(16/08/2000). Solicitante/s: TORAY INDUSTRIES, INC.. Inventor/es: IGUCHI, YUICHIRO, MASAKI, TAKAKI, IWANAGA, KEIJI.

SE SUMINISTRA UNA PASTA FOTOSENSIBLE QUE PERMITE LA FORMACION DE IMAGENES CON UNA ALTA RELACION DE ASPECTO Y UNA ALTA EXACTITUD ASI COMO UNA PANTALLA DE PLASMA QUE COMPRENDE LA PASTA FOTOSENSIBLE, LA PASTA FOTOSENSIBLE COMPRENDE, COMO COMPONENTES ESENCIALES, PARTICULAS INORGANICAS Y UN COMPONENTE ORGANICO QUE CONTIENE UN COMPUESTO FOTOSENSIBLE SIENDO LA DIFERENCIA ENTRE EL INDICE REFRACTIVO MEDIO DEL COMPONENTE ORGANICO Y EL INDICE REFRACTIVO MEDIO DE LAS PARTICULAS INORGANICAS DE 0.1 O INFERIOR.

(16/07/2000). Solicitante/s: MACDERMID, INCORPORATED. Inventor/es: HALLOCK, JOHN SCOTT, EBNER, CYNTHIA LOUISE, BECKNELL, ALLAN, FREDERICK, HART, DANIEL, JOSEPH.

SE DESCRIBEN COMPOSICIONES DE SUSTANCIA FOTOENDURECIBLE ESTABLES, FLOTANTES Y METODOS DE SU PREPARACION Y UTILIZACION. LAS COMPOSICIONES SE CARACTERIZAN POR RESISTENCIA AL CORTE INCREMENTADA Y ESTABILIDAD DE ALMACENAMIENTO. LA COMPOSICION DE SUSTANCIA FOTOENDURECIBLE COMPRENDE UNA EMULSION ACUOSA DE UN 22 % O MENOS DE RESINA CARBOXILATADA NEUTRALIZADA Y SURFACTANTE NOIONICO QUE CONTIENE SEGMENTOS DE POLI(ETILENO-OXIDO), MONOMERO FOTOPOLIMERIZABLE Y FOTOINICIADOR. LA NEUTRALIZACION SE LOGRA UTILIZANDO UNA BASE ORGANICA O INORGANICA O MEZCLAS DE LAS MISMAS. LAS COMPOSICIONES DE SUSTANCIA FOTOENDURECIBLE SON UTILES PARA CUBRIR Y PROTEGER SELECTIVAMENTE SUPERFICIES SUJETAS A AMBIENTES CORROSIVOS, POR EJEMPLO, PROCESOS DE BAÑOS DESOXIDANTES, EN LA PRODUCCION DE SEGUIMIENTOS DE CIRCUITOS PARA PLACAS DE CIRCUITOS ELECTRONICOS.

(01/12/1999). Solicitante/s: ASAHI KASEI KOGYO KABUSHIKI KAISHA. Inventor/es: KOBAYASHI, TAKASHI, TOMITA, HIROAKI, SAKATA, NORIHIKO.

UNA COMPOSICION DE RESINA FOTOSENSIBLE LIQUIDA PARA FORMAR ESTRUCTURAS DE RELIEVE QUE COMPRENDE UN PREPOLIMERO DE POLIESTERPOLIETERPOLIURETANO INSATURADO, UN MONOMERO DE POLIMERIZACION DE ADICION INSATURADO ETILENICAMENTE Y UN INICIADOR DE FOTOPOLIMERIZACION, Y EN EL CUAL EL PORCENTAJE DE PESO DE AL MENOS UNO DE LOS SEGMENTOS DE POLIESTERDIOL DEL PREPOLIMERO EN AL MENOS UNO DE LOS SEGMENTOS DE POLIESTERDIOL DEL MISMO VARIA DESDE 1:3 A 4:1 Y LOS SEGMENTOS DE POLIESTERDIOL SON CADA UNO INDEPENDIENTEMENTE UN SEGMENTO DE POLIESTERDIOL QUE COMPRENDE UNIDADES DE REPETICION REPRESENTADAS POR LA FORMULA GENERAL EN DONDE (R{SUP,1} REPRESENTA UN GRUPO AROMATICO O ALIFATICO DIVALENTE) O UN SEGMENTO DE POLIESTERDIOL QUE COMPRENDE UNIDADES DE REPETICION REPRESENTADAS POR LA FORMULA GENERAL . UNA ESTRUCTURA DE RELIEVE (P.EJ. UNA PLACA DE PRESION) PRODUCIDA A PARTIR DE LA COMPOSICION APENAS CAUSA TUNELIZACION DEL RELIEVE Y TIENE UNA DURACION MEJORADA.

(16/11/1999). Solicitante/s: MACDERMID IMAGING TECHNOLOGY INC. Inventor/es: LEACH, DOUGLAS R.

UNA COMPOSICION DE RESINA FOTOSENSIBLE QUE INCLUYE UN OLIGOMERO DE URETANO PREPARADO A PARTIR DE ACRILATO Y/O METACRILATO FUNCIONALIZADO COMO HIDROXI, AL MENOS UN DIOL, Y TOLUEN-2,4DIISOCIANATO Y TOLUEN-2,6-DIISOCIANATO EN UNA RELACION EN PESO DE 65:35. LA COMPOSICION DE RESINA CONTIENE ADICIONALMENTE UN MONOMERO QUE TIENE AL MENOS UN GRUPO ACRILATO O METACRILATO, Y UN INICIADOR FOTORREACTIVO. LA COMPOSICION DE RESINA FOTOSENSIBLE SE PUEDE CURAR PARA OBTENER UNA PLACA DE IMPRESION FOTOPOLIMERICA BLANDA, PARTICULARMENTE ADECUADA PARA IMPRIMIR SOBRE UN TABLERO CORRUGADO.

(16/09/1999). Solicitante/s: PT SUB, INC. Inventor/es: MIRLE, SRINIVAS K., HUYNH-TRAN, TRU-CHI THI.

UNA COMPOSICION FOTOCURABLE USADA PARA PREPARAR PLACAS DE IMPRESION SOLIDA DESARROLLABLE EN AGUA SE PREPARA MEZCLANDO UN PREPOLIMERO DE (META)ACRILATO URETANO CON UN POLIMERO COMPLEJO BASADO EN COMPOSICION DE POLI(VINILO PIRROLIDONA). LA COMPOSICION RESULTANTE ES ADECUADAMENTE FORMULADA CON MONOMEROS U OLIGOMEROS DE (META)ACRILATO FOTOACTIVO Y FOTOINICIADOR PARA MODELADO O EXTRUSION SOBRE UN SUSTRATO PARA FORMAR UNA PLACA DE IMPRESION FLEXOGRAFICA. A CONTINUACION DE LA EXPOSICION A UV DE LA PLACA A TRAVES DE UN NEGATIVO, AREAS NO EXPUESTAS PUEDEN SER ELIMINADAS POR LAVADO CON MEDIO ACUOSO, PARA DAR UNA PLACA CON UNA IMAGEN REALZADA DESEABLE. EL USO DE LA SOLUCION ACUOSA DE CANCELACION AL CONTRARIO QUE CON DISOLVENTES ORGANICOS MINIMIZA LOS PROBLEMAS DE POLUCION. EL USO DEL POLIMERO COMPLEJO REDUCE SIGNIFICATIVAMENTE LA PLASTICIDAD EN FRIO DE LA PLACA NO CURADA E INCREMENTA TANTO LA TENACIDAD COMO REDUCE LA VISCOSIDAD DE LA PLACA CURADA.

(01/04/1999). Solicitante/s: PPG INDUSTRIES OHIO, INC.. Inventor/es: OLSON, KURT, G., NAKAJIMA, MASAYUKI, ZAWACKY, STEVEN, R., SANDALE, MICHAEL G., KAHLE II, CHARLES F.

UNA COMPOSICION FOTOENDURECIBLE Y ELECTROPRECIPITABLE COMPUESTA POR UNA DISPERSION ACUOSA DE: (A) MATERIAL POLIMERO, CATIONICO, NEUTRALIZADO Y DISPERSIBLE EN AGUA QUE TIENE UNA INSATURACION SUSPENDIDA, (B) UN MATERIAL NO SATURADO Y NONIONICO Y (C) UN FOTOINICIADOR; CARACTERIZADO PORQUE PUEDE FORMAR REVESTIMIENTOS SUAVES, DELGADOS Y LIBRES DE PEQUEÑOS ORIFICIOS Y ADEMAS CARACTERIZADO PORQUE LA PELICULA PUEDE NO SOLUBILIZARSE SELECTIVAMENTE MEDIANTE EXPOSICION A RADIACION DISEÑADA DE TAL FORMA QUE LA ZONA NO EXPUESTA DE LA PELICULA ES SOLUBLE EN ACIDO ACUOSO DILUIDO Y LA ZONA EXPUESTA ES INSOLUBLE EN DICHO ACIDO ACUOSO.

(01/07/1997). Solicitante/s: DU PONT LIMITED. Inventor/es: MATTHEWS, ANDREW ERNEST, GATES, ALLEN PETER, GARDNER, ALASTAIR LAMONT, OBUCHOWICZ, JACEK PAUL.

SE DESCRIBE UN METODO DE FORMACION DE IMAGENES QUE COMPRENDE: A) PROPORCIONAR UNA PLACA SENSIBLE A LA RADIACION QUE COMPRENDE UN SUSTRATO Y UN REVESTIMIENTO QUE CONTIENE UNA FASE DISPERSA ABLANDABLE POR CALOR, UNA FASE CONTINUA DILATABLE O SOLUBLE EN AGUA Y UNA SUSTANCIA PARA ABSORCION DE RADIACIONES, B) LA IMAGEN-SENSIBLE EXPONE LA PLACA A AL MENOS LA FUSION PARCIAL DE LAS PARTICULAS DE LA FASE DISPERSA EN LAS AREAS DE IMAGEN, C) DESARROLLAR LA PLACA EXPUESTA POR LA IMAGEN-SENSIBLE PARA ELIMINAR EL REVESTIMIENTO DE LAS AREAS NO EXPUESTAS, Y D) CALENTAR LA PLACA DESARROLLADA O SOMETIDA A IRRADIACION PARA EFECTUAR LA INSOLUBILIZACION DE LA IMAGEN. SE OBTIENEN ASI IMAGENES DE GRAN CALIDAD Y ALTA DURACION.

(01/10/1996). Solicitante/s: ASAHI KASEI KOGYO KABUSHIKI KAISHA. Inventor/es: TAKAHASHI, GENSHO, SATO, REIJIRO.

UNA COMPOSICION DE RESINA FOTOSENSIBLE PARA SU UTILIZACION EN LA FORMACION DE ESTRUCTURA EN RELIEVE QUE COMPRENDE, EN PROPORCIONES ESPECIFICAS UN COMPONENTE DE RESINA LIQUIDA FOTOSENSIBLE QUE COMPRENDE UN URETANO PREPOLIMERO Y UN MONOMERO O SATURADO ETILENICALMENTE POLIMERIZABLE, UN INICIADOR DE FOTOPOLIMERIZACION, UN INHIBIDOR DE POLIMERIZACION TERMAL Y UN COMPUESTO AMINO NO SATURADO ESPECIFICO. EL COMPUESTO DE RESINA FOTOSENSIBLE DE UNOS EXCELENTES RESULTADOS, DADO QUE NO SUFRE LOS EFECTOS DEL FENOMENO TUNEL QUE SE OBSERVA FRECUENTEMENTE EN LAS FORMACIONES EN RELIEVE EN COMPARACION CON LOS COMPUESTOS DE RESINA FOTOSENSIBLES CONVENCIONALES, DE MODO QUE UNA ESTRUCTURA EN RELIEVE FOTORESINA ASI HECHA, NO SOLO SE CARACTERIZA POR SUS PROPIEDADES MECANICAS EXCELENTES Y POR ESTAR EXENTA DE EFECTO TUNEL, SINO QUE DA TAMBIEN EXCELENTES RESULTADOS.

(01/08/1996). Solicitante/s: ASAHI KASEI KOGYO KABUSHIKI KAISHA. Inventor/es: SAKATA, NORIHIKO, TABATA, SHUSAKU, UENO, YOKO.

COMPOSICION DE RESINA FOTOSENSIBLE PARA UNA PLACA DE IMPRESION DE PANEL ONDULADO. LA PRESENTE INVENCION PROPORCIONA UNA RESINA FOTOSENSIBLE LIQUIDA PARA FORMACION DE PLACAS DE IMPRESION SOBRE PANEL ONDULADO QUE COMPRENDE: (A) 100 PARTES EN PESO DE UN PREPOLIMERO DE POLIURETANO NO SATURADO QUE TIENE UN POLIETER POLIOL COMO SEGMENTO POLIOL, (B) 17 A 200 PARTES EN PESO DE UN COMPUESTO ETILENICAMENTE INSATURADO Y (C) 0,01 A 10 PARTES EN PESO DE UN INICIADOR DE POLIMERIZACION, CARACTERIZADO POR COMPRENDER 17 A 65 PARTES EN PESO DE UN MONOMERO DE ACRILATO REPRESENTADO POR LA SIGUIENTE FORMULA (I) POR 100 PARTES EN PESO DEL PREPOLIMERO DEL COMPONENTE (A) COMO COMPUESTO ETILENICAMENTE INSATURADO DEL COMPONENTE (B): CH2 = CH - CO - O - (C2H4O)N - R (I)EN LA QUE N REPRESENTA UN NUMERO DEL 1 A 20, R REPRESENTA UN GRUPO ALQUILO LINEAL O RAMIFICADO QUE TIENE DE 2 A 22 ATOMOS DE CARBONO.

(01/06/1996). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG. Inventor/es: SCHULTHESS, ADRIAN, DR., WOLF, JEAN-PIERRE, STEINMANN, BETTINA, HUNZIKER, MAX, DR..

MEZCLAS POLIMERIZABLES, QUE CONTIENEN (A) UN TETRAACRILATO DE LA FORMULA I O II, EN DONDE R1 REPRESENTA UN ATOMO DE HIDROGENO O METILO, X1 Y X2, INDEPENDIENTES ENTRE SI, REPRESENTAN -OALIFATICO O AROMATICO DE UNA COMBINACION DIGLICIDILO QUE YA NO PRESENTA NINGUN GRUPO ETER GLICIDILO O GRUPO ESTER GLICIDILO, A REPRESENTA UN RESTO BIVALENTE ALIFATICO, CICLOALIFATICO O AROMATICO DE UNA COMBINACION DIISOCIANATO QUE YA NO PRESENTA NINGUN GRUPO ISOCIANATO, N REPRESENTA UN NUMERO ENTERO DESDE 1 HASTA 8 Y R3 SIGNIFICA UN RESTO TETRAVALENTE CICLOALIFATICO DE UNA COMBINACION DIEPOXIDO QUE YA NO PRESENTA NINGUN GRUPO 1,2-EPOXIDO COMBINADO EN EL ANILLO CICLOALIFATICO, (B) POR LO MENOS UNA COMBINACION LIQUIDA POLIMERIZABLE RADICALMENTE DE MODO DIFERENTE DE LOS COMPONENTES (A) Y (C) UN FOTOINICIADOR RADICAL; ESTAS MEZCLAS SON APROPIADAS CON PREFERENCIA PARA LA FABRICACION DE OBJETOS TRIDIMENSIONALES POR MEDIO DEL PROCESO ESTEREOLITOGRAFICO.

(01/11/1995). Ver ilustración. Solicitante/s: ASAHI KASEI KOGYO KABUSHIKI KAISHA. Inventor/es: FUJIOKA, KENJI, TAKAHASHI, MASAHIKO.

COMPUESTO LIQUIDO DE RESINA FOTOCURABLE PARA LA FABRICACION DE PLANCHAS PARA LA IMPRESION FLEXOGRAFICA Y SU PROCEDIMIENTO DE FABRICACION. COMPRENDE LA MEZCLA INTIMA DE LOS COMPONENTES (A) A (D): (A) UN PREPOLIMERO ESPECIFICO QUE SE DEFINE (B) UNA MEZCLA ESPECIFICA DE MONOMEROS QUE SE DEFINE (C) UN INICIADOR DE FOTOPOLIMERIZACION Y (D) UN INHIBIDOR DE POLIMERIZACION TERMICA EN PROPORCIONES ESPECIFICAS QUE SE DEFINEN. EL COMPUESTO DE RESINA FOTOCURABLE LIQUIDA PUEDE SER UTILIZADO VENTAJOSAMENTE PARA LA FABRICACION DE PLANCHAS DE IMPRESION FLEXOGRAFICAS RELATIVAMENTE GRANDES TANTO EN ESPESOR COMO EN PROFUNDIDAD DE RELIEVE PARA QUE SEAN ADECUADAS PARA LA IMPRESION DE UN PANEL ONDULADO, BOLSAS DE GRAN ESPESOR Y SIMILARES. ESTA PLANCHA DE IMPRESION FLEXOGRAFICA ES EXCELENTE EN SUS CARACTERISTICAS DE MANEJO, DURACION Y RESISTENCIA A LA IMPRESION Y, POR LO TANTO, PUEDE SER UTILIZADA PARA UN PERIODO PROLONGADO DE TIEMPO CON EXCELENTE RENDIMIENTO Y SIN QUE SE PRESENTE ROTURAS NI GRIETAS.

(01/10/1995). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG. Inventor/es: KURT, MEIER, DR., LUNN, ROBERT JAMES, DR., KROEHNKE, CHRISTOPH, DR., EUGSTER, GIULIANO.

SE DESCRIBEN AQUI INGREDIENTES FOTOENDURECIBLES Y GENERADORES DE SOLUCION, SOBRE LA BASE DE METACRILATOS FOTOPOLIMERIZABLES, UN FOTOINICIADOR PARA (MET)ACRILATOS, DE UN POLIMERO ORGANICO, AGLOMERANTE. QUE CONTIENE GRUPOS CARBOXILOS LIBRES, QUE POSEE UN NUMERO DE 60 ACIDOS AL MENOS, Y UN AGENTE RETICULANTE POLISOCIANATO BLOQUEADO, QUE POSEE UNA TEMPERATURA DE FISURACION DE AL MENOS 100 GRADOS C. Y UN DISOLVENTE INERTE, EN UNA MEDIDA TAL, QUE PUEDE REBLANDECER EL INGREDIENTE FOTOENDURECIBLE.

(01/07/1995). Solicitante/s: LOCTITE CORPORATION. Inventor/es: GLASER, DAVID M.

UNA COMBINACION DE INHIBIDOR DE RADICAL LIBRE Y UNA ESPECIE DE YODO ACTIVO ELEGIDOS DEL GRUPO FORMADO POR YODO MOLECULAR, ION YODURO Y SUS MEZCLAS, PROPORCIONA LA ESTABILIZACION SINERGISTICA DE COMPOSICIONES DE TIOL-ENO QUE SON CURADAS POR ADICION DE GRUPOS TIOL A ENLACES DOBLES OLEFINICOS DE CARBONO-CARBONO. LA COMBINACION ES ESPECIALMENTE ADECUADA PARA FORMULACIONES DE TIOL-ENO QUE EMPLEAN POLIENOS FUNCIONALES DE NORBORNENILO. UN SISTEMA DE ESTABILIZACION PREFERIDO EMPLEA UNA SAL DE N-NITROSOARILHIDROXILAMINA Y UNA MEZCLA DE UN YODURO ALCALI Y I SUB 2 EN UNA PROPORCION DE 0.6-1 MOLES DE I SUB 2 POR EQUIVALENTE I ELEVADO *.

(16/06/1995). Solicitante/s: BASF AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: BECK, ERICH, RENZ, HANS, WEISS, WOLFRAM, DR., LINDNER, ALFRED, DR.

GRUPOS DE UREA Y GRUPOS AMINOS DE RADIACION DURA OBTENIENDO COMPUESTOS URETANOACRILOS SOBRE LA BASE DE DI NATOS, HIDROXICOMPUESTOS Y AMINOS, CARACTERIZADOS MEDIANTE UN CONTENIDO EN GRUPOS HIDROXY LIGADOS A ISOCIANATO, MEDIANTE REACCION DE ADICION DE AMINOS PRIMARIOS O SECUNDARIOS DE HIDROXYACRILOS OBTENIDOS DE GRUPOS DE AMINO SECUNDARIOS O TERCIARIOS.

(01/01/1995). Solicitante/s: BASF LACKE + FARBEN AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: BLUM, RAINER, SCHWARZ, MANFRED, HAEHNLE, HANS-JOACHIM, DR.

LA INVENCION SE REFIERE A UNA MEZCLA RETICULADA A TRAVES DE RADIACION UTILIZADA PARA LA PRODUCCION DE ESTRUCTURAS EN RELIEVE RESISTENTES A ELEVADAS TEMPERATURAS Y COMPUESTA (I) POR LO MENOS DE UN POLIMERO HETEROCICLICO RESISTENTE A ELEVADAS TEMPERATURAS EN PREETAPAS DE POLIMERIZACION QUE CONTIENE GRUPOS CARBOXILOS SOLUBLES EN DISOLVENTES ORGANICOS POLARES, (II) UNA SAL SULFONICA TERCIARIA INSATURADA ETILENICAMENTE Y COPOLIMERIZABLE, (III) UN SISTEMA FOTOINICIADOR O UN FOTOINICIADOR (IV) POR LO MENOS Y UN DISOLVENTE ORGANICO APROTICO POLAR. LA MEZCLA ES APROPIADA PARA LA PRODUCCION DE ESTRUCTURAS EN RELIEVE RESISTENTES A ELEVADAS TEMPERATURAS.

(16/12/1994). Solicitante/s: BASF AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: REHMER, GERD, BOETTCHER, ANDREAS, DR..

EL INVENTO SE REFIERE A COMPUESTOS SENSIBLES A LA RADIACION, ETILENICOS Y NO SATURADOS Y AUN PROCEDIMIENTO PARA SU ELABORACION. LOS COMPUESTOS ETILENICOS, NO SATURADOS Y ORGANICOS CORRESPONDEN A LA FORMULA GENERAL...DONDE R ESTA EN LUGAR DEL RESIDUO... DONDE LOS RESIDUOS DE R2 HASTA R6 ESTAN POR H, ALCOHILO, OALCOHILO, SH, SALCOHILO, HALOGENURO, N(ALCOHILO)(ARILO) Y POR LO MENOS UNO, PERO COMO MAXIMO TRES DE LOS RESIDUOS DE R2 HASTA R6 ESTAN POR EL RESIDUO... X ESTA POR UN RESIDUO DE ALCOHLO, UN RESIDUO DE CICLOALCOHILO, UN RESIDUO DE OXAALCOHILO O UN RESIDUO DE ARILO, Y POR H O CH3 Y Z POR O O NY.

(16/11/1994). Solicitante/s: AKZO NOBEL N.V.. Inventor/es: VAN DER HORST, PETER MARTEN, HORSTHUIS, WINFRIED HENRI GERARD.

UN SISTEMA TERMOCURABLE QUE CONTIENE GRUPOS DPIA PUEDE POLARIZARSE POR UN CAMPO ELECTRICO MIENTRAS, SIMULTANEAMENTE, SE CURA EL SISTEMA. ASI SE OBTIENEN GUIAS DE ONDAS NLO FAVORABLES. LOS SISTEMAS DESCRITOS INCLUYEN UN GRUPO DPIA QUE CONTIENE UN COMPUESTO (A) CON DOS O MAS GRUPOS FUNCIONALES Y UN COMPUESTO (B) CON DOS O MAS GRUPOS FUNCIONALES REACTIVOS HACIA (A). ESENCIALMENTE, UNO DE LOS COMPONENTES (A) O (B) CONTIENE GRUPOS DE ISOCIANATO. PARA OBTENER UNA RED POLIMERICA POR LO MENOS UNO DE LOS COMPONENTES (A) O (B) DEBE SER TRI-FUNCIONAL O MAS ALTO.

(01/08/1994). Solicitante/s: EASTMAN KODAK COMPANY (A NEW JERSEY CORPORATION). Inventor/es: CHEN, CHIN HSIN, FOX, JOHN LEONARD, SPECHT, DONALD PAUL, FARID, SAMIR YACOUB.

UN SISTEMA DE IMAGENES FOTOGRAFICAS ES DESCUBIERTO COMPRENDIDO DE UN COMPONENTE ORGANICO ENDURECIBLE QUE CONTIENE BITIOS DE INSATURIZACION ETILENICO Y COINICIADORES PARA ADICION ETILENICO. EL COINICIADOR INCLUYE UN ACTIVADOR Y UN FOTOSENSIBILIZADOR. EL FOTOSENSIBILIZADOR ES UN 6 - TERCIARIO Y AMINO - 2- (Z - CH =) BENZOFURON TINTE, DONDE Z REPRESENTA LOS ATOMOS QUE PROVEE UN ELECTRON QUE SE SACA DEL GRUPO SULFENIL O CARBONIL Y COMPLETANDO UN ENLACE METINO CONJUGADO QUE SE EXTIENDE DESDE EL ELECTRO SACADO DEL GRUPO CARBONIL A TRAVES DEL BENZOFURON AL ELECTRON DONANTE 6 - TERCIARIO AMINO SUSTITUYENTE PARA FORMAR UN AROMOFORO DE TINTA RESONANTE. LOS FOTOSENSIBILIZADORES CROMICAMENTE BAÑADOS EXTIENDEN LA RESPUESTA DE EXPOSICION DEL SISTEMA DE IMAGEN.

(16/03/1993). Solicitante/s: BASF AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: KOCH, HORST, DR., KURTZ, KARL-RULDOF, DR., SCHULZ, GUENTHER, DR.

EL INVENTO SE REFIERE A UN PROCEDIMIENTO PARA ELABORAR CAPAS DE GRABADO FLEXIBLES, COMPUESTO POR UNA MEZCLA SENSIBLE A LA LUZ, DE (A) POR LO MENOS UN AGLUTINANTE ELASTOMERO, (B) UNA MEZCLA DE (B1) POR LO MENOS UNA UNION ORGANICA FOTOPOLIMERIZABLE TOLERANTE CON (A), CON POR LOS MENOS DOS UNIONES DOBLES DE OLEFINAS Y (B2) POR LOS MENOS UNA UNION ORGANICA MONOOCEFINA NO SATURADA, FOTOPOLIMERIZABLE, CUYO HOMOPOLIMERIZABLE TIENE UNA TEMPERATURA DE VIDRIO, QUE QUEDA POR DEBAJO DE LA TEMPERATURA AMBIENTAL. (C) POR LOS MENOS UN POTOINICIADOR, ASI COMO (D) MATERIALES ADICIONALES USUALES. LAS CAPAS DE GRABADO SIRVEN PARA OBTENER FORMAS DE FLEXOIMPRESION.

(16/02/1992). Solicitante/s: MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY. Inventor/es: DEVOE, ROBERT, J., LYNCH, DOREEN C.

UN COMPUESTO DE PRECURSORES POLIMERIZABLES DEL POLIURETANO, SUFRE UNA RAPIDA CURACION UTILIZANDO CATALISIS ACTIVADA POR ENERGIA PARA RENDIR POLIURETANO. EL COMPUESTO POLIMERIZABLE CONTIENE POLIISOCIANATOS CON POLIOLES, SATURADORES, ACIDOS COBERTORES, ADYUVANTES Y CATALIZADOR LATENTE. LOS CATALIZADORES LATENTES SON SALES IONICAS DE COMPLEJOS ORGANOMETALICOS CATIONICOS.EL POLIURETANO CURADO ES UTIL PARA RECUBRIMIENTOS ANTIABRASION, BARNICES PROTECTORES PARA ACABADO DE MUEBLES O BALDOSAS PARA SUELOS, ANIONES PARA ELEMENTOS MAGNETICOS, ADHESIVOS, Y TIENE APLICACIONES DIVERSAS EN INDUSTRIAS QUE EMPLEAN TECNOLOGIAS BASADAS EN LA FOTORRESISTIVIDAD, COMO LAS ARTES GRAFICAS ELECTRONICA, Y PRODUCCION DE TINTES Y PINTURAS.

(01/12/1991). Solicitante/s: BASF AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: SANNER, AXEL, HOFMANN,REINER.

PARA LA OBTENCION DE MATERIALES DE REGISTRO FOTOSENSIBLES, ADECUADOS PARA RELIEVES DE IMPRESION O DIBUJOS DE CAPA PROTECTORA, CON UNA CAPA DE REGISTRO, OBTENIBLE EN UNA SOLUCION ALCALINA, FOTOPOLIMERIZABLE, APLICADA SOBRE UN SOPORTE DE DIMENSIONES ESTABLES, QUE COMO AGLUTINANTE POLIMERO CONTIENE AL MENOS UN COPOLIMERIZADO FORMADOR DE PELICULA, NO SOLUBLE EN AGUA, SOLUBLE SIN EMBARGO EN SOLUCIONES ACUOSO-ALCALINAS, O AL MENOS DISPERSABLE, A BASE DE 10 A 50 % DE SU PESO AL MENOS DE UNA N VINILAMIDA, 8 A 30 % DE SU PESO DE ACIDO ACRILICO Y/O ACIDO METACRILICO, Y 30 A 80 % DE SU PESO AL MENOS DE UN COMONOMERO HIDROFOBO, LOS CUALES COMO TALES FORMAN EN AGUA Y EN SOLUCIONES ACUOSO-ALCALINAS HOMOPOLIMERIZADOS INSOLUBLES, POR LO QUE LOS GRUPOS CARBOXI DEL POLIMERIZADO, SON ESTERIFICADOS PARCIALMENTE, POR TRANSFORMACION CON GLICIDIL(MET)ACRILATO.

(01/12/1991). Solicitante/s: BASF AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: SANNER, AXEL, HOFMANN,REINER.

SON ADECUADOS PARA LA OBTENCION DE RELIEVES DE IMPRESION Y DE DIBUJOS DE CAPA PROTECTORA, LOS MATERIALES DE REGISTRO FOTOSENSIBLES, CON UNA CAPA DE REGISTRO FOTOPOLIMERIZABLE, OBTENIBLE EN UNA SOLUCION ALCALINA, APLICADA SOBRE UN SOPORTE DE DIMENSIONES ESTABLES, QUE COMO AGLUTINANTE POLIMERO, CONTIENE AL MENOS UN COPOLIMERIZADO, FORMADOR DE CAPA, INSOLUBLE EN AGUA, SOLUBLE SIN EMBARGO EN UNA DISOLUCION ACUOSO-ALCALINA, O AL MENOS DISPERSABLE, A BASE DE, 10 A 50 % DE SU PESO AL MENOS DE UN HIDROXIALQUIL SU PESO AL MENOS DE UN ALQUIL(MET)ACRILATO, POR LO QUE LOS GRUPOS CARBOXILO DEL COPOLIMERIZADO SON PARCIALMENTE ESTERIFICADOS, POR MEDIO DE LA TRANSFORMACION CON GLICIDIL(MET)ACRILATO.

(01/06/1986). Solicitante/s: DYNACHEM CORPORATION.

MODIFICACION EN UNA COMPOSICION FOTOPOLIMERIZABLE. CONSISTENTE EN: QUE SOBRE LA BSE DE 100 PARTES EN PESO DE LA COMPOSICION FOTOPOLIMERIZABLE SECADA, EL MATERIAL POLIMERIZABLE ESTA PRESENTE EN UNA CANTIDAD QUE VA DESDE 10 A 60 PARTES EN PESO, Y ESTA CONSTITUIDO POR 8 A 25 PARTES DE UN ACRILATO Y DE 8 A 25 PARTES EN PESO DE UNO O MAS COMPUESTOS NO GASEOSOS QUE CONTIENEN, AL MENOS, DOS GRUPOS ETILENICOS TERMINALES Y QUE TIENE UN PUNTO DE EBULLICION DE 100JC. TENIENDO EL ACRILATO LA FORMULA (I) DONDE M ES 2, N ES 2 O 3, R1 ES H Y R2 ES FENILO NO SUSTITUIDO. SE UTILIZA PARA PREPARAR PLANCHAS PARA IMPRESION Y/O EN LA PREPARACION DE UN TABLERO PARA CIRCUITO IMPRESO.

(16/04/1986). Solicitante/s: DYNACHEM CORPORATION.

PROCEDIMIENTO DE MECANIZADO QUIMICO, APLICABLE EN PARTICULAR A PANELES DE CIRCUITO IMPRESO. COMPRENDE LAS SIGUIENTES OPERACIONES: PRIMERA, SE PREPARA UNA COMPOSICION FOTOPOLIMERIZABLE CONSTITUIDA POR 5 A 50 PARTES EN PESO DE UN ACRILATO, POR 5 A 50 PARTES EN PESO DE UNO O MAS COMPUESTOS NO GASEOSOS, POR 0,001 A 20 PARTES EN PESO DE UN SISTEMA INICIADOR DE POLIMERIZACION, POR 0,001 A 5 PARTES EN PESO DE UN INHIBIDOR DE POLIMERIZACION, Y POR 40 A 90 PARTES EN PESO DE UN AGENTE AGLUTINANTE; SEGUNDA, SE ESTRATIFICA LA COMPOSICION FOTOPOLIMERIZABLE FORMADA SOBRE AMBOS LADOS DE UNA HOJA O LAMINA DELGADA METALICA; TERCERA, SE EXPONEN PORCIONES SELECCIONADAS DE LA COMPOSICION FOTOPOLIMERIZABLE A UNA RADIACION ACTINICA Y SE ELIMINAN LAS PORCIONES NO EXPUESTAS; CUARTA, SE ATACA QUIMICAMENTE LAS PORCIONES ELIMINADAS DE LA HOJA PARA FORMAR EL PATRON DESEADO; Y POR ULTIMO, SE SEPARAN LAS PORCIONES EXPUESTAS POR CONTACTO CON UNA SOLUCION ACUOSA.

(01/12/1984). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG.

METODO DE PREPARACION DE IMAGENES.CONSISTE EN EL CALENTAMIENTO DE UNA CAPA SOSTENIDA SOBRE UN SOPORTE, DE UNA COMPOSICION LIQUIDA DE UN AGENTE POLIMERIZANTE LATENTE, TERMOACTIVADO, PARA 1,2-EPOXIDOS Y UN COMPUESTO FOTOSENSNTIVO QUE TENGA, AL MENOS, UN GRUPO 1,2-EPOXIDO Y, AL MENOS UN GRUPO ESTER DE FORMULA CH2FC(R)COOC, EN LA QUE R PUEDE SER MUCHOS RADICALES; EXPOSICION DE LA CAPA A RADIACION ACTINICA; Y ELIMINACION DE LAS PARTES NO POLIMERIZADAS CON UN DISOLVENTE.

(01/09/1983). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG.

PROCEDIMIENTO PARA PRODUCIR UNA IMAGEN POR FOTOPOLIMERIZACION Y FOTORRETICULACION TRANSVERSA. COMPRENDE LAS SIGUIENTES FASES: PRIMERA, SE EXPONE A RADIACION ACTINICA UNA CAPA FORMADA POR UN SOPORTE Y POR UNA COMPOSICION LIQUIDA QUE CONTIENE UN COMPUESTO DE FORMULA (I) QUE INCLUYE EN SU MOLECULA UN GRUPO DE FORMULA (II) Y UN GRUPO DE FORMULA (III); SEGUNDA, SE EXPONE LA CAPA SOLIDIFICADA A TRAVES DE UNA TRANSPARENCIA PORTADORA DE IMAGEN, QUE ESTA CONSTITUIDA POR PARTES OPACAS Y POR PARTES TRANSPARENTES A LA RADICACION ACTINICA; Y POR ULTIMO, SE REVELA LA IMAGEN FORMADA MEDIANTE LA DISOLUCION EN UN DISOLVENTE DE LAS PARTES DE LA CAPA QUE NO SE HAN FOTORRETICULA.

(01/08/1983). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG.

PROCEDIMIENTO PARA LA PRODUCCION DE UNA IMAGEN DE FOTOPOLIMERIZACION Y FOTORRETICULACION TRANSVERSA. COMPRENDE LAS SIGUIENTES OPERACIONES: PRIMERA, SE EXPONE A RADIACION ACTINICA UNA CAPA, SOSTENIDA POR UN SOPORTE, DE UNA COMPOSICION LIQUIDA QUE CONTIENE UN COMPUESTO PORTADOR EN SUS MOLECULAS DE UN GRUPO DE FORMULA (I) Y DE UN GRUPO DE FORMULA (II), PARA QUE SE SOLIDIFIQUE Y SE VUELVA PRACTICAMENTE NO PEGAJOSA A CAUSA DE LA FOTOPOLIMERIZACION; SEGUNDA, SE EXPONE DICHA CAPA SOLIDIFICADA, A TRAVES DE UNA TRANSPARENCIA PORTADORA DE IMAGEN QUE ESTA CONSTITUIDA POR PARTES PRACTICAMENTE OPACAS Y PARTES TRANSPARENTES, A UNA CANTIDAD ESENCIALMENTE MAYOR DE RADIACION ACTINICA; Y POR ULTIMO, SE REVELA LA IMAGEN EN UN DISOLVENTE, MEDIANTE LA DISOLUCION DE LA PARTE O PARTES DE LA CAPA QUE NO SE HAYAN FOTORRETICULADO.

(01/07/1983). Solicitante/s: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT.

PROCEDIMIENTO PARA LA OBTENCION DE UNA MEZCLA POLIMERIZABLE POR RADIACION. CONSISTE EN LA REACCION DE UN COMPUESTO POLIHIDROXILICO QUE TIENE 2 A 6 GRUPOS HIDROXILO CON UN ESCESO DE UN DIISOCIANATO; SEGUIDO DE LA REACCION DEL POLIISOCIANATO FORMADO CON CIMETACRILATO DE GLICERINA O DIACRILATO DE GLICERINA; Y MEZCLA DEL DIURETANO O POLIURETANO OBTENIDO CON UN AGLUTINANTE POLIMERO Y UN INICIADOR DE POLIMERIZACION ACTIBABLE POR RADIACION. ESTAS MEZCLAS TIENEN APLICACIONES PARA LA PREPARACION DE PLANCHAS DE IMPRENTA, FOTOAISLANTES E IMAGENES EN RELIEVE.