CIP-2021 : G03F 7/021 : Compuestos de diazonio macromoleculares; Aditivos macromoleculares, p. ej. aglutinantes.

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G FISICA.

G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.

G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G).

G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).

G03F 7/021 · · · Compuestos de diazonio macromoleculares; Aditivos macromoleculares, p. ej. aglutinantes.

CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.

Placas de impresión sensibles a IR revelables en prensa que utilizan resinas ligantes que tienen segmentos de óxido de polietileno.

(22/06/2016) Una placa de impresión litográfica de trabajo negativo que comprende (a) un sustrato y (b) aplicada al sustrato una capa de trabajo negativo que comprende una composición polimerizable que comprende (i) un compuesto polimerizable, y (ii) un agente ligante polimérico; en donde el agente ligante polimérico comprende segmentos de óxido de polietileno y se selecciona de por lo menos un copolímero de injerto que comprende un polímero de cadena principal y cadenas laterales de óxido de polietileno, un copolímero en bloque que tiene por lo menos un bloque de óxido de polietileno y por lo menos un bloque de óxido de no polietileno, y una combinación de los mismos; …

Composiciones fotosensibles que contienen alcohol polivinílico y su uso en procesos de estampación.

(05/09/2013) Una composicion fotosensible que comprende un primer componente que contiene una resina y un segundocomponente que contiene un sensibilizador, que han de mezclarse conjuntamente, en la que dicho primercomponente es un componente de emulsion que incluye alcohol polivinilico (APV) y una o mas resinas sinteticas,caracterizada porque dicho componente de emulsion comprende, edemas, al menos un reticulante para el APV ydicho segundo componente esta libre de cromo y comprende al menos un gelificante para dicho APV y al menos uncompuesto organic° fotosensible, seleccionandose dicho reticulante de melaminas alquiladas, resinas ureicasalquiladas, iminomelaminas, resinas de benzoguanamina y compuestos de glicolurilo, y seleccionandose…

POLIMEROS DE ACETAL Y SU UTILIZACION EN COMPOSICIONES FOTOSENSIBLES Y PLANCHAS LITOGRAFICAS.

(01/01/2001). Solicitante/s: KODAK POLYCHROME GRAPHICS LLC. Inventor/es: SAVARIAR-HAUCK, CELIN, TIMPE, HANS-JOACHIM, BAUMANN, HARALD, DWARS, UDO.

ESTA INVENCION SE REFIERE A UN AGLUTINADOR QUE CONTIENE LAS UNIDADES A, B, C, D, Y E, EN DONDE A ESTA PRESENTE EN CANTIDAD DE 10 A 60 % EN MOLES Y TIENE LA FORMULA B ESTA PRESENTA EN UNA CANTIDAD DE 1 A 30% EN MOLES Y TIENE LA FORMULA C ESTA PRESENTE EN UNA CANTIDAD DE 5 A 60 % EN MOLES Y TIENE LA FORMULA D ESTA PRESENTE EN UNA CANTIDAD DE 0 A 60% EN MOLES Y TIENE LA FORMULA Y E ESTA PRESENTE EN UNA CANTIDAD DE 1 A 40% EN MOLES Y TIENE LA FORMULA EN DONDE X ES UN GRUPO ESPACIADOR ALIFATICO, AROMATICO O ARALIFATICO, R{SUP,1} ES HIDROGENO O UN GRUPO ALIFATICO, AROMATICO O ARALIFATICO, R{SUP,2}, R{SUP,3} Y R{SUP,4} SON HIDROGENO O GRUPOS ALQUILO CON UN NUMERO DE ATOMOS DE CARBONO DE 1 A 18 E Y ES UNA CADENA SATURADA O INSATURADA O UN GRUPO ESPACIADOR EN FORMA DE ANILLO, Y A COMPOSICIONES FOTOSENSITIVAS QUE CONTIENEN ESTE AGLUTINANTE.

POLIMEROS FOTOSENSIBLES Y PLACAS DE IMPRESION.

(16/12/1997). Solicitante/s: LASTRA S.P.A. Inventor/es: CANESTRI, GIUSEPPE, DE CANDIDO, STEFANO.

UN COMPUESTO DE LA FORMULA (I), EN DONDE R, Y, Y', X, X', R' Y R'' TIENEN LOS SIGNIFICADOS MOSTRADOS EN LA DESCRIPCION; PROCESO PARA LA PREPARACION DEL COMPUESTO DE FORMULA (I) Y PLACAS DE IMPRESION DE OFFSET POSITIVAS O NEGATIVAS PRESENSIBILIDADAS QUE TIENEN UNA CAPA FOTOSENSIBLE QUE COMPRENDE UN COMPUESTO DE FORMULA (I).

MATERIALES SENSIBLES A LA RADIACION.

(01/11/1997). Solicitante/s: DU PONT LIMITED. Inventor/es: WADE, JOHN ROBERT, PRATT, MICHAEL JOHN, MURRAY, DAVID EDWARD, MATTHEWS, ANDREW ERNEST, GATES, ALLEN PETER, KING, WILLIAM ANTONY.

SE PRESENTA UN MATERIAL SENSIBLE A LA RADIACION QUE COMPRENDE PARTICULAS QUE INCLUYEN UN NUCLEO INSOLUBLE EN AGUA Y DEFORMABLE POR LA ACCION DEL CALOR RODEADO POR UNA CUBIERTA QUE ES SOLUBLE EN UN MEDIO ACUOSO. EL MATERIAL TAMBIEN INCLUYE UN COMPONENTE SENSIBLE A LA RADIACION QUE, DESPUES DE SU EXPOSICION A LA RADIACION, PROVOCA QUE LAS CARACTERISTICAS DE SOLUBILIDAD DEL MATERIAL CAMBIE. EL MATERIAL PUEDE SER TRABAJADO POSITIVA O NEGATIVAMENTE Y PUEDE SER RECUBIERTO SOBRE UN SUBSTRATO A PARTIR DE UN MEDIO ACUOSO PARA FORMAR UNA PLACA SENSIBLE A LA RADIACION QUE, DESPUES DE SU EXPOSICION, PUEDE SER REVELADA EN UN MEDIO ACUOSO Y CALENTADA PARA PROVOCAR QUE LAS PARTICULAS SE FUNDAN Y FORMEN UNA IMAGEN DE IMPRESION DURADERA.

MEJORAS EN, O EN RELACION CON MATERIAL SENSIBLE A LA RADIACION.

(16/04/1993). Solicitante/s: E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY (A DELAWARE CORPORATION). Inventor/es: PRATT, MICHAEL JOHN, POTTS, RODNEY MARTIN, FLETCHER, KEITH MALCOLM.

UN MATERIAL SENSIBLE A LA RADIACION ADECUADO PARA LA PRODUCCION DE PLACAS SENSIBLES A LA RADIACION, PARA LA FABRICACION DE PLACAS DE IMPRESION LITOGRAFICA, SE BASA EN UN POLIMERO QUE CONTIENE DIVERSAS UNIDADES ESTRUCTURALES REPRESENTADAS POR LA FORI, EN LA QUE R REPRESENTA HIDROGENO O METILO; CADA R1, QUE PUEDEN SER IGUALES O DIFERENTES, REPRESENTA HIDROGENO O ALQUILO; R2 REPRESENTA UN ENLACE SENCILLO O UN RADICAL DIVALENTE SUSTITUIDO O SIN SUSTITUIR; AR REPRESENTA UN RADICAL DIVALENTE SUSTITUIDO O SIN SUSTITUIR DERIVADO DE UN COMPUESTO AROMATICO O HETEROAROMATICO; X REPRESENTA OXIGENO, AZUFRE O NH; A REPRESENTA UN ANION; Y REPRESENTA UN CARBONILOXI O RADICAL AROMATICO; Y N ES UN ENTERO IGUAL O MAYOR QUE 1.

PROCEDIMIENTO DE OBTENCION DE UNA COMPOSICION FOTOPOLIMERIZABLE NEGATIVA,FILMOGENA,OLEOFILA Y SOLUBLE EN DISOLVENTES ORGANICOS.

(16/04/1982). Solicitante/s: RHONE-POULENC SYSTEMES.

PROCEDIMIENTO PARA OBTENER UNA COMPOSICION FOTOPOLIMERIZABLE NEGATIVA, FILMOGENA, OLEOFILA Y SOLUBLE EN DISOLVENTES ORGANICOS. SE CONSTITUYE POR MEDIO DE UNA RESINA EPOXI, QUE TIENE UN EQUIVALENTE EPOXI INFERIOR A 350; UN PRODUCTO DE REACCION FOTOSENSIBLE, SOLUBLE EN DISOLVENTES ORGANICOS Y SENSIBLEMENTE INSOLUBLE EN AGUA; UN PRODUCTO DE CONDENSACION ORGANICO, Y UN AGENTE DE ACOPLAMIENTO ORGANICO PARA HACER EL PRODUCTO SOLUBLE EN LOS DISOLVENTE ORGANICOS.

UN PROCEDIMIENTO PARA PRODUCIR UN ELEMENTO CAPAZ DE FORMAR IMAGENES.

(16/02/1981). Solicitante/s: MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY.

COMPOSICION DEL REVESTIMIENTO DE PLACAS DE IMPRESION, Y PLACAS DE IMPRESION QUE SON REVELABLES CON DISOLVENTES O CON AGUA. LA COMPOSICION ESTA FORMADA POR UNA MEZLCA HOMOGENEA DE RESINA OLIGOMERA FOTORREACTIVA EN UN 1-75 POR 100 EN PESO, SOLUBLE EN DISOLVENTES INORGANICOS; UNA DIAZORRESINA OLEOFILA AGLUTINANTE EN UN 17-20 POR 100 EN PESO SOLUBLE EN DISOLVENTES ORGANICO; UN SISTEMA FOTOINICIADOR DE RADICALES LIBRES EN UN 0,5-15 POR 100 EN PESO; UN 10-65 POR 100 EN PESO DE COMPUESTOS INSATURADOS POLIETILENICAMENTE, POLIMERIZABLES POR RADICALES LIBRES, Y CON DOS GRUPOS ETILENICAMENTE INSATURADOS AL MENOS, Y UN 5-40 POR 100 EN PESO DE UN POLIMERO SOLUBLE EN DISOLVENTES ORGANICOS Y ABLANDABLE CON AGUA. LA PLACA DE IMPRESION ES DE UN SUSTRATO OLEOFOBO DE ALUMINIO SOBRE EL QUE SE APLICA EL REVESTIMIENTO. DE APLICACION EN PLACAS SENSIBLES A LA LUZ PARA SISTEMAS DE IMPRESION.

MEJORAS INTRODUCIDAS EN EL OBJETO DE LA PATENTE PRINCIPAL NUM. 456.164,POR UN PROCEDIMIENTO PARA LA PREPARACION DE PLANCHAS DE IMPRESION PLANOGRAFICA.

(16/01/1979). Solicitante/s: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT.

Mejoras introducidas en el objeto de la patente principal número 456.164 por: Un procedimiento para la preparación de planchas de impresión planográfica, donde un material registrador que comprende un soporte de aluminio anódicamente oxidado, con una capa de óxido que pesa como mínimo 3 g/m2, y una capa registradora fotosensible dispuesta sobre la capa de óxido, se irradia en forma de imagen con un rayo láser, volviendo así oleófilas y/o insolubles a las porciones irradiadas de la capa registradora, y las zonas no irradiadas de la capa registradora se lavan después con un líquido revelador, cuyas mejoras se caracterizan por que se utiliza una capa registradora que comprende un compuesto diazo soluble en agua, fotoendurecible y de trabajo negativo.

PERFECCIONAMIENTOS INTRODUCIDOS EN ARTICULOS ADECUADOS COMO PLACAS LITOGRAFICAS PRESENSIBILIZADAS.

(01/10/1975). Solicitante/s: MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY.

Perfeccionamientos en artículos adecuados como placas litográficas pre-sensibilizadas que comprenden un substrato dimensionalmente estable, caracterizados porque está dispuesto un recubrimiento sobre por lo menos una superficie del substrato, cuyo recubrimiento comprende como mínimo 50% en peso de una resina diazoica sensible a la luz y no más de aproximadamente 50% en peso de una resina de poliamida, solubles mutuamente.

UN PROCEDIMIENTO PARA LA PREPARACION DE NUEVOS MATERIALES QUE SON CAPAS FOTOSENSIBLES.

(16/05/1975). Solicitante/s: TECHNIQUE D'APPLICATIONS CHIMIQUES ET P. Y STAMB. ,JEAN.

Resumen no disponible.

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