CIP-2021 : C11D 7/22 : Compuestos orgánicos.
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Notas[t] desde C01 hasta C14: QUIMICA
Notas[n] desde C11D 7/02 hasta C11D 7/22: - En los grupos C11D 7/02 - C11D 7/22, se aplica la regla del último lugar, es decir en cada nivel jerárquico, salvo que se indique lo contrario, un compuesto se clasifica en el último lugar apropiado.
C QUIMICA; METALURGIA.
C11 ACEITES, GRASAS, MATERIAS GRASAS O CERAS ANIMALES O VEGETALES; SUS ACIDOS GRASOS; DETERGENTES; VELAS.
C11D COMPOSICIONES DETERGENTES; UTILIZACION DE UNA SOLA SUSTANCIA COMO DETERGENTE; JABON O SU FABRICACION; JABONES DE RESINA; RECUPERACION DE LA GLICERINA.
C11D 7/00 Composiciones de detergentes basadas esencialmente en compuestos no tensioactivos.
C11D 7/22 · Compuestos orgánicos.
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
Composición de limpieza con actividad aumentada.
(26/07/2017). Solicitante/s: Ecolab USA Inc. Inventor/es: SCHMIDT, MICHAEL, KRACK, RALF, PATTEN, ANJA, SCHMITZ,MATTHIAS, ALTMANN,THOMAS.
Una composición de limpieza que comprende:
a) dos quelantes de aminopolicarboxilato biodegradable solubles en agua de ácido glutámico ácido N,N-diacético y ácido metilglicinadiacético;
b) un gluconato;
c) al menos un agente secuestrante de un fosfonato;
d) al menos un polímero acondicionador líquido de monómeros de carboxilatos C3 a C8 monoetilénicamente insaturados solubles en agua y/o de ácidos carboxílicos C3 a C8 monoetilénicamente insaturados solubles en agua;
e) al menos un disolvente; en donde
la relación en peso del gluconato y/o ácido glucónico a ácido y/o sal de ácido glutámico ácido N,N-diacético y ácido metilglicinadiacético está en el intervalo de 1:1 a 1:5.
PDF original: ES-2638780_T3.pdf
Composición de silsesquioxano poliédrico con potencial zeta negativo elevado y método para la limpieza húmeda de semiconductores sin daños.
(16/05/2012) Una composición que comprende:
(a) una o más bases libres de iones metálicos;
(b) una sal hidrosoluble, libre de iones metálicos, de un silsesquioxano poliédrico;
(c) un agente oxidante y
(d) agua libre de iones metálicos.
COMPOSICIONES DE LIMPIEZA NANOELECTRÓNICAS Y MICROELECTRÓNICAS.
(09/03/2011) Una composición de limpieza apropiada para limpiar substratos microelectrónicos y nanoelectrónicos en condiciones de fluido supercrítico, comprendiendo dicha composición un fluido principal supercrítico que comprende dióxido de carbono, en el que el fluido principal supercrítico alcanza un estado de fluido supercrítico a una temperatura de 250ºC o menos y a una presión de 600 bar o menos, y un fluido secundario que comprende una base fuerte, en la que dicho fluido secundario es una formulación modificadora seleccionada del grupo que consiste en las siguientes formulaciones: a) una formulación libre de silicato que comprende: un disolvente orgánico polar seleccionado del grupo que consiste en amidas, sulfonas, selenonas…
(01/02/2011) Composición de enjuagado, que comprende uno o varios propulsores (A) de tipo HFC no inflamables, uno o varios compuestos (B) elegidos entre el propano, el butano, el isobutano, el propileno, el trans 1,2-dicloroetileno, el cloruro de etilo, el éter de dimetilo o el metoximetano y el dióxido de carbono, y desde un 20 hasta un 85 % en peso, de manera preferente desde un 20 hasta un 40 % en peso de uno o varios aceites de lubrificación
EMPLEO DE SILOXANOS COMO SOPORTES EVAPORABLES.
(01/05/2007). Solicitante/s: GE BAYER SILICONES GMBH & CO. KG. Inventor/es: EVERSHEIM, HUBERTUS, KROPFGANS, MARTIN, NIENSTEDT, SABINE, LANGE, HORST.
Empleo del 1, 1, 1, 5, 5, 5-hexametil-3, 3-dietiltrisiloxano, del 1, 1, 1, 3, 5, 5, 5- heptametil-3-etiltrisiloxano , del 1, 1, 3, 3, 5, 5-hexametil-1, 5-dietiltrisiloxano, del 1, 1, 1, 3, 5, 5, 5-heptametil-3-propiltrisiloxano , del 1, 1, 1, 5, 5, 5-hexametil-3, 3- dipropiltrisiloxano o del 1, 1, 1, 3, 5, 5, 5-heptametil-3-butiltrisiloxano como compuesto individual o en mezcla con la condición de que los grupos propilo y butilo pueden estar constituidos por substituyentes lineales o ramificados, como soporte evaporable en formulaciones cosméticas.
PROCEDIMIENTO PARA LIMPIAR LOS UTENSILIOS Y LIMPIADOR DE UTENSILIO PARA LA REALIZACION DEL PROCEDIMIENTO.
(01/02/2001). Solicitante/s: HERBERTS GESELLSCHAFT MIT BESCHRANKTER HAFTUNG. Inventor/es: STRICKER, WOLFGANG, HELLMANN, UDO, STEPHAN, WERNER.
LA INVENCION DESCRIBE UN PROCEDIMIENTO PARA LIMPIAR APARATOS MANCHADOS CON RESTOS DE PINTURA, MEDIANTE EL CUAL LOS RESTOS DEPINTURA SE QUITAN CON UNA MEZCLA DE DISOLVENTES. TAMBIEN SE DESCRIBE UN LIMPIADOR SE APARATOS QUE REALIZA ESTE PROCEDIMIENTO UTILIZANDO LA MEZCLA DE DISOLVENTES. ESTA MEZCLA CONTIENE A) 15 A 35 % EN PESO DE DE UNO O MAS ETERES DE GLICOL DE FORMULA I DONDE R{SUP,1} ES UN ALQUILO DE C{SUB,1}-C{SUB,4}, Y M ES 1 O 2; Y B) 65 A 85 % EN PESO DE UNA O VARIAS CETONAS ALIFATICAS DE FORMULA GENERAL II, DONDE R{SUP,2} ES UN ALQUILO DE C{SUB,1}C{SUB,3} Y R{SUP,2} Y R{SUP,3} PUEDEN SER IGUALES O DIFERENTES.
PASTA DETERGENTE Y SU METODO DE OBTENCION.
(01/02/2000). Ver ilustración. Solicitante/s: CORTES MARTIN,FERNANDO.
Pasta detergente y su método de obtención. Constituida por una serie de productos secuestrantes del calcio (sal sódica del ácido dietilentriamino-pentametilenfosfónico (DIPMP), sal trisódica del ácido hidroxietilenodiaminotriacético (HETA), ácido dietilendiaminotetracético (EDTA), sal trisódica del ácido nitrilotriacético (NTA), en porcentajes, en volumen, que van del 10 al 25 %, un detergente (sal sódica del ácido aglucoheptónico (AGH), con un 15 %) y dos productos, con respectivos 1 %, para generar basicidad en la pasta, sosa y potasa, envasándose esta pasta en caliente como un gel viscoso y que es extraíble disuelta en agua, completando los porcentajes un 15 % de potasa en escamas, 1 % y 10 % de sosa en perlas, 1 %. Figura 1.
ADYUVANTE PARA UNA FORMULACION DE LIMPIEZA Y FORMULACION QUE COMPRENDE DICHO ADYUVANTE.
(16/11/1999). Solicitante/s: UNILEVER N.V. UNILEVER PLC. Inventor/es: DE GOEDEREN, GIJSBERTUS, DIVERSEY LEVER B.V., JONKER, REMCO, E., DIVERSEY LEVER B.V., PRITCHARD, NORMAN, JASON, DIVERSEY LEVER B.V.
LA INVENCION TRATA DE UN ADYUVANTE ADECUADO PARA FORMULACIONES DE LIMPIEZA PARA LIMPIEZA IN SITU, DICHO ADYUVANTE CONTIENE UN SECUESTRANTE DE CALCIO, UN COMPUESTO LIBERADOR DE OXIGENO, Y/O UN SECUESTRANTE DE HIERRO.
COMPOSICION DE AGENTES DE LIMPIEZA.
(01/08/1998). Solicitante/s: H.B. FULLER LICENSING & FINANCING, INC.. Inventor/es: MAITZ, FRANZ.
LA INVENCION CONCIERNE A COMPUESTOS DE LIMPIEZA PARA ELIMINAR ADHESIVOS TERMOFUNDIBLES DE PUR REACTIVOS DE APARATOS, MAQUINAS E INSTALACIONES DE PRODUCCION Y TRATAMIENTO. EL COMPUESTO DE LIMPIEZA DE LA INVENCION CONTIENE UN COMPUESTO MONOHIDROXI-FUNCIONAL REACTIVO CON NCO COMO COMPONENTE ESENCIAL ASI COMO, DADO EL CASO, OTROS COMPONENTES ADICIONALES COMO RESINAS, CERAS, PLASTIFICANTES Y SIMILARES. EN UNA FORMA DE EJECUCION PREFERENTE DE LA INVENCION, EL COMPUESTO DE LIMPIEZA CONTIENE UNA MEZCLA QUE CONSTA DE UNA MASA DEFORMABLE PLASTICAMENTE, QUE NO REACCIONA CON EL ADHESIVO TERMOFUNDIBLE DE PUR A ELIMINAR, Y DEL COMPUESTO MONOHIDROXIFUNCIONAL REACTIVO CON NCO. EL COMPUESTO DE LIMPIEZA DE LA INVENCION SE PUEDE MEZCLAR BIEN CON ADHESIVO TERMOFUNDIBLE DE PUR A ELIMINAR SIN PRODUCIR REACCIONES SECUNDARIAS NO DESEADAS. ADEMAS, EL COMPUESTO DE LIMPIEZA TRANSFORMA EL ADHESIVO TERMOFUNDIBLE DE PUR A ELIMINAR EN PRODUCTOS TERMINALES FUNDIBLES Y SOLUBLES EN EL COMPUESTO DE LIMPIEZA.
Composiciones espesantes de amino-ácidos.
(01/12/1991) Una composición líquida, acuosa, espesada, para la limpieza de tazas de retrete, que tiene un pH no mayor que 6,5 y posee una viscosidad no menor que 30 mPa.s, a 25 C, medida con un viscosímetro Brookfield RTV, a 50 rpm, empleando un husillo No. 1, cuya composición comprende al menos un ácido o una sal ácida, opcionalmente una sal íonica fuerte, y, como el único agente orgánico para espesar la composición y conferir dicha viscosidad a la composición, en una cantidad desde 0,1 a 10% p/p, al menos un compuesto de la fórmula: **fórmula** en la que R contiene 8 a 24 átomos de carbono y es un grupo alquilo, arilo, alcarilo, aralquilo o alquenilo, substituido o sin substituir; R1 es hidrógeno, un grupo alquilo, arilo, alcarilo, aralquilo…
