CIP 2015 : G02B 6/122 : Elemenos ópticos básicos, p. ej. caminos para el guiado de la luz.

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Notas[t] desde G01 hasta G12: INSTRUMENTOS

G SECCION G — FISICA.

G02 OPTICA.

G02B ELEMENTOS, SISTEMAS O APARATOS OPTICOS (G02F tiene prioridad; elementos ópticos especialmente adaptados para ser utilizados en los dispositivos o sistemas de iluminación F21V 1/00 - F21V 13/00; instrumentos de medida, ver la subclase correspondiente de G01, p. ej. telémetros ópticos G01C; ensayos de los elementos, sistemas o aparatos ópticos G01M 11/00; gafas G02C; aparatos o disposiciones para tomar fotografías, para proyectarlas o para verlas G03B; lentes acústicas G10K 11/30; "óptica" electrónica e iónica H01J; "óptica" de rayos X H01J, H05G 1/00; elementos ópticos combinados estructuralmente con tubos de descarga eléctrica H01J 5/16, H01J 29/89, H01J 37/22; "óptica" de microondas H01Q; combinación de elementos ópticos con receptores de televisión H04N 5/72; sistemas o disposiciones ópticas en los sistemas de televisión en colores H04N 9/00; disposiciones para la calefacción especialmente adaptadas a superficies transparentes o reflectoras H05B 3/84).

G02B 6/00 Guías de luz; Detalles de estructura de las disposiciones que comprenden guías de luz y otros elementos ópticos, p. ej. medios de acoplamiento.

G02B 6/122 · · · Elemenos ópticos básicos, p. ej. caminos para el guiado de la luz.

CIP2015: Invenciones publicadas en esta sección.

Procedimiento para la producción de nanoestructuras de silicio periódicas cristalinas.

(13/01/2016). Solicitante/s: HELMHOLTZ-ZENTRUM BERLIN FUR MATERIALIEN UND ENERGIE GMBH. Inventor/es: RECH,BERND, RUDIGIER-VOIGT,EVELINE, Bockmeyer,Matthias, BECKER,CHRISTIANE, SONTHEIMER,TOBIAS.

Procedimiento para la producción de nanoestructuras de silicio periódicas cristalinas, que presenta al menos las etapas de procedimiento creación de un sustrato periódicamente estructurado con una constante de red a entre 100 nm y 2 μm, y subsiguiente deposición de silicio mediante un procedimiento de deposición orientado al sustrato periódicamente estructurado, utilizando como sustrato un material estable hasta al menos 570ºC y creando la estructura con zonas/flancos planos y empinados periódicamente recurrentes, en donde el silicio es depositado sobre el sustrato periódicamente estructurado con un espesor en el intervalo de 0,2 a 3 veces la constante de la red a a una temperatura del sustrato de hasta 400ºC, caracterizado por que después la capa de silicio depositada, con el fin de una cristalización en fase sólida, es tratada térmicamente a temperaturas entre 570 ºC y 1.400 ºC a lo largo de unos pocos minutos hasta varios días.

PDF original: ES-2566182_T3.pdf

Procedimientos y aparatos de representación visual.

(23/07/2014) Un aparato de representación visual que comprende: una formación de píxeles que incluye un sustrato transparente, y una pluralidad de moduladores de luz basados en MEMS; y una matriz de control dispuesta sobre el sustrato, que incluye, para un píxel en la formación de píxeles, una interconexión de habilitación de escritura, para habilitar al píxel para que responda a un voltaje de datos, una interconexión de voltaje de activación, independiente de la interconexión de habilitación de escritura, para proporcionar un voltaje suficiente para activar el píxel, un primer conmutador para gobernar selectivamente la aplicación del voltaje proporcionado por la interconexión de voltaje de activación al píxel, y una interconexión de voltaje de datos, independiente de la interconexión de habilitación de…

Cristales fotónicos a partir de partículas poliméricas con interacción interparticular.

(21/05/2014) Procedimiento de producción de cristales fotónicos inversos, caracterizado porque se forman cristales fotónicos a partir de una dispersión acuosa de partículas poliméricas que no forman películas y presentan, en sus puntos de contacto en el cristal fotónico, sitios de unión que permiten una unión de las partículas mediante enlace físico o químico, sin reducir el volumen de la fase intersticial, denominándose como fase intersticial los espacios huecos remanentes presentes en el cristal fotónico que se forman después de la formación del cristal fotónico a partir de una dispersión acuosa de las partículas poliméricas por volatilización…

ELEMENTO DE MICRORRELIEVE Y PREPARACION DEL MISMO.

(16/03/2006). Solicitante/s: EPIGEM LIMITED. Inventor/es: SUMMERSGILL, PHILIP, HARVEY, THOMAS, GRIERSON, RYAN, TIMOTHY, GEORGE, CARTER, NEIL.

UN ELEMENTO DE MICRIRRELIEVE QUE COMPRENDE: A) UNA PIRMERA CAPA DE UN PRIMER SUSTRATO, QUE TIENE UNA SUPERFICIE RECEPTORA CAPAZ DE RETENER UN POLIMERO FORMADOR DE RELIEVE; B) UNA CAPA SUPERPUESTA DE UN GROSOR DESEADO DEL POLIMERO FORMADOR DE RELIEVE, SOBRE LA CAPA RECEPTORA; Y C) AL MENOS UNA ESTRUCTURA EN RELIEVE, FORMADA A PARTIR DEL POLIMERO FORMADOR DE RELIEVE Y QUE SOBRESALE POR ENCIMA DE LA CAPA SUPERPUESTA. LA INVENCION PRESENTA ASIMISMO ESTRUCTURAS Y ELEMENTOS QUE COMPRENDEN DICHOS ELEMENTOS DE MICRORRELIEVE; APLICACIONES DE LOS MISMOS, DE TIPO MICRO-OPTICO, MICROFLUIDO, MICROELECTRICO Y MICROQUIMICO; ASI COMO UN METODO Y APARATO PARA LA PREPARACION DE LOS MISMOS.

PROCEDIMIENTO PARA FABRICAR ESTRUCTURAS DE GUIAONDAS CON COMPONENTES OPTICOS.

(16/09/2004). Solicitante/s: DAIMLERCHRYSLER AG. Inventor/es: MOISEL, JORG, DR.

LA INVENCION SE REFIERE A UNA DISPOSICION Y A UN PROCEDIMIENTO PARA LA PREPARACION DE ESTRUCTURAS DE GUIAS DE ONDAS CON COMPONENTES OPTICOS, POR EJEMPLO ESPEJOS DE REENVIO, EN UN SOPORTE , ESTANDO COLOCADOS LOS COMPONENTES OPTICOS SOBRE EL SOPORTE EN UNOS PUNTOS DE DESACOPLOS ESPECIFICADOS, EMPOTRADOS EN UNA ESTRUCTURA DE GUIA DE ONDAS. LA ESTRUCTURA DE GUIA DE ONDAS SE ESTABLECE DESPUES DE LA APLICACION DE LOS COMPONENTES OPTICOS SOBRE EL SOPORTE POR MEDIO DE ESCRITURA DIRECTA CON UNA FUENTE DE LUZ NO COHERENTE. PARA ELLO SE APLICA SOBRE EL SOPORTE O BIEN UNA CAPA LIQUIDA SENSIBLE A LA LUZ, P.E. A BASE DE UN POLIMERO, Y A CONTINUACION SE COLOCAN LOS COMPONENTES OPTICOS EN LA CAPA LIQUIDA O BIEN LOS COMPONENTES OPTICOS SE APLICAN DIRECTAMENTE SOBRE EL SOPORTE EN PUNTOS DE DESACOPLO ESPECIFICADOS.

REJILLAS DE FIBRA OPTICA.

(16/12/2002) Guía de onda de fibra óptica donde se modula el índice de refracción de una sección de la misma para formar una rejilla con una pluralidad de canales de longitud de onda de reflexión característicos, en la que la modulación del índice de refracción comprende una modulación de amplitud que presenta: una componente subyacente de frecuencia sustancialmente más alta que define la forma del perfil de reflexión de cada uno de los canales de longitud de onda; una componente de frecuencia sustancialmente más baja que impone envolventes repetidas a la componente de frecuencia más alta y que define la separación…

 

Patentes más consultadas

 

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