Método de producción de una imagen en relieve.
Un método de elaboración de una imagen en relieve, comprendiendo el método:
(a) proporcionar una película que comprende un material capaz de formar imágenes dispuesto sobre una lámina portadora;
(b) formar una imagen de máscara sobre la lámina portadora produciendo zonas expuestas y no expuestas del material capaz de formar imágenes, formando una máscara transferible;
(c) poner la máscara transferible que tiene la imagen de máscara próxima a un material fotosensible y transferir la imagen de máscara al material fotosensible que es sensible a radiación curadora UV, de tal modo que el material capaz de formar imágenes se adhiera más al material fotosensible que a la lámina portadora;
(d) exponer el material fotosensible a la radiación curadora UV a través de la imagen de máscara, formando un artículo con imagen, en el que la imagen de máscara es sustancialmente opaca a la radiación curadora UV; y
(e) revelar el artículo con imagen, formando la imagen en relieve.
Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/US2005/011793.
Solicitante: EASTMAN KODAK COMPANY.
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 343 STATE STREET ROCHESTER NY 14650-2201 ESTADOS UNIDOS DE AMERICA.
Inventor/es: BROWN, DAVID, ALI,M, FOHRENKAMM,ELSIE, HELLER,MICHAEL.
Fecha de Publicación: .
Clasificación Internacional de Patentes:
- B41C1/10 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES. › B41 IMPRENTA; MAQUINAS COMPONEDORAS DE LINEAS; MAQUINAS DE ESCRIBIR; SELLOS. › B41C PROCESOS DE FABRICACION O DE REPRODUCCION DE SUPERFICIES DE IMPRESION (procesos fotomecánicos para producir superficies de impresión G03F; procesos fotoeléctricos para producir superficies de impresión G03G). › B41C 1/00 Preparación de la forma o del cliché. › para la impresión litográfica; Hojas matriz para la transferencia de una imagen litográfica a la forma (B41C 1/055 tiene prioridad; neutralización o tratamientos similares de diferenciación de formas de impresión litográfica B41N 3/08).
- G03F1/76 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 1/00 Originales para la producción por vía fotomecánica de superficies texturadas, p. ej. mascaras, foto-mascaras o reticulas; Máscara en blanco o películas para ello; Contenedores especialmente adaptados a este efecto; Su preparación. › Patrones de máscaras por imagén.
- G03F1/88 G03F 1/00 […] › preparado por los procesos fotográficos para la producción de originales simulando relieve.
- G03F3/06 G03F […] › G03F 3/00 Separación de colores; Corrección de tonos (dispositivos de reproducción fotográfica en general G03B). › por enmascarado.
- G03F7/09 G03F […] › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › caracterizados por detalles de estructura, p. ej. soportes, capas auxiliares (soportes para placas de impresión en general B41N).
- G03F7/20 G03F 7/00 […] › Exposición; Aparellaje a este efecto (dispositivos de reproducción fotográfica de copias G03B 27/00).
PDF original: ES-2569920_T3.pdf
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