CIP 2015 : C23C 14/22 : caracterizado por el proceso de revestimiento.

CIP2015CC23C23CC23C 14/00C23C 14/22[1] › caracterizado por el proceso de revestimiento.

Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA

C SECCION C — QUIMICA; METALURGIA.

C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.

C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (aplicación de líquidos o de otros materiales fluidos sobre las superficies, en general B05; fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; mecanizado del metal por acción de una fuerte concentración de corriente eléctrica sobre un objeto por medio de un electrodo B23H; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; pinturas, barnices, lacas C09D; esmaltado o vidriado de metales C23D; medios para impedir la corrosión de materiales metálicos, las incrustaciones, en general C23F; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D, C25F; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04; detalles de aparatos de sonda de barrido, en general G01Q; fabricación de dispositivos semiconductores H01L; fabricación de circuitos impresos H05K).

C23C 14/00 Revestimiento por evaporación en vacío, pulverización catódica o implantación de iones del material que constituye el revestimiento (tubos de descarga provistos de medios que permiten la introducción de objetos o de un material para ser expuestos a la descarga H01J 37/00).

C23C 14/22 · caracterizado por el proceso de revestimiento.

CIP2015: Invenciones publicadas en esta sección.

Método de deposición de vapores químicos activado por plasma y aparato para el mismo.

(20/03/2019) Un método de deposición de vapores químicos activada plasmáticamente que comprende las etapas de: - proporcionar un recipiente de vacío que tiene una presión relativamente baja o vacío, al que se proporciona un gas operativo que comprende una mezcla de un gas de descomposición o precursor, un gas reactivo y/o un gas de sublimación, - proporcionar una unidad de descomposición plasmática dentro del recipiente de vacío para descomponer el gas operativo que tiene moléculas complejas en radicales cargados o neutros, teniendo la unidad de descomposición plasmática un ánodo y un cátodo , rodeando el ánodo al cátodo, y teniendo el cátodo un campo magnético intensificador y estando eléctricamente aislado del ánodo circundante, - proporcionar una unidad de procesamiento que incluye una cámara de procesamiento…

Procedimiento para aplicar una capa de aislamiento térmico.

(13/03/2019) Procedimiento para la aplicación de una capa de aislamiento térmico sobre una superficie de sustrato, en el que en el procedimiento se proporciona una cámara de trabajo con un soplete de plasma , se genera un chorro de plasma y se dirige sobre la superficie de un sustrato introducido en la cámara de trabajo, se aplica por medio de Deposición de Vapor Físico de Pulverización de Plasma o de forma abreviada procedimiento-PS-PVD un material de recubrimiento cerámico sobre la superficie del sustrato, siendo inyectado el material de recubrimiento como polvo en el chorro de plasma y siendo evaporado allí parcial o totalmente, caracterizado porque durante la aplicación de la capa de aislamiento térmica en una primera etapa de trabajo se regula la tasa de alimentación del polvo inyectado de tal manera que se evapora una gran parte del polvo inyectado,…

Procedimiento híbrido PVD para la precipitación de capas de cristal mixto.

(20/02/2019). Solicitante/s: WALTER AG. Inventor/es: SCHIER,VEIT, ENGELHART,WOLFGANG.

Procedimiento para la precipitación de capas de cristal mixto monofásicas a partir de óxido de aluminio-cromo sobre un sustrato por medio de procedimientos PVD, caracterizado por que la precipitación de la capa de cristal mixto se lleva a cabo bajo aplicación simultánea i) del procedimiento de atomización catódica pulverización de magnetrón dual o pulverización de magnetrón por impulsos de potencia elevada (HIPIMS), y ii) evaporación en arco voltaico (Arc-PVD), utilizándose para la aplicación del procedimiento de atomización catódica pulverización de magnetrón dual o pulverización de magnetrón por impulsos de potencia elevada (HIPIMS) al menos un objetivo que contiene al menos aluminio, y en caso dado adicionalmente cromo, y utilizándose para la aplicación de la evaporación en arco voltaico (Arc-PVD) al menos un objetivo que contiene al menos cromo.

PDF original: ES-2719104_T3.pdf

Artículos recubiertos de nitruro de cromo en bicapa y métodos relacionados.

(16/01/2019). Solicitante/s: Vergason Technology Inc. Inventor/es: SMITH,RICKY L, FITCH,MARK A, VERGASON,GARY E.

Un artículo que comprende: un sustrato; una primera capa de material de nitruro de cromo localizada sobre el sustrato y que tiene un primer espesor, una primera concentración de cromo uniforme y una primera concentración de nitrógeno uniforme; una segunda capa de material de nitruro de cromo localizada sobre la primera capa de material de nitruro de cromo y que tiene un segundo espesor, una segunda concentración de cromo que aumenta progresivamente escalonada y una segunda concentración de nitrógeno que disminuye progresivamente escalonada; en donde el primer espesor es desde 200 a 1000 nanómetros; y en donde el segundo espesor es desde 100 a 150 nanómetros.

PDF original: ES-2718055_T3.pdf

Método para la producción de artículos manufacturados elastoméricos funcionalizados y artículos manufacturados obtenidos de este modo.

(07/12/2018). Solicitante/s: Wise S.R.L. Inventor/es: MILANI,PAOLO, CORBELLI,GABRIELE, GHISLERI,CRISTIAN, RAVAGNAN,LUCA, MARELLI,MATTIA.

Método de producción de un artículo manufacturado elastomérico funcionalizado eléctrica, químicamente o con respecto a las características de interacción con sistemas biológicos, que comprende un depósito de al menos un material funcional seleccionado de un metal, un óxido u otro compuesto metálico, que comprende la operación de formar dicho depósito mediante la implantación de agregados neutros de dimensiones nanométricas de dicho material funcional en una capa superficial de un material elastomérico, en el que dicha operación de implantación se realiza mediante una técnica de deposición de haz de agregados.

PDF original: ES-2693096_T3.pdf

Método para el tratamiento de tapones de corcho.

(24/01/2018). Solicitante/s: Brentapack S.r.l. Inventor/es: ZAMBELLI,FLORIANO.

MÉTODO PARA LA SANIFICACIÓN / ESTERILIZACIÓN DE TAPONES DE CORCHO, desde los más económicos, provistos de un cuerpo aglomerado y arandelas, hasta los más selectos fabricados de corcho natural de gran calidad, utilizado en el encapsulado de botellas. estando dicho método caracterizado por que hace que sea posible aplicar una película, que tiene una estructura reticulada morfológicamente de menor tamaño que las células de corcho, sobre la superficie de las células de corcho del tapón y sobre la superficie externa del mismo, tal como para permitir el paso de oxígeno.

PDF original: ES-2665823_T3.pdf

Sistema de capas así como procedimiento de recubrimiento para la producción de un sistema de capas.

(03/01/2018). Solicitante/s: Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon. Inventor/es: ERKENS, GEORG, VETTER, JORG, DR..

Sistema de capas para la formación de una capa superficial sobre una superficie de un sustrato , en particular sobre la superficie de una herramienta de conformación, caracterizado por que el sistema de capas comprende al menos una primera capa superficial de la composición - (V97Zr3)α(N)β - (V97Zr3)α(N50C50)β - (V95Ni5)α(N65C30O5)β - (V96Ce4)α(N25C65O10)β - (V97Zr1Si1B1)α(N)β , con la suma de todos los átomos en la capa (α+β) ≥100 % en at., aplicándose 40 ≤ α ≤ 80 % en at.

PDF original: ES-2663533_T3.pdf

Cuerpo poroso de descontaminación de un fluido, y procedimiento para su obtención.

(15/11/2017). Solicitante/s: Dioum, Serigne. Inventor/es: DIOUM,SERIGNE.

Producto de descontaminación de un fluido, que comprende, por una parte, un cuerpo poroso que comprende un componente carbonado y presenta una superficie específica externa e interna y, por otra parte, una capa metalizada de espesor como máximo nanométrico que recubre al menos una parte de la superficie específica externa e interna del cuerpo poroso , comprendiendo la capa metalizada al menos un metal pesado de masa atómica superior o igual a la del cobre y del silicio, estando unidos el metal pesado y el silicio de la capa metalizada al componente carbonado del cuerpo poroso mediante uniones químicas que resultan de la acción de fuerzas intramoleculares de manera a constituir unos componentes de tipo carburos de siliciuros de metal.

PDF original: ES-2659882_T3.pdf

MÉTODO DE NANOMODULACIÓN DE PELÍCULAS METÁLICAS MEDIANTE PULVERIZACIÓN CATÓDICA DE METALES EN ALTO VACÍO Y PLANTILLAS.

(18/05/2017). Solicitante/s: UNIVERSIDAD DE SANTIAGO DE CHILE. Inventor/es: ESCRIG MURUA,Juan Eduardo, PALMA SOLORZA,Juan Luis, CASAGRANDE DENARDIN,Juliano.

La presente invención se refiere a un método de nanomodulación de películas metálicas mediante pulverización catódica de metales en alto vacío y plantillas de Al anodizado. Como ejemplo de uso de estas películas metálicas nanomoduladas, se analiza la síntesis u obtención de una película magnéticamente blanda mediante pulverización catódica - que puede ser usada como sensor de campo magnético, y una plantilla nanomodulada metálica.

Método de deposición por vapor.

(14/09/2016) Un proceso de química combinatoria en el que se vaporiza material desde cada una de al menos dos fuentes y se deposita sobre un único sustrato , en el que: el trayecto del material vaporizado desde cada fuente al sustrato está parcialmente interrumpido por una máscara asociada, en donde hay una única máscara para una fuente dada; el posicionamiento de la máscara en un plano paralelo al plano definido por el sustrato es tal que el material se deposita sobre el sustrato en un grosor que se incrementa sustancialmente de manera continua en una dirección a lo largo del sustrato ; un plano adicional está definido por el centro de la fuente asociado a esa máscara y el centro del sustrato , y que interseca un borde de la máscara ; …

Método para la producción de un cable metálico revestido con una capa de latón.

(13/04/2016) Un método para producir un cable metálico revestido que comprende un núcleo de acero y una capa de revestimiento fabricada de un material de aleación metálica que incluye al menos un primer componente metálico y al menos un segundo componente metálico, seleccionándose dichos primer y segundo componentes metálicos de la capa de revestimiento del grupo que consiste en cobre, cinc, manganeso, cobalto, estaño, molibdeno, hierro, níquel, y aluminio, comprendiendo el método las etapas de: a. transportar dicho núcleo de acero a lo largo de una trayectoria predeterminada de una manera esencialmente continua, estando situada dicha trayectoria predeterminada en las proximidades de al menos un cátodo fabricado de dicho material de aleación metálica que…

Procedimiento de revestimiento.

(16/03/2016). Ver ilustración. Solicitante/s: TARAGENYX LIMITED. Inventor/es: AHMED,REHAN, MARKX,GERARDUS HENDRICUS.

Un procedimiento de revestimiento de un artículo que comprende las etapas de: proporcionar un polvo que comprende partículas revestidas; y revestir por pulverización el polvo sobre una superficie de dicho artículo para formar un revestimiento de material compuesto; en donde las partículas revestidas consisten en un núcleo de fosfato de calcio, un revestimiento de metal y un agente bioactivo incorporado en las partículas revestidas.

PDF original: ES-2571233_T3.pdf

Sistema de administración de fármacos y procedimiento de fabricación del mismo.

(23/02/2016) Procedimiento de producción de un sistema de administración de fármacos, que comprende las etapas de: (a) seleccionar una primera sustancia de fármaco; (b) depositar la primera sustancia farmacológica sobre al menos una zona de la superficie de un producto sanitario a fin de formar una primera capa de fármaco depositado; (c) formar un primer haz de iones de clúster de gas en una cámara de vacío; (d) posicionar al menos una zona de la superficie del producto sanitario en la cámara de vacío para irradiación mediante el primer haz de iones de clúster de gas; (e) irradiar la primera capa de fármaco depositado…

FUENTE DE EVAPORACIÓN PARA EL TRANSPORTE DE PRECURSORES QUÍMICOS, Y MÉTODO DE EVAPORACIÓN PARA EL TRANSPORTE DE LOS MISMOS QUE UTILIZA DICHA FUENTE.

(03/07/2014). Ver ilustración. Solicitante/s: ABENGOA SOLAR NEW TECHNOLOGIES, S.A. Inventor/es: DELGADO SÁNCHEZ,José María, SÁNCHEZ-CORTEZÓN,Emilio, SANCHO MARTÍNEZ,Diego, MARQUEZ PRIETO,José Antonio.

La invención presenta una fuente de evaporación para el transporte de precursores químicos, hasta un sustrato en el cual se realiza la deposición de éstos mediante condensación, formada por un tubo principal que alberga en su parte inferior a los precursores, y que tiene medios de calentamiento . En la parte superior del tubo principal se dispone una entrada y una salida para gases portadores, estando situadas en la superficie lateral del tubo principal , opuestas la una frente a la otra y alineadas a lo largo de una línea común que atraviesa transversalmente la superficie lateral del tubo principal . La invención adicionalmente presenta un método de evaporación para el transporte de precursores químicos, en el que la introducción y extracción de los gases portadores del tubo principal se realizan alineados en dirección transversal a la superficie lateral de éste.

Cámara de vacío en una base estructural para instalaciones de revestimiento.

(12/03/2014) Cámara de vacío para instalaciones de revestimiento, en la que se disponen elementos funcionales en la cámara, donde la cámara comprende una armadura de cámara y planchas de inserción implantadas de modo mecánicamente separable y estanco en la armadura y algunas de las planchas de inserción llevan elementos funcionales, caracterizada por que la armadura de la cámara incluye por lo menos una base provista de brazos, conformada en una plancha metálica de una pieza, donde los brazos se han doblado en la región de la unión a la base de tal modo que formen los pilares de la armadura de la cámara.

APARATO Y METODO PARA REVESTIR UN SUSTRATO.

(21/10/2010) Un aparato para revestir un substrato usando deposición física de vapor, que comprende una cámara de vacío en la que se coloca una bobina para mantener una cantidad de material conductor en levitación y para calentar y evaporar ese material, usando una corriente eléctrica variable en la bobina , en el que se colocan medios en la bobina para aislar la bobina del material levitado, y en el que los medios de aislamiento son parte de un recipiente hecho de material no conductor, teniendo el recipiente por lo menos una abertura para guiar el material conductor evaporado hacia el substrato que se va a revestir, caracterizado porque el recipiente ha…

SUSTRATO REVESTIDO CON UNA CAPA DE PROTECCION TEMPORAL Y PROCEDIMIENTO PARA SU FABRICACION.

(04/05/2010) Procedimiento para fabricar un sustrato revestido , en el que se aplica sobre el sustrato al menos una capa funcional por deposición química o física de un material de revestimiento desde la fase de vapor y se aplica una capa de protección temporal sobre al menos una capa funcional , caracterizado porque se evapora cloruro sódico para la aplicación de la placa de protección temporal

PROCEDIMIENTO PARA PREPARAR PARTICULAS DE FARMACO REVESTIDAS Y FORMULACIONES FARMACEUTICAS DE LAS MISMAS.

(01/08/2006). Ver ilustración. Solicitante/s: UNIVERSITY OF FLORIDA. Inventor/es: TALTON, JAMES, D., HOCHHAUS, GUENTHER, SINGH, RAJIV, K., FITZ-GERALD, JAMES M., NAVY RESEARCH LABORATORY.

Un medicamento que comprende una pluralidad de partículas de fármaco revestidas, conteniendo cada una un tamaño de partícula medio de menos de 500 m de diámetro, comprendiendo la superficie de dichas partículas al menos una primera capa de partículas de revestimiento poliméricas biodegradables y biocompatibles, en las que el grosor medio de dicha capa de revestimiento está entre 1 y 500 nm, pudiendo obtenerse las partículas de fármaco revestidas a través de un proceso que comprende depositar dichas partículas de revestimiento poliméricas sobre la superficie de partículas de fármaco huésped por un proceso que comprende una ablación por láser por pulsos.

PROCEDIMIENTO DE RECUBRIMIENTO DE UNA GOMA DE LIMPIAPARABRISAS.

(16/06/2006). Solicitante/s: ROBERT BOSCH GMBH. Inventor/es: VOIGT, JOHANNES, LEUTSCH, WOLFGANG, RAUSCHNABEL, JOHANNES, FORGET, JEANNE.

La invención se refiere a un procedimiento para el revestimiento de una rasqueta limpiaparabrisas de caucho hecha de un material elastomérico. Según el procedimiento de la invención, el revestimiento se lleva a cabo por medio de un proceso CVD y/o por medio de un proceso PVD durante los cuales los vapores que recubren el material se generan y se activan utilizando técnicas térmicas, de plasma y/o láser. Se forman capas protectoras resistentes al desgaste que exhiben buenas características de deslizamiento sobre la superficie de la rasqueta limpiaparabrisas de caucho.

PROCEDIMIENTO PERFECCIONADO DE REVESTIMIENTO DE UN SOPORTE CON UN MATERIAL.

(16/03/2006) Procedimiento de revestimiento de un soporte que comprende un primer material por una capa de revestimiento que comprende un segundo material, comprendiendo por lo menos una fase (A, A’) de depósito de una capa de espesor dado de material coherente sobre la superficie del soporte durante la cual se utiliza una fuente de plasma situada en un plasma ambiente, caracterizado porque cada fase (A, A’) de depósito de material es seguida de una fase (B, B’) de exposición del soporte y de la capa de material depositado a una pulsación de duración limitada de un bombardeo de iones de alta densidad de energía de nivel de densidad de energía elegido, siendo la duración de…

PROCEDIMIENTO Y APARATO PARA REVESTIR UN SUBSTRATO.

(01/07/2005). Solicitante/s: RECHERCHE ET DEVELOPPEMENT DU GROUPE COCKERILL SAMBRE, EN ABREGE: RD-CS. Inventor/es: VANDEN BRANDE, PIERRE, WEYMEERSCH, ALAIN, LUCAS, STEPHANE.

PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA LA FORMACION DE UN REVESTIMIENTO SOBRE UN SUSTRATO QUE SE DESPLAZA A TRAVES DE UN RECINTO , CONSISTIENDO ESTE PROCEDIMIENTO EN FORMAR EL REVESTIMIENTO POR UNA EVAPORACION SEGUIDA DE UNA CONDENSACION Y POR UNA PULVERIZACION CATODICA SIMULTANEA DE ESTE ELEMENTO A PARTIR DE UNA DIANA SOBRE EL SUSTRATO Y EN AJUSTAR LA RELACION DE LAS CANTIDADES DEL ELEMENTO QUE SE EVAPORAN Y PULVERIZAN SIMULTANEAMENTE ACTUANDO SOBRE EL APORTE DE ENERGIA A LA DIANA.

NANOMATERIAL.

(01/04/2004). Ver ilustración. Solicitante/s: COUNCIL FOR THE CENTRAL LABORATORY OF THE RESEARCH COUNCILS. Inventor/es: EASTHAM, DEREK.

Método para hacer un nanomaterial en forma de película delgada, comprendiendo el método el paso de depositar simultáneamente átomos de una sustancia ferromagnética junto con agregados de una sustancia amagnética sobre una superficie, produciendo con ello un nanomaterial en forma de película delgada que comprende una matriz policristalina de granos de la sustancia ferromagnética rodeados por agregados de átomos de la sustancia amagnética.

METODO PARA FORMAR CAPAS DE METALES, OXIDOS METALICOS Y ALEACIONES METALICAS SOBRE MEMBRANAS POLIMERICAS CONDUCTORAS DE IONES.

(01/12/2002). Solicitante/s: DE NORA S.P.A.. Inventor/es: ALLEN, ROBERT J., GIALLOMBARDO, JAMES, R.

METODO DE REVESTIMIENTO DE ELECTROLITOS POLIMERICOS SOLIDOS U OTRAS SUPERFICIES POLIMERICAS CONDUCTORAS DE IONES, CON UNA PELIUCLA FINA DE AL MENOS UN METAL, ALEACION METALICA, OXIDO METALICO U OXIDOS METALICOS MIXTOS, SOMETIENDO DICHAS SUPERFICIES CONDUCTORAS DE IONES A UN HAZ DE ELECTRONES DE BAJA ENERGIA, PARA LIMPIAR LA MISMA Y, A CONTINUACION, SOMETER LAS SUPERFICIES LIMPIADAS BAJO VACIO, A UN HAZ DE ELECTRONES DE ALTA ENERGIA QUE CONTIENE IONES DEL METAL QUE SE VA A DEPOSITAR PARA FORMAR DICHA PELICULA FINA. LOS MATERIALES PREPARADOS UTILIZANDO DICHO METODO, PRESENTAN VENTAJAS EN APLICACIONES ELECTROQUIMICAS Y BASADAS EN MEMBRANAS.

DISPOSITIVO PARA EL TRATAMIENTO SUPERFICIAL POR PLASMA DE PIEZAS DE TRABAJO.

(16/09/2001). Ver ilustración. Solicitante/s: STRAMKE, SIEGFRIED, DR.. Inventor/es: STRAMKE, SIEGFRIED, DR..

EN UN DISPOSITIVO PARA MECANIZAR Y TRATAR SUPERFICIALMENTE CON PLASMA PIEZAS DE TRABAJO SE HAN REUNIDO EN UN APARATO UNA CAMARA DE MECANIZACION PARA MECANIZAR PIEZAS DE TRABAJO Y UNA CAMARA DE TRATAMIENTO PARA EL TRATAMIENTO SUPERFICIAL CON PLASMA DE LAS PIEZAS DE TRABAJO. LAS DOS CAMARAS SON ESTANCAS AL GAS FRENTE AL ENTORNO Y ESTAN SEPARADAS ENTRE SI MEDIANTE UNA PUERTA ESTANCA AL GAS. DE ESTA FORMA PUEDEN MECANIZARSE PIEZAS DE TRABAJO EN LA CAMARA DE MECANIZACION POR MEDIO DE UNA HERRAMIENTA CON EXTRACCION DE VIRUTAS, MIENTRAS LA PUERTA ESTA CERRADA. DESPUES DE LA MECANIZACION SE IGUALAN LOS ESTADOS EN LAS DOS CAMARAS , POR MEDIO POR EJEMPLO DE INTRODUCIR EN LA CAMARA DE MECANIZACION EL MISMO GAS QUE EN LA CAMARA DE TRATAMIENTO . DESPUES DE ALCANZARSE UN EQUILIBRIO DE PRESION ENTRE LAS DOS CAMARAS , SE ABRE LA PUERTA POR DESPLAZAMIENTO Y SE INTRODUCEN LAS PIEZAS DE TRABAJO EN LA CAMARA DE TRATAMIENTO.

METODO Y DISPOSITIVO PARA QUITAR EL EXCESO DE MATERIAL EN UNA CAMARA DE DEPOSITO FISICO DE VAPOR.

(01/10/1996). Solicitante/s: APPLIED MATERIALS, INC.. Inventor/es: MAYDAN, DAN, SOMEKH, SASSON.

METODO PARA LA LIMPIEZA EN SITU DEL EXCESO DEL MATERIAL DEPOSITADO EN EL ANODO, EN UNA CAMARA DE DEPOSICION FISICA DE VAPOR , DURANTE UN CICLO DE LIMPIEZA, EN LA QUE SE HA EFECTUADO EL VACIO EN DICHA CAMARA . UNA MEZCLA DE GAS QUE INCLUYE UN GAS REACTIVO, SE INTRODUCE DENTRO DE LA CAMARA DE DEPOSITO FISICO DE VAPOR . EL GAS REACTIVO SE ACTIVA MEDIANTE LA DESCARGA DE PLASMA. DURANTE LA LIMPIEZA, LA MEZCLA DE GAS ES CAMBIADA DE FORMA CONTINUA EN LA CAMARA DE DEPOSICION DE VAPOR , JUNTO CON LOS PRODUCTOS DE REACCION.

METODO PARA PREPARAR UN BLINDAJE PARA REDUCIR LAS PARTICULAS EN UNA CAMARA FISICA DE DEPOSITACION DE VAPOR.

(01/11/1995). Solicitante/s: APPLIED MATERIALS, INC.. Inventor/es: MINTZ, DONALD M., GILBOA, HAIM, TALIEH, HUMOYOUN.

EN UN METODO PARA PREPARAR UN BLINDAJE PARA SU USO EN UN PROCESO FISICO DE DEPOSITACION DE VAPOR, EL BLINDAJE SE LIMPIA MEDIANTE UN PROCESO DE EROSION POR ACIDO PARA INCREMENTAR LA ADHESION DE LOS DEPOSITOS EN EL PROCESO FISICO DE DEPOSITACION DE VAPOR. LA LIMPIEZA MEDIANTE EROSION POR ACIDO SIRVE PARA DESPRENDER LA CONTAMINACION QUE PODRIA FORMAR UNA BARRERA DE DIFUSION Y EVITAR QUE LOS DEPOSITOS SE UNIERAN AL BLINDAJE. TAMBIEN LA LIMPIEZA MEDIANTE EROSION POR ACIDO CREA UN ALTO GRADO DE MICRORUGOSIDADES. LA ASPEREZA PERMITE UN INCREMENTO EN LOS LUGARES DE NUCLEACION QUE MINIMIZA LA FORMACION DE ESPACIOS VACIOS INTERMEDIOS. ADEMAS DE SER LIMPIADO MEDIANTE UN PROCESO DE EROSION POR ACIDO, EL BLINDAJE PUEDE EXPONERSE A LA ACCION DE UN CHORRO DE PARTICULAS. LA EXPOSICION AL CHORRO DE PARTICULAS HACE LA SUPERFICIE DEL BLINDAJE IRREGULAR. TODO ELLO MEJORA LA SEPARACION DE LA SUPERFICIE DE CONTACTO DEL MATERIAL DEPOSITADO EN UNA ESCALA MICROSCOPICA, DANDO COMO RESULTADO UN MENOR DESMENUZAMIENTO.

PROCEDIMIENTO DE PRODUCCION DE ESTRATOS DE GRAN DUREZA SOBRE MATERIALES METALICOS REFRACTARIOS, ASI COMO SOBRE SUS ALEACIONES.

(01/07/1995). Solicitante/s: REPENNING, DETLEV, DR. Inventor/es: REPENNING, DETLEV, DR.

SE PROPONE UN PROCEDIMIENTO PARA LA PRODUCCION DE ESTRATOS DE GRAN DUREZA SOBRE MATERIALES METALICOS REFRACTARIOS. PARA ELLO, EL MATERIAL SE ENDURECE CON UN TRATAMIENTO DE ENDURECIMIENTO POR DIFUSION, A CONTINUACION DE LO CUAL SE LO PROVE CON, AL MENOS, UNA CAPA DE MATERIAL DURO SEGUN UN PROCEDIMIENTO DE PVD.

CONTROL DEL PROCESO DE DEPOSICION DE PELICULA DELGADA POR PLASMA.

(16/11/1994). Solicitante/s: THE BOC GROUP, INC.. Inventor/es: FELTS, JOHN T., LOPATA, EUGENE S.

EN UN PROCESO PARA DEPOSICION DE UNA PELICULA DELGADA EN UNA SUPERFICIE DE UN SUBSTARTO CON EL USO DE UN PLASMA, DONDE SE CONTROLA LA EMISION OPTICA DEL PLASMA, SE ANALIZA, Y LOS RESULTADOS SE UTILIZAN, PARA CONTROLAR AUTOMATICAMENTE LA NATURALEZA DEL PLASMA, A FIN DE CONTROLAR LAS CARACTERISTICAS DE LA PELICULA DELGADA DEPOSITADA. UN ASPECTO DE LA EMISION QUE SE DETECTA ES LA INTENSIDAD DE CADA UNA DE LAS 2 LINEAS DE EMISION DE BANDAS A LONGITUDES DE ONDA DIFERENTES DE LAS MISMAS ESPECIES DEL PLASMA, ESTANDO RELACIONADAS LAS INTENSIDADES, Y LA RELACION COMPARADA CON UN VALOR CONOCIDO PREDETERMINADO, PARA PROPORCIONAR UNA PELICULA RESULTANTE CON CARACTERISTICAS UNIFORMES Y REPETIDAS. ESTA RELACION TAMBIEN ESTA RELACIONADA CON LA TEMPERATURA ELECTRONICA MEDIA DEL PLASMA, QUE SE PUEDE CALCULAR A PARTIR DE ELLA. ADEMAS, LA INTENSIDAD DE OTRA LINEA DE EMISION DE OTRA DE LAS ESPECIES DEL PLASMA, SE PUEDE MEDIR Y RELACIONAR CON UNA DE LAS INTENSIDADES DE LINEA PRECEDENTES, SI SE DESEA CONTROL ADICIONAL.

DISPOSITIVO PARA LA REDUCCION DE LA FLEXION DE PAREDES EXTERIORES EN RECEPTACULOS DE VACIO.

(16/11/1994). Solicitante/s: LEYBOLD AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: PAWLAKOWITSCH, ANTON, DR., SCHONHERR, BERNHARD, DIPL.-ING.

DISPOSITIVO PARA LA REDUCCION DE LA FLEXION, ESENCIALMENTE DE PAREDES EXTERIORES PLANAS EN UNA CALDERA DE VACIO BAJO CONDICIONES DE SERVICIO, Y PARA EVITAR DESPLAZAMIENTOS, COMO CONSECUENCIA DE ELLO, EN ELEMENTOS CONSTITUTIVOS FIJADOS A ESTAS PAREDES EXTERIORES , COMO POR EJEMPLO RODILLOS DE INVERSION DE UN DISPOSITIVO DE ARROLLAMIENTO MOVIL FRENTE A LA CALDERA DE VACIO EN UNA INSTALACION DE REVESTIMIENTO DE CINTA AL VACIO, EN EL QUE SE HAN PREVISTO PIEZAS SEPARADORAS ENTRE DOS PAREDES EXTERIORES OPUESTAS.

METODO Y APARATO PARA FORMAR O MODIFICAR BORDES CORTANTES,.

(01/08/1993). Solicitante/s: THE GILLETTE COMPANY. Inventor/es: BACHE, ROGER JOHN, PARKER, COLIN FRANCIS.

SE PRESENTA UN METODO PARA FORMAR O MODIFICAR LOS BORDES CORTANTES DE HOJAS AFEITADORES Y UN APARATO PARA LLEVAR A CABO EL METODO. EL METODO COMPRENDE LA EXPOSICION DE UNA PILA DE HOJAS DE AFEITAR A UN BOMBARDEO DE IONES DE DOS FUENTES DE IONES EN UNA CAMARA DE VACIO ESTANDO LAS FUENTES DE IONES SITUADAS EN LADOS OPUESTOS DE UN PLANO QUE DESCANSA DENTRO DE LA PILA Y PARALELO A LAS SUPERFICIES MAYORES DE LAS HOJAS Y TENIENDO LAS FUENTES DE IONES LOS EJES DE SUS HACES DE IONES DIRIGIDOS A LOS BORDES DE LAS HOJAS AFEITADORES EN LA PILA.

METODO PARA EL TRATAMIENTO TERMICO DE IMANES PERMANENTES DE METAL INCRUSTADO.

(16/07/1993). Solicitante/s: OUTOKUMPU OY. Inventor/es: VEISTINEN, MAURI KALERVO.

EN ESTE METODO LOS IMANES PERMANENTES SE RECUBREN MEDIANTE UN METODO DE REVESTIMIENTO DE GAS EN CONEXION CON EL TRATAMIENTO TERMICO. LOS IMANES PERMANENTES SON DE LA FORMA RE2T14B, DONDE RE ES UN METAL DE TIERRA RARA, T ES UN METAL DE TRANSICION Y B ES BORO, Y EL METODO EMPLEADO PARA EL RECUBRIMIENTO DE LOS IMANES PERMANENTES ES EL METODO DE RECUBRIMIENTO DE IONES.

PROCESO DE APLICACION DE CAPAS SOBRE SUSTRATOS E INSTALACIONES DE RECUBRIMIENTO EN CAPAS AL VACIO PARA LA REALIZACION DEL PROCESO.

(16/12/1991). Solicitante/s: BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: BERGMANN, ERICH, DR..

PARA CONSEGUIR CAPAS MAS DENSAS Y COMPACTAS QUE HASTA AHORA EN EL REVESTIMIENTO EN CAPAS DE SUSTRATOS MEDIANTE PULVERIZACION CATODICA APOYADA EN CAMPOS MAGNETICOS, SE CONDENSA DURANTE LA FORMACION DE LA CAPA UNA CIERTA PARTE DE VAPOR METALICO (OBTENIDO POR EVAPORACION DEL ANODO O CATODO DE UNA DESCARGA DE ARCO VOLTAICO) SOBRE LAS SUPERFICIES DE FUNCION DE LOS SUSTRATOS JUNTO CON EL MATERIAL PULVERIZADO, CONCRETAMENTE UN MINIMO DE 5% DE ATOMOS DEL TOTAL DE COMPONENTE METALICO DE LA CAPA. UNA INSTALACION DE RECUBRIMIENTO EN CAPAS AL VACIO APROPIADA PARA LA EJECUCION DE ESTE PROCESO PRESENTA DENTRO DE UNA CAMARA DE VACIO UN DISPOSITIVO PARA LA EVAPORACION DE UNA PARTE DEL MATERIAL QUE FORMARA LA CAPA POR MEDIO DE UNA DESCARGA DE ARCO VOLTAICO, ASI COMO OTRO DISPOSITIVO PARA LA PULVERIZACION APOYADA POR CAMPO MAGNETICO DE OTRA PARTE DEL MATERIAL QUE FORMARA LA CAPA.

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Patentes más consultadas

 

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