PROCEDIMIENTO DE FABRICACION DE UN CONTACTO OHMICO PARA UN DISPOSITIVO SEMICONDUCTOR.

(16/11/2001). Ver ilustración. Solicitante/s: TELEFONAKTIEBOLAGET LM ERICSSON. Inventor/es: KRONLUND, BERTIL, KARL.

EN UN METODO PARA LA PRODUCCION DE UN CONTACTO OHMICO A UNA CAPA DE {AL} -SIC TIPO P (3B) EN UN DISPOSITIVO SEMICONDUCTOR , LAS CAPAS DE ALUMINIO, TITANIO Y SILICIO SE DEPOSITAN SOBRE DICHA CAPA DE {AL} ANTEDICHAS SE RECUECEN PARA CONVERTIR AL MENOS PARTE DE DICHAS CAPAS DEPOSITADAS EN ALUMINIO.