CIP-2021 : C03C 17/245 : por depósito a partir de una fase vapor.
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Notas[t] desde C01 hasta C14: QUIMICA
Notas[g] desde C03C 15/00 hasta C03C 25/00: Tratamiento de la superficie del vidrio; Tratamiento de la superficie de fibras o filamentos de vidrio, minerales o escorias
C QUIMICA; METALURGIA.
C03 VIDRIO; LANA MINERAL O DE ESCORIA.
C03C COMPOSICIÓN QUÍMICA DE LOS VIDRIOS, VIDRIADOS O ESMALTES VÍTREOS; TRATAMIENTO DE LA SUPERFICIE DEL VIDRIO; TRATAMIENTO DE LA SUPERFICIE DE FIBRAS O FILAMENTOS DE VIDRIO, SUSTANCIAS INORGÁNICAS O ESCORIAS; UNIÓN DE VIDRIO A VIDRIO O A OTROS MATERIALES.
C03C 17/00 Tratamiento de la superficie del vidrio, p. ej. de vidrio desvitrificado, que no sea en forma de fibras o filamentos, por recubrimiento.
C03C 17/245 · · · por depósito a partir de una fase vapor.
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
UN METODO MEJORADO DE DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR PARA PRODUCIR UN REVESTIMIENTO DE OXIDO DE ESTAÑO ADULTERADO CON FLUOR.
(16/03/1987). Solicitante/s: M & T CHEMICALS, INC..
MODIFICACIONES EN UN METODO DE DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR PARA PRODUCIR UN REVESTIMIENTO DE OXIDO DE ESTAÑO ADULTERADO CON FLUOR. CONSISTENTES EN: A) FORMAR UNA COMPOSICION DE REVESTIMIENTO LIQUIDA QUE INCLUYE UN AGENTE IMPURIFICANTE DE FLUOR ORGANICO Y UN COMPUESTO DE ORGANOESTAÑO COMPRENDIENDO: DE 1 A 30% EN PESO DE UN AGENTE IMPURIFICANTE DE FLUOR ORGANICO, Y DE 70 A 99% EN PESO DE UN COMPUESTO DE ORGANOESTAÑO, QUE ES UN TRICLORURO DE ALQUILESTAÑO, UN DICLORURO DE DIALQUILESTA/O Y OTROS; B) VAPORIZAR DICHA COMPOSICION DE REVESTIMIENTO LIQUIDA EN UN GAS PORTADOR HUMEDO PARA FORMAR UNA MEZCLA DE GAS PORTADOR, AGUA, AGENTE IMPURIFICANTE DE FLUOR ORGANICO Y COMPUESTO DE ORGANOESTAÑO; Y C) DESCOMPONER DICHA MEZCLA DE VAPOR SOBRE UN SUSTRATO PARA FORMAR EL REVESTIMIENTO. TIENE UTILIDAD PARA IMPARTIR BUENAS PROPIEDADES A DIFERENTES SUSTRATOS, TALES COMO VIDRIO, MATERIALES CERAMICOS Y SIMILARES.-.
UN METODO DE PRODUCIR UN REVESTIMIENTO DE OXIDO DE ESTAÑO, IMPURIFICADO CON FLUOR,DE ELEVADA CALIDAD.
(16/06/1986) METODO PARA PRODUCIR REVESTIMIENTOS DE OXIDOS DE ESTAÑO ADULTERADOS CON FLUOR. COMPRENDE: A) MEZCLAR DE UN 1 A 30% EN PESO DE (A) CON UN 70 A 99% EN PESO DE (B), PARA FORMAR UNA COMPOSICION LIQUIDA; B) VAPORIZAR A LA COMPOSICION LIQUIDA ENTRE 100 Y 400JC; Y C) PONER EN CONTACTO A LA COMPOSICION LIQUIDA VAPORIZADA CON UN SUSTRATO MANTENIDO A UNA TEMPERATURA ENTRE 400 Y 700JC, EN UNA ATMOSFERA QUE CONTIENE OXIGENO Y DURANTE 45 SEG, PARA DEPOSITAR EL VAPOR SOBRE EL VIDRIO Y PRODUCIR UN REVESTIMIENTO QUE TIENE UN ESPESOR ENTRE 160 Y 220 MM, UNA RESISTENCIA LAMINAR H 40 Y/M, UNA REFLECTIVIDAD INFRARROJA H 70% Y UNA TRANSMISION DE LUZ VISIBLE DEL 80%. SIENDO: (A), UN COMPUESTO ADULTERANTE DE FLUOR ORGANICO REACTIVO QUE TIENE UN ATOMO DE F EN POSICION…
UN METODO PARA DEPOSITAR PELICULAS DE OXIDO DE VINADIO SOBRE UN SUBSTRATO.
(16/04/1985). Solicitante/s: PPG INDUSTRIES, INC..
PROCEDIMIENTO PARA DEPOSITAR UNA PELICULA DE OXIDO DE VANADIO SOBRE UN SUSTRATO.SE CALIENTA EL SUSTRATO HASTA TEMPERATURA ADECUADA Y SE VAPORIZA UN COMPUESTO ORGANICO DE VANADIO QUE DEPOSITA UNA PELICULA DE VANADIO SOBRE EL SUSTRATO. EL COMPUESTO DE VANADIO ES I-PROPILATO O N-PROPILATO DE VANADIO Y LA PELICULA DEPOSITADA ES VO2 O V2O3 ENTRE 100 Y 1.500 ANGSTROM DE ESPESOR. APLICABLE PARA DEPOSITAR OXIDOS DE VANADIO SOBRE VIDRIO EN PLACAS CONTROLADORAS DE LA ENERGIA SOLAR.
UN PROCEDIMIENTO MEJORADO PARA PREPARAR UN REVESTIMIENTO TRANSPARENTE QUE LLEVA OXIDO DE SILICIO.
(12/01/1984). Solicitante/s: ROY GERALD GORDON.
PROCEDIMIENTO PARA LA PREPARACION DE UN REVESTIMIENTO TRANSPARENTE QUE LLEVA OXIDO DE SILICIO, PARTICULARMENTE PARA LA FORMACION DE RECUBRIMIENTOS O REVESTIMIENTOS POR DESCOMPOSICION TERMICA Y REACCION CON OXIGENO DE REACTIVOS QUE LLEVAN SILICIO, EFECTUANDOSE DICHA REACCION EN FASE DE VAPOR EN UNA SUPERFICIE CALIENTE SOBRE LA QUE SE DEPOSITA EL RECUBRIMIENTO.CONSISTE EN HACER REACCIONAR UN GAS QUE CONTIENE SILICIO, A TEMPERATURAS ELEVADAS, CON UN AGENTE OXIDANTE GASEOSO, PARA OXIDAR DICHO SILICIO EN LA SUPERFICIE CALIENTE DE UN OBJETO A RECUBRIR. EL GAS QUE CONTIENEEL SILICIO ES PORTADOR AL MENOS DE UN COMPUESTO QUE LLEVA SILICIO DE FORMULAS: R(R2SI)N OR O RO(R2SI)N, EN LAS QUE R ES CUALQUIER ALCOHILO INFERIOR Y N ES UN NUMERO ENTERO COMPRENDIDO ENTRE 2 Y 10.
PROCEDIMIENTO PARA DEPOSITAR SOBRE UN SUBSTRATO DE VIDRIO, CERAMICO U OTRA SUSTANCIA MINERAL UN REVESTIMIENTO ADHERENTE DE OXIDO DE ESTAÑO.
(01/08/1981). Solicitante/s: SOCIETA' ITALIANA VETRO- SIV-SPA.
PROCEDIMIENTO PARA DEPOSITAR SOBRE UN SUSTRATO DE VIDRIO UN REVESTIMIENTO ADHERENTE DE OXIDO DE ESTAÑO. SE CALIENTA LA SUPERFICIE DEL SUSTRATO A UNA TEMPERATURA COMPRENDIDA ENTRE 550 Y 650 GC Y SE HACE REACCIONAR SOBRE LA MISMA UN COMPUESTO VOLATIL DE ESTAÑO CON VAPOR DE AGUA, ESTANDO AMBOS DILUIDOS EN UN GAS PORTADOR QUE CONTIENE METANOL Y UN 30 POR 100 DE HIDROGENO. EL HIDROGENO, QUE ACTUA COMO REDUCTOR Y COMO MODERADOR DE LA REACCION, SE GENERA POR LA DESCOMPOSICION TERMICA DEL METANOL AL ENTRAR EN CONTACTO CON LA SUPERFICIE CALIENTE DEL SUSTRATO. DE APLICACION EN LA CONSTRUCCION DE ACRISTALAMIENTOS AISLANTES PARA VENTANAS.
PROCEDIMIENTO PARA LA FORMACION DE UN REVESTIMIENTO DE OXIDO DE ESTAÑO SOBRE UNA CARA DE UN SUBSTRATO DE VIDRIO.
(16/04/1980). Solicitante/s: BFG GLASSGROUP.
Procedimiento para la formación de un revestimiento de óxido de estaño sobre una cara de un substrato de vidrio, o sobre un rebubrimiento previamente formado sobre ella, por contacto de esta cara mientras se encuentra a temperatura elevada, con un medio gaseoso que contiene tetracloruro de estaño que sufre reacción y/o descomposición química para formar este revestimiento de óxido de estaño, caracterizado por el hecho de que el medio gaseoso contiene tetracloruro de estaño en una concentración correspondiente a una presión parcial de al menos 2,5 x 10-3 at, y contiene vapor de agua en una concentración correspondiente a una presión parcial de al menos 10 x 10-3 at, y es forzado a contactar la citada cara mientras la temperatura del medio gaseoso es de al menos 300ºC y la temperatura del vidrio donde ocurre este contacto es superior a 550ºC.
PROCEDIMIENTO PARA PREPARAR PELICULAS DE ESTANNATO DE CADMIO.
(16/10/1979). Solicitante/s: AMERICAN CYANAMID COMPANY.
Procedimiento para preparar películas de estannato de cadmio, mediante deposición electrónica con radiofrecuencia o con corriente continua, caracterizado porque comprende depositar electrónicamente el estannato de cadmio a partir de un modelo de aleación metálica de cadmio-estaño que tiene una relación molar de cadmio a estaño de 1,7:1 a 2,5:1 aproximadamente en un plasma de oxígeno.
PROCEDIMIENTO PARA EL TRATAMIENTO DE SUPERFICIES VITREAS.
(16/01/1978). Solicitante/s: INDUSTRIE ZIGNACO S. MARCHERITA S.P.A.
Procedimiento para el tratamiento de superficies vítreas, para hacerlas resistentes al ataque químico, del tipo en el que los álcalis presentes en el vidrio son eliminados por reacción con ácido fluorhídrico, caracterizado porque la superficie vítrea a tratar es puesta en contacto con un corriente gaseosa que contiene un compuesto de fluor y de silicio y agua, a temperatura comprendida entre 400 y 700ºC.
UN METODO PARA DEPOSITAR UNA PELICULA TRANSPARENTE Y ELECTRICAMENTE CONDUCTORA DE UN OXIDO METALICO.
(01/07/1975). Solicitante/s: TRIPLEX SAFETY GLASS CO. LTD..
Resumen no disponible.
UN APARATO PARA DEPOSITAR UNA PELICULA TRANSPARENTE Y ELECTRICAMENTE CONDUCTORA DE OXIDO METALICO.
(16/01/1975). Solicitante/s: TRIPLEX SAFETY GLASS CO. LTD..
Resumen no disponible.