CIP-2021 : G03F 7/075 : Compuestos que contienen silicio.
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G FISICA.
G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.
G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G).
G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
G03F 7/075 · · Compuestos que contienen silicio.
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
Procedimiento de fabricación de una plancha de impresión litográfica.
(29/04/2020) Procedimiento para la fabricación de una plancha de impresión litográfica que comprende las etapas de:
a) proporcionar un precursor de una plancha de impresión litográfica que comprende un soporte que tiene una superficie hidrófila o que está provisto de una capa hidrófila, y un recubrimiento aplicado sobre dicho soporte, comprendiendo dicho recubrimiento (i) una capa fotopolimerizable contigua que tiene una composición fotopolimerizable, o (ii) una capa intermedia contigua y una capa fotopolimerizable aplicada sobre dicha capa intermedia y que tiene una composición fotopolimerizable,
en el que dicha composición fotopolimerizable comprende un compuesto…
Composición de poli- o prepolímero o laca de estampado, que comprende una composición de este tipo y utilización de la misma.
(05/06/2019) Composición prepolimérica que contiene por lo menos un componente mono- u oligomérico con por lo menos un doble enlace C-C polimerizable y por lo menos un componente monomérico multifuncional, caracterizado por que el componente monomérico multifuncional contiene un componente monomérico multifuncional con por lo menos dos grupos tiol seleccionado de entre el grupo: 3-mercaptopropionatos, 3-mercaptoacetatos, tioglicolatos y alquiltioles, por que el componente mono- u oligomérico con por lo menos un doble enlace polimerizable se selecciona de entre el grupo de acrilatos, acrilatos de metilo, viniléteres, aliléteres, propeniléteres, alquenos, dienos, ésteres insaturados, aliltriazinas, alil-isocianatos y N-vinil-amidas,…
Laca de estampado y procedimiento de estampado.
(05/06/2019). Solicitante/s: Joanneum Research Forschungsgesellschaft mbH. Inventor/es: NEES,DIETER, STADLOBER,BARBARA, RUTTLOFF,STEPHAN, AUNER,CHRISTOPH, BELEGRATIS,MARIA.
Laca de estampado basada en una composición prepolimérica polimerizable UV que contiene por lo menos un monómero de acrilato, caracterizada por que la composición prepolimérica contiene, además del monómero de acrilato, por lo menos un tiol seleccionado de entre el grupo: 3-mercaptopropionatos, mercaptoacetatos, tioglicolatos y alquiltioles, así como un aditivo antiadherente activador de superficie seleccionado de entre el grupo de tensioactivos no iónicos, tales como polietersiloxanos, etoxilatos de alcoholes grasos, tales como polioxietilen- -lauriléteres, (met)acrilatos de alquilo monofuncionales, (met)acrilatos de polisiloxano, (met)acrilatos de perfluoroalquilo y (met)acrilatos de perfluoropoliéter, así como un fotoiniciador.
PDF original: ES-2744336_T3.pdf
Planchas de impresión flexográfica limpias y método de preparación de las mismas.
(01/05/2019) Un método de procesado de un blanco de impresión flexográfica para producir un elemento de impresión de imagen en relieve capaz de imprimir limpiamente, comprendiendo el método las etapas de:
a) proporcionar un blanco de impresión flexográfica que comprende:
i) una capa de soporte;
ii) al menos una capa fotocurable dispuesta sobre la capa de soporte, la al menos una capa fotocurable que comprende una composición fotocurable que comprende:
1) al menos un monómero etilénicamente insaturado;
2) al menos un monómero de silicona u oligómero;
3) al menos un aglutinante u oligómero; y
4) un fotoiniciador;
iii) una capa de enmascaramiento susceptible de ablación…
Composición compuesta para capas con micropatrones que tienen una capacidad de relajación elevada, resistencia química elevada, y estabilidad mecánica.
(27/03/2019) Una composición compuesta, que comprende
a) un hidrolizado y/o condensado de
a1) al menos un alquilsilano hidrolizable que tiene al menos un grupo alquilo,
a2) al menos un arilsilano hidrolizable que tiene al menos un grupo arilo, o al menos un alquilarilsilano hidrolizable que tiene al menos un grupo alquilarilo, en el que dicho arilsilano o alquilarilsilano hidrolizable se selecciona de compuestos representados por la fórmula general (II)
R'aSiX(4-a) (II)
en la que R', que puede ser igual o diferente, es un sustituyente no hidrolizable seleccionado de alquilo, arilo y alquilarilo, al menos uno de los cuales es un grupo arilo o alquilarilo, X es un sustituyente hidrolizable, y a es un número entero de 1 a 3; y
a3) al menos un silano hidrolizable…
Placas de impresión fotosensibles con película deslizante mejorada que contiene silicatos estratificados.
(06/09/2017). Solicitante/s: MACDERMID PRINTING SOLUTIONS, LLC. Inventor/es: VEST,Ryan, CHOI,JONGHAN.
Una placa de impresión fotosensible que comprende:
a) una capa de soporte;
b) una o más capas de un material fotocurable depositado sobre la capa de soporte;
c) una capa de película deslizante colocada sobre una o más capas de material fotocurable, comprendiendo la capa de película deslizante:
(i) uno o más aglutinantes poliméricos;
(ii) un silicato estratificado; y
(iii) opcionalmente, un surfactante;
en el que la concentración del silicato estratificado en la composición de película deslizante es del 2 % al 8 % en peso basándose en el peso total de los constituyentes secos; y
d) opcionalmente, una lámina de cubierta retirable.
PDF original: ES-2649729_T3.pdf
COMPOSICIONES DIELECTRICAS FOTODEFINIBLES.
(16/12/2002). Solicitante/s: THE B.F. GOODRICH COMPANY. Inventor/es: SHICK, ROBERT, A., JAYARAMAN, SAIKUMAR, ELCE, EDMUND, GOODALL, BRIAN, L.
LA PRESENTE INVENCION SE REFIERE A UNA COMPOSICION DIELECTRICA FOTODEFINIBLE QUE CONTIENE UN FOTOINICIADOR Y UN POLIMERO DE ADICION POLICICLICO QUE COMPRENDE UNIDADES DE REPETICION QUE CONTIENEN SUSTITUYENTES HIDROLIZABLES SUSPENDIDOS CON FUNCIONALIDADES SILILO. TRAS SU EXPOSICION A UNA FUENTE DE RADIACION, EL FOTOINICIADOR CATALIZA LA HIDROLISIS DE LOS GRUPOS HIDROLIZABLES PARA CAUSAR LA CURA DEL POLIMERO Y LA ADHESION DEL POLIMERO A LOS SUBSTRATOS DESEADOS.
MEZCLA FOTOPOLIMERIZABLE PARA LA PREPARACION DE CLICHES FLEXOGRAFICOS PARA LA IMPRESION DE CARTON ONDULADO.
(01/12/2002). Solicitante/s: DU PONT DE NEMOURS (DEUTSCHLAND) GMBH. Inventor/es: KRASKA, URSULA, DR., SIMON, REIMUND.
MEZCLA FOTOPOLIMERIZABLE PARA LA PRODUCCION DE TROQUELES FLEXOGRAFICOS PARA LA IMPRESION DIRECTA DE CARTON ONDULADO QUE CONTIENE UN COPOLIMERO DE BLOQUE RADIAL DE (POLIESTIRENOPOLIBUTADIENO) N X, SIENDO X=SN O SI Y N=2 O 4, QUE TIENE UN PESO MOLECULAR MEDIO M W DE ENTRE 80.000 Y 300.000 Y UNA DISTRIBUCION DE PESO MOLECULAR (M W /M N ) DE ENTRE 1,00 Y 1,40, MENOS DEL 15 % EN PESO DE UN COPOLIMERO DE DIBLOQUE Y QUE ESTA ESTIRADO CON HASTA AL MENOS EL 50 % EN PESO DE UN ACEITE DE PARAFINA.
PROCEDIMIENTO DE FOTOENMASCARAMIENTO DE POLIIMIDAS FOTOSENSIBLES CON COMPUESTOS ORGANOMETALICOS PARA PROCESOS FOTOLITOGRAFICOS EN TECNOLOGIA DE SILICIO.
(16/03/2001). Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS. Inventor/es: DOMINGUEZ HORNA,CARLOS, MUÑOZ PASCUAL,FRANCISCO J.
Procedimiento de fotoenmascaramiento de poliimidas fotosensibles con compuestos organometálicos para procesos fotolitográficos en tecnología de silicio. Es un proceso fotolitográfico monocapa sobre topografías irregulares que se basa en la silanización superficial de los grupos metacrilato del ácido poliámico precursor de la poliimida fotosensible para que actúen como máscara ante el revelado por plasma en modo RIE, con oxígeno como gas reactivo. El proceso permite la obtención de motivos positivos o negativos, con respecto a la máscara, utilizando los mismos precursores fotosensibles ya que esto depende únicamente de la secuencia con que se realicen los pasos de exposición y silanización. Este proceso puede aplicarle a la fotodefinición de capas poliméricas de cualquier espesor. Aplicación en la encapsulación se sensores químicos, módulos multichip, tecnología microelectrónica, sectores electrónicos, óptica integrada.
COMPOSICION LIQUIDA ENDURECIBLE CON RADIACION, EN PARTICULAR PARA ESTEREOLITOGRAFIA.
(16/04/1999). Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Inventor/es: SCHULTHESS, ADRIAN, DR., WOLF, JEAN-PIERRE, STEINMANN, BETTINA, HUNZIKER, MAX, DR..
SE DESCRIBEN COMPOSICIONES LIQUIDAS ENDURECIBLE CON RADIACION, EN PARTICULAR PARA ESTEREOLITOGRAFIA, SOBRE LA BASE AL MENOS DE UN COMPUESTO, QUE MUESTRA GRUPOS POLIMERIZABLES RADICALMENTE, Y AL MENOS UN FOTOINICIADOR APROPIADO PARA ESTA POLIMERIZACION, QUE ESTA CARACTERIZADO PORQUE CONTIENEN ADICIONALMENTE UN COPOLIMERO DE BLOQUE POLIOXIALQUILENO LAS FORMULAS QUIMICAS: DONDE R1 REPRESENTA UN ATOMO DE HIDROGENO O UN GRUPO C1 FENIL; [T] ES UN GRUPO [PS] POLISILOXANO DETERMINADO, ESPECIFICADOR EN EL TEXTO SEGUN FORMA DESCRITA; [PS] REPRESENTA GRUPOS DE LA FORMULA Y [ALQ] REPRESENTA UN GRUPO ALQUILENO CON 3 HASTA 10 ATOMOS DE CARBONO, ASI COMO NUEVO COPOLIMERO DE BLOQUE DE LAS FORMULAS (I) Y (II). LAS COMPOSICIONES ENDURECIDAS MUESTRAN POR EJEMPLO UNA ALTA TENACIDAD DE IMPACTO.
PERFECCIONAMIENTOS EN O RELATIVOS A, PLANCHAS LITOGRAFICAS.
(16/03/1999). Solicitante/s: AGFA-GEVAERT N.V. Inventor/es: JOHNSTONE, ROBERT, ALEXANDER, WALKER, WADE, JOHN ROBERT, PRATT, MICHAEL JOHN, SMITH, DAVID IAN.
UNA PLACA SENSIBLE A LA RADIACION COMPRENDE UN SUSTRATO REVESTIDO CON UNA COMPOSICION SENSIBLE A LA RADIACION, INCLUYENDO UN COMPONENTE QUE TIENE GRUPOS QUE IMPARTEN SOLUBILIDAD EN SOLUCIONES ACUOSAS, Y UN COMPONENTE QUE TIENE GRUPOS FUNCIONALES, CAPACES DE REACCIONAR CON UN COMPUESTO DE SILANO. LA SUPERFICIE DE LA COMPOSICION SE MODIFICA MEDIANTE LA REACCION CON UN COMPUESTO DE SILANO. LA PLACA DA ORIGEN A IMAGENES DE RECEPTIVIDAD PERFECCIONADA DE TINTA, Y PUEDE REVELARSE CON LIQUIDOS REVELADORES ACUOSOS DESPUES DE LA EXPOSICION DE LA IMAGEN.
SUSTANCIAS PROTECTORAS FOTOSENSIBLES FLOTANTES QUE POSEEN POLISILOXANOS.
(01/08/1998). Solicitante/s: MORTON INTERNATIONAL, INC.. Inventor/es: BARR, ROBERT K., DERRICO, GENE R.
UNA COMPOSICION FLOTANTE CON LA QUE SE PUEDEN FORMAR IMAGENES POR VIA FOTOMECANICA O SUSTANCIA PROTECTORA FOTOSENSIBLE QUE CONTIENE UN POLIMERO AGLUTINANTE DE LATEX QUE POSEE UNA FUNCIONALIDAD DEL ACIDO CARBOXILICO SUFICIENTE COMO PARA QUE SE PUEDA REVELAR EN UNA SOLUCION ACUOSA ALCALINA, UNA FRACCION MONOMERICA FOTOPOLIMERIZABLE, UN SISTEMA QUIMICO FOTOINICIADOR Y UN POLI(SILOXANO(S)).
(16/10/1996). Solicitante/s: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: BIRKLE, SIEGFRIED, SEBALD, MICHAEL, DR., SEZI, RECAI, DR., AHNE, HELLMUT, DR., RAINER, LEUSCHNER, DR., BORNDORFER, HORST, DIPL.-CHEM.
UNA FOTORESISTA PARA LA GENERACION DE UNA ESTRUCTURA EN EL CAMPO DE LOS SUBMICRONES CONTIENE LOS SIGUIENTES COMPONENTES: RGANICO Y GRUPOS DE ACIDO ORGANICO TERCIARIO-BUTILESTER , FOTOINICIADOR QUE LIBERA UN ACIDO DURANTE LA EXPOSICION, Y.