIACION ACTINICA QUE INDUCE UNA TRASLACION DE LA PLATA A ZONAS ESCOGIDAS. SE ELIMINA A CONTINUACION EL MATERIAL QUE CONTIENE PLATA Y NO HA SIDO AFECTADO POR LA RADIACION; PARA ESTO SE TRATA LA SUPERFICIE PRODUCIENDOSE UN HALURO DE PLATA QUE SEA HIDROSOLUBLE. LA INMERSION EN UNA SOLUCION QUE EXTRAE EL HALOGENURO Y EL LAVADO COMPLETAN EL PROCESO.

(16/12/1976). Solicitante/s: ALBERT ROSE, ZWEIGNIEDERLASSUNG KALDENKITCHEN.

Resumen no disponible.