CIP-2021 : C23C 14/35 : por aplicación de un campo magnético, p. ej. pulverización por medio de un magnetrón.

CIP-2021CC23C23CC23C 14/00C23C 14/35[3] › por aplicación de un campo magnético, p. ej. pulverización por medio de un magnetrón.

Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA

C QUIMICA; METALURGIA.

C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.

C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04).

C23C 14/00 Revestimiento por evaporación en vacío, pulverización catódica o implantación de iones del material que constituye el revestimiento.

C23C 14/35 · · · por aplicación de un campo magnético, p. ej. pulverización por medio de un magnetrón.

CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.

Procedimiento para la producción de capas de TIXSI1-xN.

(11/05/2016). Solicitante/s: Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon. Inventor/es: KRASSNITZER,SIEGFRIED, KURAPOV,DENIS.

Método para recubrir una pieza de trabajo con un recubrimiento que comprende por lo menos una capa de TixSi1-x N, en la cual x es ≤ 0,85 y en cuyo caso las capas de TixSi1-xN contienen nanocristales y los nanocristales contenidos tienen un tamaño medio de grano de no más de 15 nm, en donde x es la concentración Ti, que se expresa en % atómico, si sólo se toman los elementos metálicos en consideración, caracterizado por que, para la preparación de la capa de TixSi1-xN, se utiliza un método de pulverización catódica en el que por lo menos un objetivo de TixSi1-xN se utiliza como un objetivo de pulverización catódica; x ≤ 0,85 en % atómico; en la superficie del objetivo del objetivo de pulverización catódica, llega a densidades de corriente de por lo menos 0,2 A / cm2, preferiblemente superiores a 0,2 A/ cm210.

PDF original: ES-2630316_T3.pdf

Revestimiento solar selectivo mejorado de alta estabilidad térmica y proceso para su preparación.

(04/05/2016). Solicitante/s: COUNCIL OF SCIENTIFIC & INDUSTRIAL RESEARCH. Inventor/es: BARSHILIA,HARISH CHANDRA.

Revestimiento solar selectivo mejorado de alta estabilidad térmica, que comprende apilamientos tándem de capas consistentes en una capa intermedia de titanio Ti o cromo seguida por una primera capa absorbedora que comprende aluminio-nitruro de titanio AlTiN, una segunda capa absorbedora que comprende aluminio-oxinitruro de titanio AlTiON depositada sobre la primera capa absorbedora y una tercera capa antirreflectante que comprende aluminio-óxido de titanio AlTiO depositada sobre la segunda capa absorbedora.

PDF original: ES-2583766_T3.pdf

Procedimiento para la fabricación de capas decorativas de material duro por HIPIMS.

(04/05/2016). Solicitante/s: Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon. Inventor/es: KRASSNITZER,SIEGFRIED.

Procedimiento para el revestimiento al menos de zonas parciales de la superficie de un sustrato o para la fabricación de sustratos con una zona de superficie con una capa decorativa de material duro en una cámara de revestimiento, en el que para la fabricación de la capa de material duro se aplica un proceso reactivo HIPIMS, en el que se utiliza al menos un gas reactivo, y se usa al menos un objetivo de un material que puede reaccionar con el gas reactivo durante la realización del proceso HIPIMS, de manera que de este modo se produce un color de capa predeterminado, en el que el proceso HIPIMS se realiza usando pulsos de potencia y/o secuencias de pulsos de potencia con un contenido energético referido a la superficie objetivo de al menos 0,2 Joule/cm2 por pulso de potencia y/o por secuencia de pulsos de potencia , caracterizado por que el objetivo comprende titanio o titanio y aluminio o zirconio.

PDF original: ES-2636867_T3.pdf

MATERIAL TERNARIO DE TITANIO, NIQUEL Y NITRÓGENO.

(14/04/2016). Solicitante/s: UNIVERSIDAD EAFIT. Inventor/es: ARROYAVE FRANCO,Mauricio, PALACIO ESPINOSA,Claudia Constanza, DAVID CARO,Jorge Leon, VELEZ RUIZ,Mario Elkin.

La presente invención comprende un material ternario de Titanio, Níquel y Nitrógeno, que es rico en Nitrógeno en relación con Titanio. Específicamente, en el material de la invención la proporción de átomos de Nitrógeno es al menos 1.5 en relación al Níquel y el Titanio. El material ternario de la invención presenta un espesor que no supera los 500 nanómetros (nm) y una dureza igual o superior a 20 Gpa.

RECUBRIMIENTOS DE METAL NEGRO PLASMÓNICO FABRICADO MEDIANTE DEPOSICIÓN POR PULVERIZACIÓN CATÓDICA A INCIDENCIA RASANTE.

(05/02/2016). Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS (CSIC). Inventor/es: GARCÍA MARTÍN,José Miguel, PALMERO ACEBEDO,Alberto, ÁLVAREZ MOLINA,Rafael.

Recubrimientos de metal negro plasmónico fabricado mediante deposición por pulverización catódica a incidencia rasante. La presente invención se refiere a materiales recubiertos donde el recubrimiento comprende nanoestructuras de un metal seleccionado de oro, plata, paladio, platino, rutenio, rodio, osmio, iridio, cobre, cromo y cualquiera de sus combinaciones, caracterizado porque más del 45% de las nanoestructuras tienen un diámetro inferior 10 a 50 nm, y la distribución de los diámetros de las nanoestructuras tiene una desviación estándar superior a 5 nm en el intervalo de 0 a 50 nm.

PDF original: ES-2558625_B1.pdf

PDF original: ES-2558625_A1.pdf

RECUBRIMIENTOS DE METAL NEGRO PLASMÓNICO FABRICADO MEDIANTE DEPOSICIÓN POR PULVERIZACIÓN CATÓDICA A INCIDENCIA RASANTE.

(07/01/2016). Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS (CSIC). Inventor/es: GARCÍA MARTÍN,José Miguel, PALMERO ACEBEDO,Alberto, ÁLVAREZ MOLINA,Rafael.

La presente invención se refiere a materiales recubiertos donde el recubrimiento comprende nanoestructuras de un metal seleccionado de oro, plata, paladio, platino, rutenio, rodio, osmio, iridio, cobre, cromo y cualquiera de sus combinaciones, caracterizado porque más del 45% de las nanoestructuras tienen un diámetro inferior a 50 nm, y la distribución de los diámetros de las nanoestructuras tiene una desviación estándar superior a 5 nm en el intervalo de 0 a 50 nm.

Depósito en fase de vapor de recubrimiento por inmersión en un plasma de arco a baja presión y tratamiento iónico.

(30/12/2015) Un sistema de recubrimiento que comprende: una cámara de vacío; y un montaje de recubrimiento que incluye: una fuente de vapor que tiene una cara de objetivo con una dimensión larga de fuente de vapor y una dimensión corta de fuente de vapor; un soporte de sustrato para sostener sustratos que van a revestirse de modo que los sustratos estén posicionados en frente de la fuente de vapor, y el soporte de sustrato tiene una dimensión de soporte lineal; un ánodo remoto eléctricamente acoplado al objetivo catódico, y el ánodo remoto tiene una dimensión de ánodo remoto lineal, y la fuente de vapor tiene una dimensión de fuente de vapor lineal; un montaje de cámara catódica que incluye un objetivo catódico,…

Un revestimiento solar selectivo híbrido multicapa para aplicaciones solares térmicas a alta temperatura y un proceso para la preparación del mismo.

(16/12/2015). Solicitante/s: COUNCIL OF SCIENTIFIC AND INDUSTRIAL RESEARCH. Inventor/es: CHANDRA,HARISH BARSHILIA, BASU,JYOTHI BHARATHIBAI, VARA,LAKSHMI RAMACHANDRAPPA.

Un revestimiento solar selectivo híbrido multicapa que comprende una pila en tándem de capas que contienen una capa intermedia de cromo/titanio, una primera capa absorbente de aluminio-nitruro de titanio (AlTiN), una segunda capa absorbente de aluminio-oxinitruro de titanio (AlTiON), una capa antirreflectante de aluminio-óxido de titanio (AlTiO) y una capa barrera de sílice modificada orgánicamente (ormosil), en el que dicho revestimiento exhibe resistencia térmica hasta 500°C en aire y hasta 600°C en vacío con una relación de selectividad solar de 5 a 9.

PDF original: ES-2631680_T3.pdf

IMPLANTES BIOCOMPATIBLES DE TITANIO NANOESTRUCTURADO CON PROPIEDADES ANTIBACTERIANAS.

(29/10/2015). Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS (CSIC). Inventor/es: VALLET REGI,MARIA, ARCOS NAVARRETE,DANIEL, GARCÍA MARTÍN,José Miguel, PALMERO ACEBEDO,Alberto, ÁLVAREZ MOLINA,Rafael, IZQUIERDO BARBA,Isabel.

Se describe un nuevo implante basado en titanio, formado por un recubrimiento de titanio fabricado sobre biomateriales con aplicación en implantología ósea. Las características nanotopográficas de estos implantes inhiben la adhesión bacteriana y la formación de biofilm bacteriano en superficie, presentando de forma simultánea propiedades adecuadas para la adhesión, extensión y proliferación de las células formadoras de hueso. Adicionalmente la invención comprende un método de fabricación del implante mediante técnicas de incidencia oblicua y su uso en implantología ósea.

PROCEDIMIENTO DE FABRICACIÓN DE UN SENSOR DE DETECCIÓN DE HIDRÓGENO Y SENSOR ASÍ FABRICADO.

(02/04/2015). Ver ilustración. Solicitante/s: ABENGOA SOLAR NEW TECHNOLOGIES, S.A. Inventor/es: GARCIA GARCIA,FRANCISCO, BARRANCO QUERO,ANGEL, YUBERO VALENCIA,FRANCISCO, COTRINO BAUTISTA,JOSE, ESPINOS MANZORRO,JUAN PEDRO, RODRIGUEZ GONZALEZ-ELIPE,AGUSTIN, ESPINOSA RUEDA,Guillermo, MARTINEZ SANZ,Noella, CASTILLERO DURÁN,Pedro.

Procedimiento de fabricación de un sensor visual de hidrógeno y sensor así fabricado que permite detectar a simple vista la presencia de gas hidrógeno en el medio debido a un cambio de color en dicho sensor. El procedimiento comprende la deposición de capas finas y porosas de óxidos que no absorben la luz visible en su estado totalmente oxidado que se colorean cuando se reducen parcialmente. Esta deposición se realiza mediante deposición en fase vapor (PVD) en una configuración de ángulo rasante (GLAD). El procedimiento incluye también la preparación de una disolución de un precursor de metal activo capaz de disociar la molécula de hidrógeno y un vector de arrastre y la deposición de esta disolución sobre la capa de óxido con objeto de incorporar dentro de los poros de la capa de óxido una cantidad mínima de metal activo en forma de nanopartículas.

PROCEDIMIENTO PARA LA PREPARACIÓN DE UNA CAPA O MULTICAPA BARRERA Y/O DIELÉCTRICA SOBRE UN SUSTRATO Y DISPOSITIVO PARA SU REALIZACIÓN.

(05/06/2014) Procedimiento para la preparación de una capa o multicapa barrera y/o dieléctrica sobre un sustrato y dispositivo para su realización. La presente invención se refiere a un procedimiento para la preparación de capas barrera y/o dieléctricas sobre un sustrato caracterizado por que comprende las siguientes etapas: (a) limpieza de sustratos, (b) colocación del sustrato en un portamuestras e introducción del mismo en el interior de una cámara de vacío, (c) dosificación en dicha cámara de vacío de un gas inerte y un gas reactivo, (d) inyección en la cámara de vacío de un precursor volátil que tenga al menos un catión del compuesto a depositar, (e) activación de una fuente de radiofrecuencia y activación de al menos un magnetrón, (f) descomposición del precursor volátil por plasma, produciéndose…

Método de fabricación de estructuras de puerta de transistores MOSFET sobre semiconductores III-V.

(23/12/2013) Fabricación de estructuras de puerta de transistores MOSFET sobre semiconductores III-V. Esta invención propone aplicar la pulverización de alta presión de nanoláminas metálicas de escandio y un lantánido y su posterior oxidación por plasma temperatura ambiente sobre sustratos semiconductores III-V, de interés para dispositivos MOSFET, tanto planares como FinFETs. La ventaja de estos semiconductores es que tienen mayor movilidad de portadores en el canal que el Si, mayor transconductancia y menor retardo de conmutación con respecto a la tecnología actual. Se obtienen estructuras MOS funcionales sobre semiconductores alternativos al Si con un óptimo recubrimiento de escalones. Solamente se necesitan tecnologías…

Procedimientos de deposición electroquímica de tasa elevada de un compuesto semiconductor sobre sustratos de gran superficie.

(09/04/2013) Un procedimiento de deposición electroquímica de finas películas sobre unos sustratos individuales,comprendiendo el procedimiento: la conducción de los sustratos individuales hasta el interior de una cámara de vacío para producir unapresión de deposición electroquímica inferior a 66,5 mbarios; y la conducción de los sustratos individuales hasta una cámara de deposición electroquímica y su pasopor un magnetrón plano que pulveriza en continuo un objetivo mediante un gas ionizado a la presiónde deposición electroquímica de manera que se forma una fina película sobre una superficie del sustrato individual, y en el que…

PROCEDIMIENTO DE OBTENCIÓN DE RECUBRIMIENTOS MEDIANTE PULVERIZACIÓN CATÓDICA Y RECUBRIMIENTO OBTENIBLE MEDIANTE DICHO PROCEDIMIENTO.

(31/01/2013). Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS (CSIC). Inventor/es: FORTIO GODINHO,VANDA CRISTINA, FERNÁNDEZ CAMACHO,Mª Asunción.

El objeto de la invención es un procedimiento de obtención de recubrimientos realizado por deposición de capas mediante pulverización catódica con magnetrón en el cual se regula la concentración de gas presente en la atmósfera, la distancia al blanco y la potencia durante la deposición y así controlar la formación de nano-burbujas en la microestructura del recubrimiento obtenido que da lugar a unas determinadas características ópticas como reflectividad y índice de refracción variable. El método permite controlar el índice de refracción manteniendo otras propiedades características del material como composición química, resistencia mecánica y propiedades eléctricas.

UNIDAD DE PULVERIZACIÓN CATÓDICA DE BLANCOS CIRCULARES.

(03/01/2013) Unidad de pulverización catódica de blancos circulares. Unidad de pulverización circular catódica que puede ser utilizada en cualquier cámara de alto vacío y que comprende: - una cabeza refrigerada de soporte del blanco - un cuerpo situado detrás de la cabeza, que contiene un circuito de líquido refrigerante con dos líneas, una de entrada y otra de salida, para la refrigeración de la cabeza , con un único pasamuros de refrigeración de líquido y paso de corriente eléctrica, - un canal de entrada de gas noble a la cabeza - una carcasa exterior o ánodo , y - un tubo de conexión ensamblado por un…

MÉTODO PARA LA FABRICACIÓN DE ESTRUCTURAS DE PUERTA DE TRANSISTORES MOSFET MEDIANTE TÉCNICAS DE PLASMA SIN UTILIZAR GASES CONTAMINANTES.

(12/09/2012) La presente invención se refiere a un método de obtención de estructuras de puerta de transistores MOSFET con la combinación de dos técnicas de depósito por plasma de materiales dieléctricos: Electron Cyclotron Resonance (ECR)) y High Pressure Sputtering (HPS). El depósito de dieléctricos sobre Si con HPS no requiere, durante el proceso de fabricación, de gases con elementos metálicos, habitualmente utilizados cuando se recurre a técnicas convencionales, extremadamente tóxicos y contaminantes y que elevan enormemente los costos de procesado de residuos. Antes de depositar el dieléctrico, se protege el Si con la técnica ECR, con la que se obtiene por nitruración del Si, en atmósfera de N2, una capa muy fina de SiN (5A). Sobre esta capa se deposita con HPS…

DISPOSITIVO Y PROCEDIMIENTO DE FABRICACIÓN DE NANOPARTÍCULAS.

(08/08/2012) Dispositivo y procedimiento de fabricación de nanopartículas. Se describe un dispositivo para fabricar nanopartículas mediante técnicas de bombardeo iónico a varios blancos. Dicho dispositivo constituye una fuente de agregados de más de un material que permite la fabricación de nanopartículas con composición química variable y controlada, de tamaño controlado y también en estructura "core-shell".

Estructura de blanco de magnetrón cilíndrico y aparato para fijar dicha estructura de blanco a un husillo rotatorio.

(23/05/2012) Una estructura de blanco de magnetrón cilíndrico para su uso en un aparato, fijando dicha estructura deblanco de magnetrón cilíndrico a un husillo, estando adaptada dicha estructura de blanco de magnetrón para serrotada y utilizada para el depósito de capas pulverizadas en una diversidad de grandes sustratos, comprendiendodicho aparato: dicho miembro de husillo que incluye un eje hueco que termina en una porción de brida que tiene unasuperficie terminal, incluyendo dicha superficie terminal una junta tórica en una ranura para junta tóricacircular , teniendo dicha porción de brida un diámetro; dicha estructura de blanco cilíndrico ; y una abrazadera…

Sistema de recubirmiento por metalización por bombardeo atómico y procedimiento de revistimiento por metalización por bombardeo atómico.

(09/05/2012) Un sistema de recubrimiento por metalización por bombardeo atómico que comprende: una cámara de vacío; unos medios para generar un vacío en la cámara de vacío; un sistema de alimentación de gas acoplado a la cámara de vacío; un sistema para confinar y guiar un plasma de gas en el interior de la cámara de vacío; un conjunto objetivo de metalización por bombardeo atómico ubicado en el interior de dicha cámara, teniendo el conjunto objetivo una sección transversal externa circular o no circular definida por una superficie exterior del conjunto objetivo; un sistema de formación de plasma de gas para formar el plasma…

Procedimiento para la aplicación mediante plasma iónico de revestimientos de película y dispositivo para llevar a cabo el procedimiento.

(11/04/2012) Dispositivo para la deposición mediante plasma iónico de revestimientos de película multicomponente con una cámara conectada a tierra , un dispositivo anódico situado en la cámara , con medios para generar un campo eléctrico y un campo magnético y con un mecanismo de carrusel planetario situado en el centro de la cámara para soportar los artículos a revestir, en donde el medio para generar el campo magnético contiene dos magnetrones no equilibrados situados uno frente a otro, cada magnetrón no equilibrado tiene polo magnético externo y polo magnético interno dirigidos en sentido contrario, teniendo polaridad opuesta el polo magnético externo de un magnetrón y el polo externo del otro magnetrón, están previstos al menos dos magnetrones de alta velocidad equilibrados refrigerados , teniendo cada magnetrón…

PROCEDIMIENTO DE OBTENCION DE RECUBRIMIENTOS MEDIANTE PULVERIZACION CATODICA Y RECUBRIMIENTO OBTENIBLE MEDIANTE DICHO PROCEDIMIENTO.

(22/09/2011) Procedimiento de obtención de recubrimientos mediante pulverización catódica y recubrimiento obtenible mediante dicho procedimiento.El objeto de la invención es un procedimiento de obtención de recubrimientos realizado por deposición de capas mediante pulverización catódica con magnetrón en el cual se regula la concentración de gas presente en la atmósfera, la distancia al blanco y la potencia durante la deposición y así controlar la formación de nano-burbujas en la microestructura del recubrimiento obtenido que da lugar a unas determinadas características ópticas como reflectividad y índice de refracción variable.…

METODO Y DISPOSITIVO PARA LA PULVERIZACION CATODICA DE MAGNETRON.

(13/05/2010) Instalación de recubrimiento de magnetrón, que consiste en • un primer magnetrón • un sustrato auxiliar , dispuesto entre esta primera fuente de recubrimiento y el área, que se proporciona para el alojamiento del sustrato a recubrir • un magnetrón , en el que el sustrato auxiliar forma un cátodo para este magnetrón • medios para la determinación de la densidad superficial del sustrato auxiliar , caracterizada por que el sustrato auxiliar está previsto para depositar mediante el primer magnetrón sobre el mismo una capa de metal, que presenta un número de masa mayor que el número promedio de masa del material del sustrato auxiliar

PROCEDIMIENTO PVD PARA EL REVESTIMIENTO DE SUSTRATOS MEDIANTE PROYECCION CATODICA DE TIPO MAGNETRON.

(16/04/2007). Solicitante/s: MUNZ, WOLF-DIETER EHIASARIAN, ARUTIUN P. HOVSEPIAR, PAPKEN EH., DR. Inventor/es: MUNZ, WOLF-DIETER, EHIASARIAN, ARUTIUN P., HOVSEPIAR, PAPKEN EH., DR.

Procedimiento PVD para el revestimiento de substratos, en el que después de un tratamiento previo se efectúa un revestimiento mediante proyección catódica, caracterizado porque el substrato es tratado previamente en el vapor de una proyección catódica pulsante, ayudada por campos magnéticos, porque durante el tratamiento previo se usa, para la ayuda por campos magnéticos, una disposición de campos magnéticos del tipo del cátodo de un magnetrón con una intensidad de la componente horizontal delante del blanco de 100 a 1.500 Gauss, y porque la densidad de potencia de la descarga pulsante durante el tratamiento previo está situada por.

DISPOSITIVO PARA RECUBRIR UN SUSTRATO CON AYUDA DE LA DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR.

(01/04/2007). Solicitante/s: BALZERS UND LEYBOLD DEUTSCHLAND HOLDING AG. Inventor/es: SZCZYRBOWSKI, JOACHIM, DR., TESCHNER, GOTZ.

EN UN DISPOSITIVO PARA RECUBRIMIENTO DE UN SUBSTRATO CON LA AYUDA DE PLASMA CVD (FIG.1), SE DISPONE DE UNA FUENTE DE CORRIENTE ALTERNA, QUE SE UNE CON DOS CATODOS MAGNETRON, DONDE UNO DE LOS POLOS DE LA FUENTE DE CORRIENTE ALTERNA ESTA CONECTADO EN UN CATODO Y EN EL OTRO POLO SE CONECTA EL OTRO CATODO A TRAVES DE UNA CONDUCCION DE ABASTECIMIENTO. DISPONIENDOSE CADA UNO DE AMBOS CATODOS EN UN COMPARTIMENTO PROPIO, DONDE CADA COMPARTIMENTO INCLUYE ENTRE ELLOS UN TERCER COMPARTIMENTO CONECTADO A UNA FUENTE DE VACIO. AMBOS COMPARTIMENTOS DISPUESTOS EXTERIORMENTE SE UNEN A TRAVES DE ABERTURAS O ESPACIOS EN LAS PAREDES UNO CON OTRO, DONDE EL SUBSTRATO DISPUESTO EN EL TERCER COMPARTIMENTO ESTA EQUIPADO CON UNA FUENTE CVD, QUE SE CONFIGURA ESENCIALMENTE A PARTIR DE UNA ENTRADA DE GAS REACTIVO Y UN COLIMADOR.

PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE UN REVESTIMIENTO DE SUPERFICIE SELECTIVA SOLAR.

(16/07/2006). Ver ilustración. Solicitante/s: THE UNIVERSITY OF SYDNEY. Inventor/es: ZHANG, QI-CHU, MILLS, DAVID.

REVESTIMIENTO SUPERFICIAL SOLAR SELECTIVO DEPOSITADO EN UN PANEL SOLAR . EL REVESTIMIENTO DE SUPERFICIE CONSISTE EN UNA ESTRUCTURA DE TRES CAPAS CON UNA CAPA INTERNA EN FORMA DE CAPA DE REVESTIMIENTO DE METAL PULIDO REFLECTORA DE LOS RAYOS INFRARROJOS, UNA CAPA DE REVESTIMIENTO QUE ABSORBE LA ENERGIA SOLAR , DEPOSITADA ENCIMA DE LA CAPA DE REVESTIMIENTO REFLECTORA, Y UNA CAPA SUPERFICIAL ANTI-REFLECTANTE . EL REVESTIMIENTO ABSORBENTE SE DEPOSITA COMO CERMET, TIPICAMENTE UN CERMET DE NITRURO DE TUNGSTENO Y ALUMINIO, FORMADO POR DEPOSICION SIMULTANEA DE MATERIAL EN EL PRIMER Y SEGUNDO ELECTRODO METALICO (23 Y 24) EN PRESENCIA DE UN GAS QUE REACCIONA CON EL METAL QUE COMPONE EL SEGUNDO ELECTRODO Y BASICAMENTE NO REACCIONA CON EL METAL QUE FORMA EL PRIMER ELECTRODO , ES DECIR, EL REVESTIMIENTO ABSORBENTE DE LA ENERGIA SOLAR SE FORMA POR DEPOSICION SIMULTANEA DE MATERIALES DEL PRIMER Y SEGUNDO ELECTRODO (23 Y 24) EN PRESENCIA DE UN GAS QUE REACCIONA SOLAMENTE CON EL METAL DE UNO DE LOS ELECTRODOS.

SISTEMA DE CAPAS DE DLC Y PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE UN SISTEMA DE CAPAS DE ESTE TIPO.

(16/05/2006). Ver ilustración. Solicitante/s: UNAXIS BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: MASSLER, ORLAW, PEDRAZZINI, MAURO, WOHLRAB, CHRISTIAN, EBERLE, HUBERT, GRISCHKE, MARTIN, MICHLER, THORSTEN.

Sistema de capas para la protección contra el desgaste, la protección anticorrosiva y para mejorar las propiedades de deslizamiento y similares sobre un sustrato, con una capa adherente para la disposición sobre un sustrato, una capa de transición para la disposición sobre la capa adherente y una capa de DLC o de diamante, caracterizado porque sobre la capa de DLC o de diamante está dispuesta una capa de deslizamiento cuya composición química difiere de la de la capa de DLC o de diamante.

PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA LA FABRICACION DE UN SISTEMA DE CAPAS DLC.

(16/12/2005) Heterociclos bicíclicos de la **fórmula** Ra significa un átomo de hidrógeno o un grupo metilo, Rb significa un grupo fenilo, bencilo ó 1-feniletilo, en los que el núcleo de fenilo está sustituido en cada caso con los radicales R1 a R3, en donde R1 y R2, que pueden ser iguales o diferentes, represen tan en cada caso un átomo de hidrógeno, flúor, cloro, bromo o yodo, un grupo metilo, etilo, hidroxi, metoxi, etoxi, amino, ciano, vinilo o etinilo, un grupo arilo, ariloxi, arilmetilo o arilmetoxi, un grupo metilo o metoxi sustituido con 1 a 3 átomos de flúor, R1 junto con R2, si éstos están unidos a átomos de carbono contiguos, significan…

EVAPORADOR DE ARCO CON GUIA MAGNETICA INTENSA PARA BLANCOS DE SUPERFICIE AMPLIA.

(16/04/2005) Incorporando un ánodo y un cátodo o blanco , del que se obtiene el material evaporado que va a ser suministrado a la pieza a recubrir en el seno de una cámara de vacío, y donde con una guía magnética se intenta que la acción del arco eléctrico sobre el blanco se desplace sobre toda la superficie del mismo, de forma homogénea, la citada guía magnética está constituida mediante dos sistemas magnéticos independientes, un primer sistema magnético constituido por un conjunto de imanes permanentes situados en la periferia del cátodo o blanco , en disposición sensiblemente coplanaria con el mismo, de manera que su imantación es perpendicular a la superficie de dicho blanco , y un segundo sistema magnético constituido por un electroimán , situado en la parte posterior del blanco , alojado en el cuerpo…

INSTALACION PARA DEPOSICION DE PELICULAS DE CARBONO TIPO DAMANTE SOBRE SUBSTRATOS DE ACERO O DE METAL ENDURECIDO Y EL CORRESPONDIENTE METODO IN SITU USANDO RECUBRIMIENTOS DUROS DE METAL/CARBURO DE ESE METAL COMO CAPAS INTERMEDIAS PARA EL MEJORAMIENTO DE LA ADHERENCIA ENTRE PELICU.

(16/03/2005) Instalación para deposición de películas de carbono tipo diamante sobre substratos de acero o de metal endurecido "in situ" usando recubrimientos duros de metal/carburo de ese metal como capas intermedias para el mejoramiento de la adherencia entre películas y substrato. La invención está relacionada con un método de deposición "in situ" de multicapas de recubrimientos duros de W/WC/DLC (tungsteno/carburo de tungsteno/carbono tipo diamante) por el método PVD (Physical Vapor Deposition) de pulverización catódica reactiva asistida por campo magnético (magnetrón sputtering), a partir de un sólo blanco binario de forma circular mitad tungsteno (99.99%)…

MATERIALES MEDICOS RECUBIERTOS CON UN RECUBRIMIENTO DE CARBONO CON ESTRUCTURA DE DIAMANTE.

(16/09/2004). Solicitante/s: FUNDACION INASMET. Inventor/es: GARCIA LUIS,ALBERTO, ALAVA MARQUIEZ,JOSE IÑAKI, GARAGORRI GANTXEGI,NEREA, OATE DE LA PRESA,IÑAKI.

Materiales médicos recubiertos con un recubrimiento de carbono con estructura de diamante. El material médico comprende un material base y un recubrimiento de carbono con estructura de diamante (DLC), opcionalmente dopado con un metal biocompatible, obtenido por depósito sobre el material base, mediante una técnica híbrida de deposición en vacío [PVD-CVD/Magnetron Sputtering]. El material médico es biocompatible, presenta buenas propiedades mecánicas junto con, opcionalmente, una adherencia y estabilidad mejoradas por acción del metal biocompatible, y es adecuado para aplicaciones que requieran estar en contacto con tejidos o células vivas, o con fluidos corporales o biológicos, por ejemplo, prótesis, implantes, sensores, material quirúrgico, etc.

DIANA PARA UN DISPOSITIVO DE PULVERIZACION CON CATODO PARA LA PRODUCCION DE CAPAS DELGADAS.

(16/05/2004). Ver ilustración. Solicitante/s: LEYBOLD SYSTEMS GMBH. Inventor/es: JUNG, MICHAEL, KREMPEL-HESSE, JORG, DR., ADAM, ROLF.

EN UNA PANTALLA PARA UN MECANISMO DE PULVERIZACION DE CATODOS PARA LA FABRICACION DE CAPAS FINAS EN UN SUSTRATO MEDIANTE PLASMA EN UNA CAMARA DE PROCESAMIENTO AL VACIO, REALIZANDOSE LA PANTALLA A MODO DE PLACA, PREFERENTEMENTE DE FORMA CILINDRICA CIRCULAR O PARALELEPIPEDA Y DISPONIENDOSE EN LA CARA OPUESTA AL SUSTRATO DE LA PANTALLA UN SISTEMA MAGNETICO CON FUENTES DE DISTINTA POLARIZACION QUE FORMAN, AL MENOS, UN TUNEL CERRADO DE LINEAS DE CAMPO CURVADAS A MODO DE ARCO, SE PRACTICAN EN LA SUPERFICIE DE LA PANTALLA ORIENTADA HACIA EL SUSTRATO, UNAS RANURAS O MUESCAS FORMADAS POR DOS SECCIONES SEMICIRCULARES Y DOS SECCIONES RECTAS QUE CONSTITUYEN RESPECTIVAMENTE UNA PISTA CERRADA OVAL, DISPONIENDOSE VARIAS DE ESTAS MUESCAS CIRCULARES U OVALADAS A MODO DE PISTA CONCENTRICAMENTE LAS UNAS RESPECTO A LAS OTRAS Y LIMITANDOSE DICHAS MUESCAS POR MEDIO DE DOS SUPERFICIES INCLINADAS PLANAS (4A, 4B; 5A, 5B,...) CON INCLINACIONES IGUALES O DIFERENTES ( AL O BE ) HACIA EL PLANO DEL SUSTRATO E.

PROCEDIMIENTO DE FABRICACION DE UNA CAPA ABSORBENTE PARA COLECTORES SOLARES Y DISPOSITIVO PARA REALIZAR EL PROCEDIMIENTO.

(01/12/2003) LA PRESENTE INVENCION SE REFIERE A UN PROCEDIMIENTO Y UNA PLANTA PARA LA FABRICACION DE UNA CAPA ABSORBENTE CON SELECTIVIDAD ESPECTRAL SOBRE COLECTORES SOLARES QUE PRESENTAN UNA ELEVADA CAPACIDAD DE ABSORCION SOLAR Y UNA BAJA EMITANCIA TERMICA. DICHO PROCEDIMIENTO SE LLEVA A CABO SOBRE UN MATERIAL RECEPTOR MOVIL, ATOMIZANDO METAL EN UNA ZONA DE REVESTIMIENTO , PRESENTE EN UNA CAMARA, UTILIZANDO UNA ATMOSFERA DE PULVERIZACION CATODICA, QUE CONTIENE AL MENOS UN GAS UTILIZADO PARA LA PULVERIZACION CATODICA, PREFERIBLEMENTE ARGON (AR) Y UN GAS REACTIVO, PREFERIBLEMENTE OXIGENO (O). EL METAL FORMA EL CATODO Y EL MATERIAL RECEPTOR FORMA EL ANODO, ENTRE LOS CUALES SE OBTIENE UNA DIFERENCIA DE POTENCIAL Y POR TANTO UN PLASMA, CON LO CUAL SE PRODUCE…

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