CIP-2021 : G03F 7/031 : Compuestos orgánicos no cubiertos por el grupo G03F 7/029.

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G FISICA.

G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.

G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G).

G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).

G03F 7/031 · · · · Compuestos orgánicos no cubiertos por el grupo G03F 7/029.

CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.

Composición resistente a soldadura líquida y placa de circuito impreso.

(08/04/2020) Una composición resistente a soldadura líquida que comprende: una resina que contiene grupo un carboxilo (A); un componente termoendurecible (B); un componente fotopolimerizable (C); y un iniciador de fotopolimerización (D), conteniendo el componente termoendurecible (B) un compuesto epoxi (B1), conteniendo el compuesto epoxi (B1) un compuesto epoxi en polvo (B11) representado por la siguiente fórmula y un compuesto epoxi (B12) distinto del compuesto epoxi (B11), **(Ver fórmula)** siendo R1, R2, R3 y R4 en la fórmula independientemente un grupo metilo, un átomo de hidrógeno o un grupo t-butilo, teniendo el compuesto epoxi (B11) un punto de fusión dentro de un intervalo de 138 a 145 °C, estando una cantidad del compuesto epoxi (B11) con respecto a una cantidad total de la resina que contiene un…

Composición resistente de soldadura y placa de circuito impreso cubierta.

(27/11/2019). Solicitante/s: GOO CHEMICAL CO., LTD.. Inventor/es: SAKAI,YOSHIO, HIGUCHI,MICHIYA.

Una composición resistente de soldadura que comprende: (A) una resina que contiene un grupo carboxilo; (B) un compuesto epoxídico; (C) dióxido de titanio; (D) un iniciador de fotopolimerización; y (E) un antioxidante, el componente (B) contiene un compuesto epoxídico de hidroquinona representado por la siguiente fórmula : **(Ver fórmula)** el componente (D) contiene (D1) un iniciador de fotopolimerización a base de óxido de bisacilfosfina y (D2) un iniciador de fotopolimerización a base de α-hidroxialquilfenona, R1, R2, R3 y R4 en la fórmula son independientemente un grupo metilo, un átomo de hidrógeno o un grupo t-butilo; y un punto de fusión del componente (E) está dentro de un intervalo de 50 a 150 °C.

PDF original: ES-2770707_T3.pdf

Plancha de impresión flexográfica con eficacia de curado mejorada.

(14/08/2019) Un método para elaborar un elemento de impresión de imágenes en relieve que comprende una pluralidad de puntos de impresión en relieve, comprendiendo el método la etapa de: a) proporcionar al menos una capa fotocurable dispuesta en la capa de respaldo, siendo susceptible la al menos una capa fotocurable de ser entrecruzada y curada selectivamente tras la exposición a radiación actínica, comprendiendo la al menos una capa fotocurable: i) un monómero etilénicamente insaturado; ii) un aglutinante; y iii) un fotoiniciador, exhibiendo el fotoiniciador un rendimiento cuántico de iniciación (Qi) de más de 0,05 a una longitud de onda de 365 nm, en donde el fotoiniciador es 2-(dimetilamino)-2-[(4-metilfenil)metil]-1- [4-(4-morfolinil)fenil]-1-butanona; b) exponer a modo de imagen la al…

Composición de poli- o prepolímero o laca de estampado, que comprende una composición de este tipo y utilización de la misma.

(05/06/2019) Composición prepolimérica que contiene por lo menos un componente mono- u oligomérico con por lo menos un doble enlace C-C polimerizable y por lo menos un componente monomérico multifuncional, caracterizado por que el componente monomérico multifuncional contiene un componente monomérico multifuncional con por lo menos dos grupos tiol seleccionado de entre el grupo: 3-mercaptopropionatos, 3-mercaptoacetatos, tioglicolatos y alquiltioles, por que el componente mono- u oligomérico con por lo menos un doble enlace polimerizable se selecciona de entre el grupo de acrilatos, acrilatos de metilo, viniléteres, aliléteres, propeniléteres, alquenos, dienos, ésteres insaturados, aliltriazinas, alil-isocianatos y N-vinil-amidas,…

Laca de estampado y procedimiento de estampado.

(05/06/2019). Solicitante/s: Joanneum Research Forschungsgesellschaft mbH. Inventor/es: NEES,DIETER, STADLOBER,BARBARA, RUTTLOFF,STEPHAN, AUNER,CHRISTOPH, BELEGRATIS,MARIA.

Laca de estampado basada en una composición prepolimérica polimerizable UV que contiene por lo menos un monómero de acrilato, caracterizada por que la composición prepolimérica contiene, además del monómero de acrilato, por lo menos un tiol seleccionado de entre el grupo: 3-mercaptopropionatos, mercaptoacetatos, tioglicolatos y alquiltioles, así como un aditivo antiadherente activador de superficie seleccionado de entre el grupo de tensioactivos no iónicos, tales como polietersiloxanos, etoxilatos de alcoholes grasos, tales como polioxietilen- -lauriléteres, (met)acrilatos de alquilo monofuncionales, (met)acrilatos de polisiloxano, (met)acrilatos de perfluoroalquilo y (met)acrilatos de perfluoropoliéter, así como un fotoiniciador.

PDF original: ES-2744336_T3.pdf

Mezclas cristalinas de derivados alfa-hidroxicarbonilo de dímeros del alfa-metilestireno.

(09/01/2019). Solicitante/s: IGM Resins Italia S.r.l. Inventor/es: LI BASSI, GIUSEPPE, NORCINI, GABRIELE, FEDERICI,LEONARDO.

Mezclas cristalinas en polvo de derivados alfa-hidroxicarbonilo de dímeros del alfa-metilestireno de fórmula 5 y 6 **Fórmula** caracterizadas porque la relación del dímero al dímero 6 es de 1.5 a 7.0 y porque dichas mezclas tienen una pureza superior al 95% en peso y contienen menos del 0.1% de 2-hidroxi-2-metil-1-fenil-1-propanona, el contenido de 2-hidroxi-2-metil-1-fenil-1-propanona se determina como el % del área cromatográfica obtenida del método analítico de HPLC usando un detector de UV de 265 nm en las siguientes condiciones: Columna nova-pack PR18-15cmx3.9mm -4 μm y pre-columna; eluyente A = metanol al 20% en agua, eluyente B = metanol; gradiente de 100% A a 100% B en 30 min, 100% B 10 min, 100% A20 min; Proporción de flujo 0,8 ml/min.

PDF original: ES-2713680_T3.pdf

Macrofotoiniciadores.

(29/11/2017) Un compuesto fotoiniciador que comprende una fracción fotoactiva Q y una funcionalidad amina representada por la fórmula **Fórmula** en la que R4 y R5 son una fracción fotoactiva Q; R6 es alquilo C1-C20 lineal o ramificado que opcionalmente se sustituye por uno o más uno o más Y2 idénticos o diferentes; o es alquilo C2-C20 lineal o ramificado que se interrumpe por uno o más Y1 idénticos o diferentes y que el alquilo C2-C20 interrumpido opcionalmente se sustituye por uno o más Y2 idénticos o diferentes; o es un grupo E-R9 o E1-R13; Q es una fracción fotoactiva**Fórmula** en la que el asterisco (*) denota el enlace al átomo de N; Z es un grupo**Fórmula** en el que el doble asterisco (**) denota el enlace al anillo fenilo y el asterisco…

Composición líquida resistente a soldadura y tarjeta de circuitos impresos revestida.

(03/05/2017) Una composición líquida resistente a soldadura que comprende: una resina que contiene grupos carboxilo; un compuesto fotopolimerizable que contiene al menos un compuesto seleccionado a partir de un grupo que consiste en un monómero fotopolimerizable y un prepolímero fotopolimerizable; un iniciador de fotopolimerización; un dióxido de titanio; y un compuesto que tiene una estructura de éter cíclico, conteniendo el dióxido de titanio tanto un dióxido de titanio-rutilo fabricado según el método del ácido sulfúrico y un dióxido de titanio-rutilo fabricado según el método del cloro, estando el dióxido de titanio-rutilo fabricado según el método del ácido sulfúrico comprendido en un intervalo de 30 a 400 partes en masa con respecto a 100 partes en masa de un total de la resina que contiene grupos carboxilo,…

Procedimiento para la preparación de mezclas cristalinas de derivados Alfa-Hidroxicarbonilo de Dímeros del Alfa-Metilestireno.

(15/06/2016) Procedimiento para la preparación de mezclas cristalinas en polvo de compuestos de fórmula II **Fórmula** y fórmula III **Fórmula** que comprende las siguientes etapas: a) disolver una mezcla de derivados alfa-hidroxicarbonilo de oligómeros del alfa-metilestireno de fórmula I **Fórmula** donde n es un número igual o mayor que 0, en un disolvente con una polaridad de entre 0,1 y 0,7, con una proporción disolvente/mezcla de derivados alfa-hidroxicarbonilo de oligómeros del alfa-metilestireno de fórmula I de entre 0,2 y 4; b) mantener la mezcla a una temperatura inferior a 40ºC durante de 10 a 120 horas;…

Método para fabricar una matriz de impresión flexográfica.

(10/11/2015) Método para fabricar una matriz de impresión flexográfica que comprende los pasos de: - proporcionar un soporte flexográfico, - aplicar por chorro sobre dicho soporte un fluido curable que comprende un monómero de acrilato monofuncional cíclico y un monómero de (met)acrilato difuncional, y - curar al menos parcialmente cada capa aplicada por chorro antes de aplicar una siguiente capa, caracterizado porque el fluido curable comprende además un monómero plastificante copolimerizable.

Precursor de plancha de impresión litográfica.

(08/10/2014) Precursor de plancha de impresión litográfica que comprende una capa registradora de imagen, en el que dicha capa registradora de imagen es fotopolimerizable cuando se expone a luz con una longitud de onda de entre 300 y 500 nm y contiene une mezcla de sensibilizadores, comprendiendo dicha mezcla al menos dos sensibilizadores diferentes según la Fórmula I,**Fórmula** en la que: R1 a R6 representan independientemente un átomo de hidrógeno, un grupo alquilo opcionalmente sustituido, un grupo alcoxi opcionalmente sustituido, un grupo ciano, un átomo de halógeno, un grupo dialquilamino, un grupo alquilarilamino o un grupo diarilamino, L es un grupo de enlace divalente opcionalmente sustituido…

Precursor de plancha de impresión de fotopolímero.

(11/04/2012) Un precursor de plancha de impresión de fotopolímero que comprende, por orden, un recubrimiento fotosensible y un recubrimiento protector sobre un soporte, en el que dicho recubrimiento fotosensible comprende una composición que es fotopolimerizable por absorción de luz y que comprende un aglutinante, un compuesto polimerizable, un estabilizador de radicales, un sensibilizador y un fotoiniciador, que se caracteriza por el hecho de que dicho fotoiniciador es un compuesto de hexaarilbisimidazol y dicha capa protectora presenta un peso del recubrimiento seco de entre 0, 5 y menos de 2, 0 g/m2 y contiene al menos un tipo de alcohol polivinílico con un grado de saponificación inferior al 93% en moles y polivinilpirrolidona en una proporción de entre 0 y 10 partes por peso con respecto al…

COMPOSICIÓN DE RESINA FOTOSENSIBLE.

(01/03/2012) Una composición fotosensible que comprende, (A) un oligómero o polímero que contiene al menos un grupo de ácido carboxílico en la molécula y tiene un peso molecular de 200000 o menos; (B) al menos un compuesto fotoiniciador de fórmula I R1 es alquiloC1-C12 lineal o ramificado; R2 es alquilo C1-C4 lineal o ramificado; R3 y R4 independientemente uno de otro son alquilo C1-C8 lineal o ramificado; y (C) un compuesto monomérico, oligomérico o polimérico que tiene al menos un doble enlace olefínico.

UN PRECURSOR PARA PLANCHAS DE IMPRESIÓN LITOGRÁFICA.

(15/07/2011) Un precursor para planchas de impresión litográfica que comprende una capa de registro de imagen, siendo dicha capa de registro de imagen fotopolimerizable después de su exposición a la luz actínica y conteniendo una mezcla de sensibilizadores diferentes caracterizado porque dicha mezcla de sensibilizadores tiene en 1-metoxi-2-propanol 5 a 80°C una solubilidad de al menos 30 % en peso cuando se determinó de acuerdo con el método descrito en el ejemplo 5

PROCESO PARA LA PREPARACIÓN DE FENIL-ALQUIL-CETONAS SUSTITUIDAS CON AMINA CÍCLICA.

(08/04/2011) Método para la preparación de compuestos de la fórmula I donde: R 1 y R 2 significan juntos alquileno de C3-C20 sin ramificar o ramificado, sin sustituir o sustituido, el cual puede estar interrumpido por uno o varios -O-, -S- o grupo(s) -N(R 4 )-, R 3 significa alquilo de C2-C10 sin ramificar o ramificado, sin sustituir, y R 4 significa hidrógeno, alquilo de C1-C3 sin ramificar o ramificado, alquenilo de C3-C5 sin ramificar o ramificado, fenilalquilo de C7-C9, hidroxialquilo de C1-C4 o fenilo, mediante aminólisis de una p-halofenilalquilcetona de la fórmula II con una amina cíclica de la fórmula III en agua a una temperatura de al menos 130ºC, y, caracterizado porque la reacción se realiza bajo presión en una caldera a presión, en tales fórmulas X significa un átomo de halógeno y R 1 , R 2 y R 3 tienen el significado indicado para…

FOTOINICIADOR SOLIDO BLANCO EN FORMA DE POLVO Y SU PREPARACION.

(28/04/2010) Procedimiento para la preparación de 2-hidroxi-1-{4-[4-(2-hidroxi-2-metilpropionil)-fenoxi]-fenil}-2-metil-propan-1-ona como un sólido blanco en forma de polvo (Compuesto 1) que incluye las siguientes etapas: a) reacción de Friedel Crafts de difenil éter con un agente de acilación seleccionado entre bromuro de alfa-bromoisobutirilo y cloruro de alfa-cloroisobutirilo, catalizada por ácidos de Lewis; b) reacción de 2-bromo-1-{4-[4 (2-bromo-2-metil-propionil)-fenoxi]-fenil}-2-metil-propan-1-ona (o de 2-cloro-1-{4-[4-(2-cloro-2-metil-propionil)-fenoxi]-fenil}-2-metil-propan-1-ona) obtenida en la etapa a) con bases hidratadas, a una temperatura comprendida entre 10ºC y 50º C, para dar 2-hidroxi-1-{4-[4-(2-hidroxi-2-metil-propionil)-fenoxi]-fenil}-2-metil-propan-1-ona…

PRECURSOR DE PLACA DE IMPRESION FOTOPOLIMERICO.

(22/02/2010) Un precursor de placa de impresión fotopolimérico, comprendiendo un revestimiento fotosensible sobre un soporte, en donde dicho revestimiento fotosensible comprende una composición que es fotopolimerizable al absorber luz, comprendiendo dicha composición al menos un aglutinante, un compuesto polimerizable, un sensibilizador y un fotoiniciador, caracterizándose por ser dicho aglutinante un copolímero que presenta una Tg inferior a los 70ºC, y en donde de un 1 a un 50% en mol de las unidades monoméricas de dicho copolímero contienen, al menos, un grupo acídico

SENSIBILIZADORES DE PIPERAZINO.

(18/01/2010) Compuestos de fórmula (I): **(Ver fórmula)** en la que: A representa un átomo de hidrógeno o un grupo de fórmula: **(Ver fórmula)** B representa un átomo de halógeno o un grupo de fórmula: **(Ver fórmula)** R1 representa un grupo de fórmula (II) o (III): **(Ver fórmula)** R2 representa un grupo alquilo C1-C6, un grupo arilo o un grupo arilo sustituido que tiene uno o más sustituyentes alquilo C1-C6, alcoxilo C1-C6 o fenilo; Z representa un grupo de fórmula -(CHR3)n-, en la que R3 representa un átomo de hidrógeno, un grupo hidroxilo o un grupo alquilo C1-C4 y n es un número desde 0 hasta 6; Y representa un grupo carbonilo o un grupo de fórmula -CH2-; Hal representa un átomo de halógeno; Q representa un residuo de un poli(alquilen(C2-C6)glicol), etilenglicol, propilenglicol, butilenglicol, 2,2-propanodiol o un bis(hidroxialquil C1-C6) éter, o Q representa…

FOTOINICIADOR INCORPORABLE.

(01/10/2006). Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Inventor/es: WOLF, JEAN-PIERRE, HISLER, RINALDO, PETER, WOLFGANG, SOMMERLADE, REINHARD, H., BOULMA Z, SOU D.

La presente invención, se refiere a fotoiniciadores del tipo ácido fenilglioxílico, los cuales, en virtud de su especial sustitución, son capaces de incorporarse en la formulación a ser polimerizada.

COMPOSICIONES PARA LA FORMACION DE IMAGENES SOLIDAS PARA PREPARAR ARTICULOS SIMILARES AL PROPILENO.

(01/03/2005). Solicitante/s: DSM IP ASSETS B.V.. Inventor/es: LAWTON, JOHN, ALAN, CHAWLA, CHANDER, PRAKASH.

Una composición fotosensible que comprende: (a) 30-70% en peso de un material que contiene epóxido; (b) 5-35% en peso de un material acrílico; (c) al menos un fotoiniciador catiónico; y (d) al menos un fotoiniciador por radicales libres, caracterizada porque dicha composición comprende además un componente seleccionado del grupo que consiste en un material que contiene epóxido que tiene una cadena principal de poli(óxido de tetrametileno) o un politetrahidrofurano-poliéter-poliol o un policarbonato-poliol alifático, y en la que la composición, tras el curado completo, tiene (i) un módulo de tracción en el intervalo de 1000 hasta 2000 N/mm2; (ii) un alargamiento a rotura promedio de al menos 10%; y (iii) un esfuerzo a fluencia de 24 hasta 40 N/mm 2.

FOTOINICADORES DE ESTERES DE OXIMA.

(16/10/2004). Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Inventor/es: KUNIMOTO, KAZUHIKO, OKA,HIDETAKA, OHWA,MASAKI, TANABE,JUNICHI, KURA,HISATOSHI, BIRBAUM,JAEN-LUC.

Fotoiniciadores de esteres de oxima, correspondientes a las fórmulas I, II, III, IV y V, en donde los radicales Ar{sub,1}, Ar{sub,2}, R{sub,1}, R{sub,2}, M{sub,1}, M{sub,2}, y M{sub,3} se corresponden con lo expresado en las reivindicaciones. La invención describe también composiciones fotopolimerizables que contienen (a) por lo menos un compuesto fotopolimerizable etilénicamente no saturado y (b) como fotoiniciador por lo menos uno de los compuestos de fórmulas I, II, III, IV, y/o V. Se refiere también a un procedimiento para la fotopolimerización de compuestos que contienen enlaces etilénicamente no saturados. Estos compuestos y sus composiciones son adecuados como fotoiniciadores, en particular, en aplicaciones en resists.

COMPOSICION DE RESINA FOTOSENSIBLE.

(01/04/2004). Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Inventor/es: KUNIMOTO, KAZUHIKO, OKA,HIDETAKA, OHWA,MASAKI, TANABE,JUNICHI, KURA,HISATOSHI.

Composiciones de resinas fotosensibles. El invento se refiere a composiciones fotosensibles que contienen (A) un compuesto soluble en álcalis; (B) por lo menos un compuesto de fórmula I ó II, en donde R{sub,1}, Ar{sub,1}, X, R{sub,3}, R{sub,4}, R{sub,5} y R{sub,6} tienen el significado expuesto en las reivindicaciones y (C) un compuesto fotopolimerizable. Estas composiciones presentan un buen e inesperado rendimiento, en particular en la tecnología de los fotoresists.

NUEVOS FOTOINICIADORES DE O-ACILOXIMAS.

(16/06/2003). Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Inventor/es: MATSUMOTO, AKIRA, OKA,HIDETAKA, OHWA,MASAKI, KURA,HISATOSHI, DIETLIKER, KURT, BIRBAUM, JEAN-LUC, DR..

Nuevos fotoiniciadores de o-aciloximas, que responden a las fórmulas I, II, III o IV, en las que R{sub,1}, R{sub,2}, R{sub,3}, R{sub,4}, R{sub,5}, R{sub,6}, R{sub,7}, R'{sub,1}, R'{sub,4}, R'{sub,5} y R'{sub,6} tienen los significados, explicados en la reivindicación 1. La invención se refiere también a composiciones polimerizables que tiene a) por lo menos un compuesto fotopolimerizable insaturado, y b) como fotoiniciador por lo menos un compuesto de las fórmulas I, II, III y/o IV. Estos compuestos son idóneos como fotoiniciadores para la fotopolimerización de compuestos polimerizables por radicales.

ESTERES FENILGLIOXALICOS NO VOLATILES.

(01/04/2003) LA INVENCION SE REFIERE A COMPUESTOS DE FORMULA (I), EN LOS QUE R 1 Y R 2 , INDEPENDIENTEMENTE ENTRE SI, SON, POR EJEMPLO, UN GRUPO DE FORMULA (II); R 3 , R 4 , R SUB,5 , R 6 Y R 7 , INDEPENDIENTEMENTE ENTRE SI, SON, POR EJEMPLO, HIDROGENO, ALQUILO C 1 - C 12 , OR 8, SR 9 , NR 10 R 11 , HALOGENO O FENILO; R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , INDEPENDIENTEMENTE ENTRE SI, SON, POR EJEMPLO, ALQUILO C 1 - C 12 ; R 12 ES, POR EJEMPLO, ALQUILO C 1 - C 8 ; R 13 ES, POR EJEMPLO, ALQUILO C 1 - C 12 ; R 14 ES, POR EJEMPLO, HIDROGENO; Y ES ALQUILENO C 1 - C 12 , ALQUENILENO C4 - C 8 , ALQUINILENO C 4 - C 8 O CICLOHEX ILENO, O ES FENILENO O ALQUILENO C 4 - C 40 INTERRUMPIDO UNA O MAS VECES POR - O -, - S - O - NR 15 -, O Y ES UN GRUPO DE FORMULA (III), (IV), (V), (VI), (VII), (VIII), (IX), (X) O (XI); Y 1 ES TAL Y COMO…

NUEVOS COLORANTES DE QUINOLINIO Y BORATOS EN COMPOSICIONES FOTOPOLIMERIZABLES.

(01/12/2001). Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Inventor/es: KUNZ, MARTIN, CUNNINGHAM,ALLAN FRANCIS.

Estos colorantes corresponden a la fórmula , en la que X es, por ejemplo, CH, C-CH{sub, 3} o +NORL-; R es, entre otros, alquilo C{sub, 1}-C{sub, 6}; R{sub, l} es, por ejemplo, alcoxi C{sub, 1}-C{sub, 6} o alquilo C{sub, 1}C{sub, 12}; s es un número de 0 a 4; R{sub, 2} es, por ejemplo, hidrógeno; Ar es, por ejemplo, un grupo (A), (B), (D) o (E); Y es, entre otros, alquilo C{sub, l}-C{sub, 6} o alcoxi C{sub, 1}-C{sub, 6}; en la fórmula (A), r es un número de 0 a 5; en las fórmulas (B) y (E) es un número de 0 a 9, y en la fórmula (D) es un número de 0 a 7; y L es un anión. Los colorantes de la fórmula (I), en combinación con un compuesto dador de electrones, en especial un compuesto borato, son idóneos como fotoiniciadores de la fotopolimerización de composiciones polimerizables por radicales.

FOTOINICIADOR.

(16/12/2000). Solicitante/s: COATES BROTHERS PLC. Inventor/es: BURROWS, ROGER, EDWARD, ILLSLEY, DEREK, RONALD, DAVIDSON, ROBERT STEPHEN, DIAS, AYLVIN, ANGELO.

UN FOTOINICIADOR MULTIFUNCIONAL QUE PUEDE OBTENERSE COMO PRODUCTO DE REACCION DE UN MATERIAL NUCLEAR MULTIFUNCIONAL QUE CONTIENE TOS O MAS GRUPOS REACTIVOS Y UN FOTOINICIADOR O UN DERIVADO DEL MISMO. EL FOTOINICIADOR O SU DERIVADO TIENE UN GRUPO REACTIVO CAPAZ DE REACCIONAR CON LOS GRUPOS REACTIVOS DEL NUCLEO MULTIFUNCIONAL.

NUEVOS (MET)ACRILATOS CONTENIENDO GRUPOS URETANO.

(16/12/2000). Solicitante/s: CIBA SC HOLDING AG. Inventor/es: SCHULTHESS, ADRIAN, DR., WOLF, JEAN-PIERRE, STEINMANN, BETTINA, HUNZIKER, MAX, DR..

LA INVENCION SE REFIERE A NUEVO (MET)ACRILATO QUE CONTIENE GRUPOS URETANO, CONTENIENDO EN UNA Y EN LA MISMA MOLECULA UN GRUPO (MET)ACRILATO Y UN GRUPO URETANO, ASI COMO OTROS GRUPOS POLIMERIZABLES Y PUEDEN POLIMERIZAR, TANTO DE FORMA RADICAL, COMO DE FORMA CATIONICA, SIENDO UTILIZADOS PARA LA ELABORACION DE RECUBRIMIENTOS, AGLOMERANTE, PRODUCTOS FOTORRESISTENTES, MASCARAS DE SOLDADURA BLANDA EN LA ESTEREOLOTOGRAFIA. LOS CUERPOS DE MOLDE ELABORADOS CON ELLO CONTIENEN UNA ESTRUCTURA DE RED HOMOGENEA, DE SUSPENSION CONJUNTA Y MUESTRAN ALTAS PROPIEDADES DE RESISTENCIA, SOBRE TODO PROPIEDADES MECANICAS.

EMULSION FOTORRESISTENTE IONOMERICA, ESTABLE Y PROCEDIMIENTO DE PREPARACION Y USO DE LA MISMA.

(16/07/2000). Solicitante/s: MACDERMID, INCORPORATED. Inventor/es: HALLOCK, JOHN SCOTT, EBNER, CYNTHIA LOUISE, BECKNELL, ALLAN, FREDERICK, HART, DANIEL, JOSEPH.

SE DESCRIBEN COMPOSICIONES DE SUSTANCIA FOTOENDURECIBLE ESTABLES, FLOTANTES Y METODOS DE SU PREPARACION Y UTILIZACION. LAS COMPOSICIONES SE CARACTERIZAN POR RESISTENCIA AL CORTE INCREMENTADA Y ESTABILIDAD DE ALMACENAMIENTO. LA COMPOSICION DE SUSTANCIA FOTOENDURECIBLE COMPRENDE UNA EMULSION ACUOSA DE UN 22 % O MENOS DE RESINA CARBOXILATADA NEUTRALIZADA Y SURFACTANTE NOIONICO QUE CONTIENE SEGMENTOS DE POLI(ETILENO-OXIDO), MONOMERO FOTOPOLIMERIZABLE Y FOTOINICIADOR. LA NEUTRALIZACION SE LOGRA UTILIZANDO UNA BASE ORGANICA O INORGANICA O MEZCLAS DE LAS MISMAS. LAS COMPOSICIONES DE SUSTANCIA FOTOENDURECIBLE SON UTILES PARA CUBRIR Y PROTEGER SELECTIVAMENTE SUPERFICIES SUJETAS A AMBIENTES CORROSIVOS, POR EJEMPLO, PROCESOS DE BAÑOS DESOXIDANTES, EN LA PRODUCCION DE SEGUIMIENTOS DE CIRCUITOS PARA PLACAS DE CIRCUITOS ELECTRONICOS.

FOTOINICIADORES FUNCIONALIZADOS, DERIVADOS Y MACROMEROS DE LOS MISMOS Y SU USO.

(16/04/2000) LA PRESENTE INVENCION SE REFIERE A AL - AMINOACETOFENONAS FUNCIONALIZADAS CON DIISOCIANATOS ORGANICOS QUE TIENEN LA ESTRUCTURA GENERAL (I) Y QUE PUEDEN SER UTILIZADOS COMO FOTOINICIADORES REACTIVOS; A OLIGOMEROS Y POLIMEROS A LOS CUALES ESTAN UNIDAS DICHAS {AL} - AMINOACETOFENONAS FUNCIONALIZADAS; A {AL} - AMINOACETOFENONAS QUE PRESENTAN UNA CADENA LATERAL INSATURADA POLIMERIZABLE; A FOTOINICIADORES DIMEROS Y TRIMEROS; A LA UTILIZACION DE DICHOS FOTOINICIADORES; A MATERIALES REVESTIDOS CON DICHOS FOTOINICIADORES; Y A LA UTILIZACION DE {AL} - AMINOAETOFENONAS FUNCIONALIZADAS PARA MODIFICAR SUPERFICIES. EN LA CITADA ESTRUCTURA (I) X ES - O - BIVALENTE, - NH -, - S -, ALQUILENO INFERIOR O (A); Y ES UN ENLACE DIRECTO O - O (CH{SUB,2}){SUB,N}, DONDE N ES UN ENTERO ENTRE 1 Y 6 Y CUYO GRUPO TERMINAL CH{SUB,2} ESTA UNIDO AL…

TELOMEROS VINILICOS TERMINADOS EN NCO.

(01/01/2000) LA INVENCION SE REFIERE A NUEVOS TELOMEROS VINILO CON TERMINACIONES NCO, QUE SON ADECUADOS EN PARTICULAR PARA UTILIZACION COMO AGENTES DE MODIFICACION DE SUPERFICIES Y COMO MATERIALES DE RECUBRIMIENTO, PERO TAMBIEN EN LA ELABORACION DE COMPUESTOS POLIMERIZABLES O COPOLIMEROS DE BLOQUE QUE REACCIONAN PARA OBTENER POLIMEROS QUE PUEDEN SER UTILIZADOS PARA LA ELABORACION DE ARTICULOS MOLDEADOS, EN PARTICULAR LENTES DE CONTACTO. LOS TELOMEROS VINILO CON TERMINACIONES NCO PROPUESTOS SON COMPUESTOS DE LA FORMULA (I) O - C - N - PI* - (-A-) {SUB,P} - R{SUB,A}, DONDE PI* ES UN GRUPO FOTOINICIADOR BIVALENTE; A ES UN GRUPO 1,2 - ETILENO BIVALENTE SUSTITUIDO DERIVADO A PARTIR DE UN MONOMERO VINILO COPOLIMERIZABLE…

PROCEDIMIENTO PARA EL SECAJE POR DESTELLOS Y ENDURECIMIENTO POR DESTELLOS, Y PRODUCTOS ENDURECIBLES POR RADIACIONES.

(16/06/1999) SE DESCRIBE UN PROCESO PARA SECADO Y ENDURECIMIENTO DE LACAS ENDURECIBLES CON RADIACION, PUNTURAS, COLAS Y CAPAS PLASTICAS QUE CONTIENEN UNA PLURALIDAD DE FOTOINICIADORES CON UNA CAPA CONJUNTA DE ALCANCE ESPECTRAL QUE SE EXTIENDE A PARTIR DEL CAMPO UV-B HASTA EL CAMPO VISIBLE ADYACENTE A UV-A. LA FUENTE DE RADIACION ES UN GENERADOR RELAMPAGO ELECTRICO DE ALTA ENERGIA CUYA RADIACION ES ADAPTADA AL CAMPO DE SENSITIBIDAD DE LOS FOTOINICIADORES Y CUYA EMISION EN EL CAMPO UV-C ES REDUCIDA. DE FORMA VENTAJOSA, LAS MEZCLAS ENDURECIBLES CON RADIACION CONTIENEN AL MENOS TRES FOTOINICIADORES Y UNA CUBIERTA EN EL CAMPO DE ABSORCION DE HASTA APROXIMADAMENTE 500 NM. DE ACUERDO CON LA ELECCION…

POLIMEROS A BASE DE COPOLIMEROS EN BLOQUE.

(01/03/1999). Ver ilustración. Solicitante/s: NOVARTIS AG. Inventor/es: DIETLIKER, KURT, CHABRECEK, PETER, LOHMANN, DIETER.

LA INVENCION TRATA DE POLIMEROS RETICULADOS QUE SON PRODUCTOS DE POLIMERIZACION DE UNA MEZCLA POLIMERIZABLE QUE CONTIENE LOS SIGUIENTES COMPONENTES: A) UN MACROMERO DE FORMULA (C), EN DONDE MACRO ES UN RADICAL DE VALENCIA - M DE UN MACROMERO DEL QUE SE HAN ELIMINADO M GRUPOS R{SUB,X} - H, SIENDO LOS GRUPOS R{SUB,X}, INDEPENDIENTEMENTE, UN ENLACE, - O -, - NR{SUB,N} O - S -, EN DONDE R{SUB,N} CORRESPONDE A HIDROGENO O ALQUILO INFERIOR, PI{SUP,*} A UN RADICAL BIVALENTE DE UN FOTOINICIADOR, R{SUB,AA} A LA PARTE DEL FOTOINICIADOR QUE CONFORMA EL RADICAL MENOS REACTIVO CUANDO EL FOTOINICIADOR SE ESCINDE, Y M A UN NUMERO ENTERO ENTRE 1 Y 100, B) UN MONOMERO VINILICO COPOLIMERIZABLE Y C) UN RETICULANTE COPOLIMERIZABLE. ESTOS POLIMEROS SON ESPECIALMENTE IDONEOS PARA LA FABRICACION DE PRODUCTOS MOLDEADOS TALES COMO LENTES DE CONTACTO.

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