CIP-2021 : C23C 14/24 : Evaporación en vacío.

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Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA

C QUIMICA; METALURGIA.

C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.

C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04).

C23C 14/00 Revestimiento por evaporación en vacío, pulverización catódica o implantación de iones del material que constituye el revestimiento.

C23C 14/24 · · Evaporación en vacío.

CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.

Método para controlar la temperatura de una bomba electromagnética.

(08/07/2020) Método para controlar la temperatura de una bomba electromagnética en un aparato en donde se suministra un metal líquido a través de un tubo de alimentación desde un contenedor adaptado para contener un metal líquido a un dispositivo evaporador en una cámara de vacío, en donde el suministro del metal líquido es controlado ejerciendo una fuerza sobre el metal líquido en el contenedor, la presión en el dispositivo evaporador y la bomba electromagnética en el tubo de alimentación, caracterizado porque el método comprende: - proporcionar una bomba electromagnética que está hecha al menos parcialmente de un material conductor eléctrico, - suministrar corriente para la bomba…

Aparato para alimentar un metal líquido a un dispositivo evaporador.

(25/03/2020). Solicitante/s: Tata Steel Nederland Technology B.V. Inventor/es: ZOESTBERGEN,EDZO, COMMANDEUR,COLIN, SNIJDERS,ROLAND JAN, BAKKER,EDUARD PAUL MATTHEUS, HAZELETT,PETER WILLIAM, HAMILTON,DOUGLAS ALEXANDER, WIDDIS,STEPHEN JAMES, KAISER,TIMOTHY DEAN.

Aparato para alimentar metal líquido a un dispositivo evaporador en una cámara de vacío , el aparato comprende además un contenedor adaptado para contener un metal líquido, un tubo de alimentación del contenedor al dispositivo evaporador y una bomba electromagnética provista en el tubo de alimentación , caracterizado porque se proporciona un recinto de vacío que encierra la bomba electromagnética.

PDF original: ES-2787924_T3.pdf

Método para operar un aparato para alimentar metal líquido a un dispositivo evaporador.

(25/03/2020) Método para operar un aparato para alimentar metal líquido a un dispositivo evaporador en una cámara de vacío, en donde el tubo de alimentación recorre desde un contenedor adaptado para contener un metal líquido al dispositivo evaporador y en donde se proporciona una bomba electromagnética en el tubo de alimentación y una válvula en el tubo de alimentación entre la bomba electromagnética y el dispositivo evaporador, caracterizado porque el método comprende: - proporcionar una bomba electromagnética la cual es al menos parcialmente permeable al gas, - encerrar la bomba electromagnética en un recinto de presión controlada, - bajar la presión y/o mantener un vacío en…

Chapa de acero pintada dotada de un revestimiento de zinc.

(11/03/2020). Solicitante/s: Arcelormittal. Inventor/es: SILBERBERG, ERIC, CHALEIX, DANIEL, VANDEN EYNDE,XAVIER, SCHMITZ,BRUNO, JACQUES,DANIEL, PACE,SERGIO.

Chapa de acero dotada de un revestimiento que comprende al menos una capa de zinc puro, en su caso constituida por impurezas inevitables durante la producción, y presentes en cantidad de trazas, y una capa superior de pintura realizada por cataforesis, siendo la capa de zinc la capa superior de revestimiento antes de la aplicación de la capa de pintura y estando realizada por un procedimiento de deposición al vacío por chorro de vapor sónico en una cámara de deposición mantenida a una presión Pcámara comprendida entre 6.10-2 mbar y 2.10-1 mbar.

PDF original: ES-2785110_T3.pdf

Dispositivo para la formación de recubrimientos sobre superficies de una pieza constructiva, un material en forma de banda o una herramienta.

(20/11/2019) Dispositivo para la formación de recubrimientos sobre superficies de una pieza constructiva, un material en forma de banda o una herramienta, en el que al menos un material (2.1 y/o 2.2) en forma de banda o de hilo utilizado para la formación del recubrimiento respectivo forma/forman un cátodo y/o un ánodo que están conectados a una fuente de tensión continua eléctrica, y entre los cuales está configurado un arco eléctrico, pudiéndose alimentar material (2.1 y/o 2.2) en forma de banda o de hilo mediante un equipo de alimentación; y material fundido y/o evaporado del material en forma de hilo o de banda (2.1 y/o 2.2), mediante una corriente de gas de un gas o de una mezcla de gases y a través de una entrada, penetra en el interior…

Procedimiento de revestimiento de un substrato, instalación de aplicación del procedimiento y dispositivo metálico de alimentación de tal instalación.

(12/11/2019). Solicitante/s: Arcelormittal. Inventor/es: CHALEIX, DANIEL, JACQUES,DANIEL, SPONEM,FLORENT.

Procedimiento de revestimiento de al menos una cara de un substrato en deslizamiento, por evaporación en vacío mediante plasma de una capa metálica o de aleación metálica susceptible de ser sublimada, según el cual dicho metal o aleación metálica se dispone junto a dicha cara del substrato en forma de al menos dos lingotes colocados en contacto uno con otro, siendo la superficie de dichos lingotes, que está girada hacia dicha cara del substrato, paralela al substrato y a una distancia constante de éste, siendo dichos lingotes desplazados simultáneamente durante el revestimiento, de forma continua o secuencial, por traslación, estando la superficie de los lingotes opuesta a la girada hacia el substrato en contacto con un plano inclinado, para mantener sus superficies giradas hacia el substrato paralelas y a distancia constante de éste.

PDF original: ES-2730837_T3.pdf

Chapa de acero dotada de un revestimiento de zinc.

(05/06/2019). Solicitante/s: Arcelormittal. Inventor/es: SILBERBERG, ERIC, CHALEIX, DANIEL, VANDEN EYNDE,XAVIER, SCHMITZ,BRUNO, CAPITANI,ISABELLE, PACE,SERGIO.

Chapa de acero 3 dotada de un revestimiento que comprende al menos una capa de zinc obtenida por un procedimiento de revestimiento por depósito al vacío por chorro de vapor sónico en una instalación 1 que comprende una cámara de depósito 2 y una cámara de eyección 7 dotada de una ranura 8 en el que la proporción entre la presión en el interior de la cámara de depósito 2 PChbre y la presión en el interior de la cámara de eyección 7 del zinc Peject está comprendida entre 2.10-3 y 5,5.10-2.

PDF original: ES-2744239_T3.pdf

Método para la producción de revestimientos de aluminuro por difusión.

(06/03/2019) Un método para aplicar un revestimiento de aluminuro, que comprende: proporcionar un componente que tiene una sección externa y una sección interna, caracterizada dicha sección interna por una o más superficies internas que definen una primera cavidad interna y una segunda cavidad interna; proporcionar un primer miembro alargado definido al menos en parte por un tamaño y forma correspondientes a la primera cavidad interna; aplicar una primera suspensión a base de aluminio sobre dicho primer miembro alargado; proporcionar un segundo miembro alargado definido al menos en parte por el tamaño y la forma correspondientes a la segunda cavidad interna; …

Procedimiento para la aplicación de capas delgadas sobre sustratos y dispositivo de producción para ello.

(13/02/2019) Procedimiento para la aplicación de capas delgadas sobre sustratos, según el cual - los sustratos se disponen sobre soportes de sustratos , que están instalados respectivamente en un carro y están montados de modo que circulan a través de las cámaras de proceso en un orden determinado, y - los soportes de sustratos se conducen a través de las cámaras de proceso según el orden, en donde se realiza el revestimiento en las cámaras de proceso con ayuda de dispositivos de proceso incorporados en ellas, y - en donde los soportes de sustratos están configurados en forma de tambores giratorios, - en donde los tambores giratorios se conducen a este respecto a través de campos de tratamiento de los dispositivos de proceso en paralelo al eje de giro de los tambores de giro y durante el paso a través de las cámaras de proceso se giran con…

Procedimiento para preparar un material magnético permanente de tierras raras con una difusión intercristalina utilizando una diana compuesta mediante deposición en fase vapor.

(13/02/2019) Un procedimiento para preparar un material magnético permanente de tierras raras con una difusión intercristalina utilizando una diana compuesta mediante deposición en fase vapor, que comprende: etapa 1 de: preparar la diana compuesta que tiene la fórmula química H100-x-yMxQy, en la que: H es Dy y/o Tb, M es Nd y/o Pr, Q es uno o más elementos seleccionados del grupo de Cu, Al, Zn y Sn, x está en el intervalo de 0 a 20 y está en el intervalo de 0 a 40 son porcentajes atómicos de la composición correspondiente en la diana compuesta, y x e y no pueden ser cero simultáneamente; …

Generador de vapor industrial para el depósito de un revestimiento de aleación sobre una banda metálica.

(04/10/2017) Generador de vapor para el depósito de un revestimiento metálico sobre un sustrato , de preferencia una banda de acero, que comprende una cámara de vacío en forma de un recinto, provista de medios para asegurar un estado de depresión con respecto al medio exterior y provista de medios que permiten la entrada y la salida del sustrato , siendo a vez esencialmente estanca con respecto al medio exterior, englobando dicho recinto un cabezal de depósito de vapor, llamado eyector , conformado para crear un chorro de vapor metálico a la velocidad sónica en dirección de y perpendicular a la superficie del sustrato , estando dicho eyector en comunicación…

Accesorio que consiste en un accesorio de cierre.

(22/03/2017). Solicitante/s: Entech S.r.L. Inventor/es: ROBERTI,ROBERTO, TOSTI,MICHELE, POLA,ANNALISA, MONTESANO,LORENZO, LECLERCQ,PASCAL, MARTINELLI,PIER LUIGI.

Un accesorio que consiste en un accesorio de cierre sometido a contacto manual que comprende un cuerpo o molde que define la forma de dicho accesorio y en el que dicho molde está fabricado de una aleación de zinc que comprende aluminio en un porcentaje incluido entre el 13 % y el 25 %, magnesio en un porcentaje menor del 0,1 %, cobre en un porcentaje entre el 0,2 % y el 3,5 % y no comprende bismuto, níquel o plomo o mantiene cada uno de ellos en un porcentaje menor del 0,004 % y, que además de zinc, aluminio, cobre y magnesio, puede presentar impurezas en porcentajes menores del 0,05 %.

PDF original: ES-2626419_T3.pdf

Método de deposición de vapor para preparar compuestos amorfos que contienen litio.

(16/11/2016). Solicitante/s: Ilika Technologies Limited. Inventor/es: HAYDEN,BRIAN ELLIOTT, SMITH,DUNCAN CLIFFORD ALAN, LEE,CHRISTOPHER EDWARD, ANASTASOPOULOS,ALEXANDROS, YADA,CHIHIRO, PERKINS,LAURA MARY, LAUGHMAN,DAVID MICHAEL.

Un método de deposición de vapor para preparar un compuesto amorfo de óxido u oxinitruro que contiene litio que no contiene fósforo, en el que un compuesto de óxido que contiene litio es un compuesto que contiene litio, oxígeno y uno o más elementos diferentes y un compuesto de oxinitruro que contiene litio es un compuesto que contiene litio, oxígeno, nitrógeno y uno o más de otros elementos, el método que comprende: proporcionar una fuente de vapor de cada elemento componente del compuesto, en el que las fuentes de vapor comprenden al menos una fuente de litio, una fuente de oxígeno atómico y una fuente o fuentes de uno o más elementos formadores de vidrio; calentar un sustrato a 180 °C o superior; y co-depositar los elementos componentes de las fuentes de vapor sobre el sustrato calentado en el que los elementos componentes reaccionan sobre el sustrato para formar el compuesto amorfo.

PDF original: ES-2655288_T3.pdf

Procedimiento y dispositivo para el relleno de una cámara de evaporación.

(09/11/2016). Solicitante/s: SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE. Inventor/es: GOTZE, THOMAS, BOGER,RAIMUND, JAHNKE,ANDREAS.

Procedimiento para el relleno continuo de una cámara de evaporación, en donde a. material sólido se transfiere a través de una esclusa de vacío a una cámara de vacío , en donde la cámara de vacío está equipada de una pared separadora que sólo es permeable para material líquido , b. el material se calienta en la cámara de vacío por una camisa calefactora de la cámara de vacío hasta la licuefacción, y c. el material se transfiere a través de un sumidero y un canal de conexión a una cubeta dentro de una cámara de evaporación.

PDF original: ES-2614944_T3.pdf

Procedimiento de revestimiento de un sustrato e instalación de depósito al vacío de aleación metálica.

(20/07/2016). Solicitante/s: Arcelormittal. Inventor/es: SILBERBERG, ERIC, CHALEIX, DANIEL, CHOQUET, PATRICK, SCHMITZ,BRUNO.

Procedimiento de revestimiento de un sustrato (S) según el cual se deposita continuamente sobre dicho sustrato (S) una capa de aleación metálica a base de cinc y que comprende una proporción de magnesio predeterminada comprendida entre el 4 % y el 20 % en peso, por medio de una instalación de depósito al vacío que comprende un dispositivo de revestimiento por chorro de vapor que permite proyectar sobre el sustrato (S), a una velocidad sónica, un vapor obtenido por evaporación de un baño metálico a base de cinc y que comprende inicialmente una proporción predeterminada de magnesio del 30 % al 55 % en peso de magnesio, manteniéndose dicha proporción inicial constante durante el depósito mediante medios de ajuste de la composición del baño de aleación metálica que comprende medios de alimentación de los medios de evaporación con la aleación metálica fundida de composición controlada.

PDF original: ES-2599364_T3.pdf

Conjunto de calentamiento para la deposición en vacío.

(11/05/2016) Conjunto de calentamiento de evaporación en vacío para calentar un soporte , en el cual un material de evaporación es cargado, en el cual el soporte presenta una forma cilíndrica y comprende una primera superficie (1a) que dispone de un área abierta, una segunda superficie que se encuentra en el lado opuesto de la primera superficie y está cerrada, y una superficie circunferencial que conecta la primera superficie con la segunda superficie, comprendiendo el conjunto de calentamiento de evaporación en vacío: un recipiente de soporte , en el cual el soporte está situado, en el cual el recipiente de soporte es un elemento de calentamiento en forma de U y en forma…

Método y aparato para cargar metal líquido en un dispositivo evaporador.

(02/03/2016). Ver ilustración. Solicitante/s: Tata Steel Nederland Technology B.V. Inventor/es: BAPTISTE,LAURENT,CHRISTOPHE,BERNARD, PIPKEVICS,GRIGORI, ZEILIA,ROBERTS, GELFGATS,JURIJS, BOJAREVICS,ANDRIS, GOODENOUGH,MARK ROBERT, MAALMAN,THEODORUS FRANCISCUS JOZEF.

Un método para suministrar metal líquido de un recipiente para contener metal líquido a través del tubo de alimentación a un dispositivo evaporador en una cámara de vacío en donde el metal líquido se suministra bajo presión caracterizado porque el metal líquido se suministra bajo presión de tal manera que la velocidad de flujo del metal líquido suministrado sin regulación es mayor que la demanda de metal líquido en el dispositivo evaporador y en donde la velocidad de flujo se regula al generar una contrapresión en el metal líquido en el tubo de alimentación por medio de una bomba electromagnética dependiendo de la demanda de metal líquido en el dispositivo evaporador.

PDF original: ES-2566607_T3.pdf

INTERFACE ULTRADELGADA Y AUTOHIDRATANTE QUE COMPRENDE UN BIOPOLÍMERO.

(18/02/2016). Solicitante/s: PONTIFICIA UNIVERSIDAD CATÓLICA DE CHILE. Inventor/es: VOLKMANN,Ulrich, PEREZ-ACLE,Tomás, GUTIERREZ,Sebastián, RETAMAL,María José, CISTERNAS,Marcelo.

La invención se refiere a una interface ultradelgada y autohidratante que comprende una primera capa soporte o sustrato de un metal o semiconductor; una capa de un biopolímero hidratante, de un espesor de entre 10 a 200 Angstrom; y una capa de lípidos capaces de formar una bicapa lipídica, de un espesor de entre 40 a 160 Angstrom. En segundo lugar se apunta al método de obtención de la interface el que comprende de las etapas de depositar sobre unaa capa de metal o semiconductor una delgada capa del biopolímero hidratante de un espesor de entre 10 a 200 Angstrom por evaporación física en alto vacío; y sobre la estructura obtenida depositar una capa del lípidos capaces de formar una bicapa lipídica de un espesor de entre 40 a 160 Angstrom por evaporación en alto vacío; donde el espesor de cada capa durante el proceso de deposición se controla por elipsometría de alta resolución (VHRE). Y uso de la interface para obtener un biosensor.

Materiales luminiscentes que emiten luz en el intervalo visible o en el intervalo infrarrojo cercano.

(06/05/2015) Un material luminiscente que tiene la fórmula: [AaBbXx] [dopantes], en la que: A se selecciona entre potasio, rubidio y cesio; B es estaño; X es yodo; en donde el material incluye dopantes, y los dopantes se seleccionan entre oxígeno (O-2), flúor (F-1), cloro (Cl-1), bromo (Br-1), tiocianato (SCN-1), ortofosfato (PO4 -3), metafosfato (PO3 -1) y pirofosfato (P2O7 -4), y los dopantes están incluidos en el material luminiscente en una cantidad menor de un 5 por ciento en términos de composición elemental; a está en el intervalo de 1 a 9; b está en el intervalo de 1 a 5; y x está en el intervalo de 1 a 9.

Dispositivo de alimentación automática de un generador de vapor metálico industrial.

(11/03/2015) Instalación de depósito al vacío de forma continua de un revestimiento metálico sobre un sustrato en movimiento, que comprende un recinto de depósito al vacío , al menos una cabeza de revestimiento por chorro de vapor sónico unida a un crisol evaporador destinado a contener el metal de revestimiento en forma líquida , por un conducto de alimentación de vapor equipado con una compuerta de distribución y un horno de fusión de dicho metal, encontrándose dicho horno a la presión atmosférica, estando situado más abajo de la parte más baja del crisol evaporador y estando unido al crisol evaporador por al menos un conducto de alimentación automática del crisol evaporador equipado con una bomba de alimentación y por al menos un conducto (8A, 18) de retorno del metal líquido opcionalmente equipado con una compuerta , estando…

FUENTE DE EVAPORACIÓN PARA EL TRANSPORTE DE PRECURSORES QUÍMICOS, Y MÉTODO DE EVAPORACIÓN PARA EL TRANSPORTE DE LOS MISMOS QUE UTILIZA DICHA FUENTE.

(28/07/2014) La invención presenta una fuente de evaporación para el transporte de precursores químicos, hasta un sustrato en el cual se realiza la deposición de éstos mediante condensación, formada por un tubo principal que alberga en su parte inferior a los precursores, y que tiene medios de calentamiento . En la parte superior del tubo principal se dispone una entrada y una salida para gases portadores, estando situadas en la superficie lateral del tubo principal , opuestas la una frente a la otra y alineadas a lo largo de una línea común que atraviesa transversalmente la superficie lateral del tubo principal . La invención adicionalmente presenta un método de evaporación para el transporte de precursores químicos, en el que la introducción y extracción de los gases portadores del tubo principal se realizan…

Inyector para un sistema de deposición de vapor bajo vacío.

(07/05/2014) Inyector para un sistema de deposición de vapor bajo vacío, comprendiendo dicho inyector: - un conducto de inyección apto para recibir materiales vaporizados procedentes de una fuente de evaporación bajo vacío, y - un difusor que comprende una pluralidad de boquillas para difundir dichos materiales vaporizados al interior de una cámara de deposición bajo vacío, comprendiendo cada boquilla un canal apto para conectar dicho conducto de inyección a dicha cámara de deposición, caracterizado por que dicho difusor presenta una distribución de boquillas que varía espacialmente, comprendiendo por lo menos una de dichas boquillas por lo menos un inserto de difusor desmontable…

Dispositivo de deposición al vacío con depósito de recarga y procedimiento de deposición al vacío correspondiente.

(15/11/2013) Dispositivo de deposición al vacío que comprende un recinto adaptado para recibir un sustrato a tratar y para ser puesto al vacío y por lo menos un inyector para generar un chorro molecular de vapor de un material orgánico, comprendiendo dicho inyector un conducto que se encuentra en el interior de dicho recinto y que atraviesa una pared de inyección de dicho recinto para formar un terminal exterior adaptado para ser conectado herméticamente, de manera separable, a un medio de alimentación de material orgánico, caracterizado porque dicho medio de alimentación es una botella cuyo gollete está adaptado para ser introducido en dicho terminal , y porque dicho dispositivo de deposición comprende, a uno…

Inyector para una fuente de evaporación al vacío.

(14/11/2013) Inyector para una fuente de evaporación al vacío, que comprende: - un conducto de inyección que presenta un eje longitudinal y que comprende un orificio de entrada que puede ser conectado a una fuente de evaporación al vacío y por lo menos una boquilla destinada adifundir un material vaporizado, presentando dicha boquilla una cara lateral y una cara superior ,caracterizado porque: - dicha boquilla comprende un canal principal que emerge hacia el exterior de dicho conducto deinyección y por lo menos un canal de alimentación lateral que conecta el interior del conducto deinyección con el…

Aparato de deposición de vapor de un material sublimado y procedimiento correspondiente para una deposición continua de una capa de película delgada sobre un sustrato.

(22/08/2013) Un aparato para la deposición de vapor de una materia fuente sublimada en forma de una películadelgada sobre un sustrato de un módulo fotovoltaico (FV), comprendiendo dicho aparato: una cabeza de deposición; un receptáculo dispuesto en dicha cabeza de deposición, estando configurado dichoreceptáculo para la recepción de una materia fuente granular; un colector calentado de distribución dispuesto por debajo de dicho receptáculo , configuradodicho colector calentado de distribución para calentar dicho receptáculo hasta un gradosuficiente como para sublimar la materia fuente dentro de dicho receptáculo ; y, una placa de distribución que comprende más…

Provisioón antimicrobiana de titanio y aleaciones de titanio con plata.

(14/03/2013) Un procedimiento para la provisión antimicrobiana de superficies de implantes con plata, en el que el implante está hecho de titanio o aleación de titanio, comprendiendo el procedimiento la etapa de: anodizar la superficie del implante en presencia de un electrolito (S1a, S1b), en el que el electrolito comprende una sustancia que proporciona plata y un agente reductor, en el que la plata se reduce al menos parcialmente a partir de iones de plata mediante el agente reductor.

Generador de vapor industrial para el depósito de un revestimiento de aleación sobre una banda metálica y procedimiento de realización.

(08/03/2013) Instalación de depósito al vacío de un revestimiento de aleación metálica sobre un sustrato , equipada con ungenerador-mezclador de vapor que comprende una cámara de vacío en forma de un recinto, provista de mediospara asegurar allí un estado de depresión con respecto al medio exterior y provista de medios que permiten laentrada y la salida del sustrato , siendo al mismo tiempo esencialmente estanca con respecto al medio exterior,englobando dicho recinto un cabezal de depósito de vapor, denominado eyector , configurado para crear unchorro de vapor de aleación metálica a la velocidad sónica en dirección y perpendicular a la superficie del sustrato , estando dicho eyector en comunicación de manera estanca…

Procedimiento para el recubrimiento de objetos por todos los lados.

(07/05/2012) Procedimiento para el recubrimiento de objetos por todos los lados, que están expuestos en una cámara de proceso a un vapor de material y/o niebla de material que sale desde al menos una fuente de material , en el que el vapor de material y/o niebla de material es distribuido y/o desviado a través de medios activos y/o pasivos dentro de la cámara de proceso , caracterizado porque dentro de la cámara de proceso , que presenta un gas de fondo, se ajusta un vacío que permite una circulación viscosa, porque un material líquido o sólido a temperatura ambienta y que presenta a una temperatura de 550 K a 670 K una presión de vapor >1 Pa, es vaporizado en la fuente de material configurada como fuente de vaporización y porque el vapor de material y/o niebla de material , que sale desde la al menos una fuente de vaporización , es distribuido…

Dispositivo de deposición al vacio.

(25/04/2012) Un dispositivo de deposición al vacío en el que hay dispuestos una fuente de evaporación y un cuerpodepositado en el interior de una cámara de vacío, un espacio entre la fuente de evaporación y elcuerpo depositado está rodeado por un cuerpo tubular calentado a una temperatura en la cual sevaporiza una sustancia de la fuente de evaporación, y se hace que la sustancia vaporizada procedente dela fuente de evaporación alcance una superficie del cuerpo depositado a través de un lado interno delcuerpo tubular , de forma que sea depositada, en el que se proporciona, dentro de dicho cuerpo tubular ,un miembro de control para controlar de forma…

TIO2 NANOCRISTALINO DOPADO CON NITROGENO PARA APLICACIONES FOTOVOLTAICAS.

(08/11/2011) TiO2 nanocristallno dopado con nitrógeno para aplicaciones fotovaltaicas.La presente invención describe un procedimiento de obtención de un TiO2 nanocristalino dopado con nitrógeno mediante la técnica de láser pulsado, que confiere a dicho nanocristalino unas propiedades que lo hacen idóneo para utilizar en dispositivos fotovoltaicos, especialmente en células solares, ya sean éstas de tipo Gratzel, híbridas u orgánicas

TEMPLADO UTIL EN LA FABRICACION DE UN SISTEMA DE ALMACENAMIENTO INFORMATICO Y PROCEDIMIENTO DE OBTENCION.

(06/06/2011) Templado útil en la fabricación de un sistema de almacenamiento informático y procedimiento de obtención.La invención describe un templado, útil como nanomolde para la obtención de un sistema que comprende dicho templado y dots magnéticos. Dicho sistema es útil para el almacenamiento informático de datos de forma magnética, permitiendo la elaboración, por ejemplo, de un disco duro. La invención describe asimismo un procedimiento para su preparación. Dicho procedimiento comprende la obtención de un templado mediante la reconstrucción superficial de un sustrato de Au y la deposición de un elemento del grupo de las tierras raras por la técnica de epitaxia de rayo molecular sobre el sustrato de Au previamente reconstruido. A continuación sobre el templado…

DEPOSITO EN FASE DE VAPOR.

(27/04/2010) Procedimiento para la aplicación de un recubrimiento de, como mínimo, dos elementos o compuestos a un sustrato, en el que, como mínimo, un primer y un segundo vapores se depositan en dicho sustrato, siendo dichos vapores estrangulados antes del depósito, con velocidad sónica de flujo en las restricciones de flujo, en el que - bien, como mínimo, uno de los vapores se estrangula antes de la mezcla y los vapores mezclados son estrangulados después de la mezcla, o bien - cada vapor se estrangula antes de la mezcla, y en el que el área superficial de cada restricción y las presiones críticas de todos los flujos de vapor en estas restricciones se seleccionan para controlar los caudales másicos y las proporciones de los vapores

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