PROCEDIMIENTO DE FABRICACIÓN DE UN ACRISTALAMIENTO DOTADO DE UN REVESTIMIENTO MULTICAPA.

Procedimiento de fabricación de un acristalamiento dotado de un revestimiento multicapa,

depositado sobre un sustrato de vidrio mediante pulverización catódica a presión reducida, caracterizado porque se deposita sobre el sustrato al menos una primera capa dieléctrica transparente seguida de la deposición de una capa funcional a base de un material que refleja la radiación infrarroja, porque se deposita sobre dicha capa funcional, en una atmósfera que comprende como máximo un 20% de oxígeno, una primera capa de protección de como máximo 3 nm de espesor geométrico compuesta por un material a base de metal o de semimetal en forma metálica, nitrurada o suboxidada cuya diferencia de electronegatividad con el oxígeno es inferior a 1,9 y cuyo valor de electronegatividad es inferior al del material que refleja la radiación infrarroja, seguida de la deposición, en una atmósfera que comprende como máximo un 50% de oxígeno, de una segunda capa de protección de como máximo 7 nm de espesor geométrico compuesta por un material a base de metal o de semimetal en forma metálica, nitrurada, suboxidada u oxidada cuya diferencia de electronegatividad con el oxígeno es superior a 1,4, y porque se deposita a continuación al menos una segunda capa dieléctrica transparente

La invención se refiere a un procedimiento de fabricación de un acristalamiento dotado de un revestimiento multicapa, depositado sobre un sustrato de vidrio mediante pulverización catódica a presión reducida, adecuado para someterse a un tratamiento térmico a temperatura elevada, tal como una operación de curvado, de recocido o de templado térmico, así como a un acristalamiento dotado de un revestimiento multicapa adecuado para someterse a un tratamiento térmico a temperatura elevada.

Los acristalamientos dotados de un revestimiento multicapa a los que se hace referencia en la presente invención se utilizan para mejorar el aislamiento térmico de las grandes superficies acristaladas y reducir así las pérdidas de energía y los costes de calefacción en época de frío. El revestimiento multicapa es un revestimiento de baja emisividad que reduce la pérdida de calor por radiación infrarroja de gran longitud de onda. Estos acristalamientos también pueden utilizarse como protección solar para reducir el riesgo de sobrecalentamiento excesivo de un espacio cerrado que presenta grandes superficies acristaladas, debido a la insolación y reducir así el esfuerzo de climatización en verano.

Estos acristalamientos están destinados a equipar tanto edificios como vehículos automóviles. En ocasiones es necesario realizar una operación de refuerzo mecánico del acristalamiento, tal como un templado térmico, para mejorar su resistencia a las tensiones mecánicas. En el campo del automovilismo por ejemplo, a menudo es necesario curvar el acristalamiento, concretamente para realizar la conformación de un parabrisas.

En los procesos de fabricación y de conformación de los acristalamientos, existen ciertas ventajas en efectuar estas operaciones de templado y de curvado sobre el sustrato ya revestido en lugar de revestir un sustrato ya conformado. No obstante, estas operaciones se realizan a una temperatura relativamente elevada, temperatura a la que el revestimiento tiende a deteriorarse y a perder sus propiedades ópticas y sus propiedades respecto a la radiación infrarroja.

Se constata que el deterioro del revestimiento multicapa se debe tal vez a una oxidación de la capa destinada a reflejar la radiación infrarroja durante el tratamiento térmico. Una solución propuesta con frecuencia para intentar solucionar este problema y obtener un acristalamiento que tenga las características requeridas tras el tratamiento térmico es prever una capa de metal de sacrificio dispuesta juiciosamente en el interior del revestimiento. Este metal de sacrificio se oxida en lugar de la capa destinada a reflejar la radiación infrarroja al tiempo que la protege.

Un ejemplo de esta solución se propone en la patente EP 233 003 B1 que describe un apilado de capas a base de plata como reflector infrarrojo rodeado de óxido de estaño. Esta patente prevé una capa de metal adicional, seleccionado de aluminio, titanio, zinc y tántalo, depositada sobre la capa de plata, y eventualmente también bajo la plata. Este metal adicional capta el oxígeno y se oxida durante el tratamiento térmico protegiendo así la plata de la oxidación.

En su forma metálica, el metal adicional es absorbente, lo que tiende a reducir la transmisión luminosa del revestimiento. Con vistas a obtener un producto acabado con una alta transmisión luminosa, esta patente propone por consiguiente utilizar la cantidad de metal justa suficiente para proteger la capa de plata a lo largo de todo el tratamiento térmico evitando al mismo tiempo que quede metal adicional absorbente en el producto acabado. La cantidad de metal adicional que debe preverse depende por tanto de la temperatura y de la duración del tratamiento térmico.

Con la solución propuesta por la patente EP 233 003 B1, resulta difícil obtener un producto de calidad constante durante un largo periodo de producción, y, para acristalamientos de forma compleja, puede resultar difícil obtener una calidad uniforme por toda la superficie. Además, cuando hay que curvar o templar acristalamientos de espesores o de formas diferentes, las condiciones de temperatura y de tiempo del tratamiento térmico deben modificarse y es necesario por tanto cambiar el espesor de metal adicional para adaptarse a estas modificaciones de las condiciones de tratamiento.

La invención se refiere a un procedimiento de fabricación de un acristalamiento dotado de un revestimiento multicapa, depositado sobre un sustrato de vidrio mediante pulverización catódica a presión reducida, caracterizado porque se deposita sobre el sustrato al menos una primera capa dieléctrica transparente seguida por la deposición de una capa funcional a base de un material que refleja la radiación infrarroja, porque se deposita sobre dicha capa funcional, en una atmósfera que comprende como máximo un 20% de oxígeno, una primera capa de protección de como máximo 3 nm de espesor geométrico compuesta por un material a base de metal o de semimetal en forma metálica, nitrurada o suboxidada cuya diferencia de electronegatividad con el oxígeno es inferior a 1,9 y cuyo valor de electronegatividad es inferior al de dicho material que refleja la radiación infrarroja, seguida de la deposición, en una atmósfera que comprende como máximo un 50% de oxígeno, de una segunda capa de protección de como máximo 7 nm de espesor geométrico compuesta por un material a base de metal o de semimetal en forma metálica, nitrurada, suboxidada u oxidada cuya diferencia de electronegatividad con el oxígeno es superior a 1,4 y porque se deposita a continuación al menos una segunda capa dieléctrica transparente.

Los valores de electronegatividad de elementos tales como los utilizados en la presente invención son valores medios clasificados según la escala de Pauling y obtenidos a partir de datos termoquímicos. A modo de aclaración, los valores de electronegatividad se retoman más adelante en el presente documento para los diversos elementos siguientes:

**(Ver fórmula)**

Las capas transparentes dieléctricas tienen como finalidad, en primer lugar, reducir la reflexión luminosa del revestimiento por efecto de interferencia, ya que la capa funcional a base de un material que refleja la radiación infrarroja tiende a reflejar también la radiación visible. Favorecen la obtención de un acristalamiento que refleja el infrarrojo con una alta transmisión luminosa. Estas capas dieléctricas transparentes garantizan también una cierta protección de la capa funcional contra las agresiones físicas o químicas externas y la depositada sobre el sustrato desempeña un papel favorable en la adherencia del revestimiento al acristalamiento. Estas capas transparentes dieléctricas actúan también sobre el tono en transmisión y en reflexión del producto obtenido.

Según la invención, el material de la primera capa de protección depositada directamente sobre la capa funcional presenta una afinidad limitada respecto al oxígeno, puesto que la diferencia de electronegatividad con el oxígeno es inferior a 1,9, al tiempo que se mantiene más afín al oxígeno que el material que refleja la radiación infrarroja para evitar el paso de oxígeno a dicho material. Esto es contrario a la enseñanza de la técnica anterior, ya que ésta última nos enseña que hay que proteger la capa funcional mediante una capa afín al oxígeno, tal como Ti o Ta, que va a absorber el oxígeno para evitar que no sea la capa funcional la que se oxida perdiendo de ese modo sus propiedades esenciales.

Se ha encontrado que, de manera sorprendente, la invención proporciona un procedimiento de fabricación que favorece la obtención de un acristalamiento de calidad estable y homogénea. Con el procedimiento según la invención puede obtenerse un acristalamiento dotado de un revestimiento multicapa que es particularmente adecuado para alimentar una cadena de fabricación en la que debe someterse a un tratamiento térmico a temperatura elevada, tal como una operación de curvado, de recocido o de templado térmico. En efecto, incluso aunque las condiciones de duración y de temperatura del tratamiento térmico cambien sensiblemente durante la fabricación o de una campaña de fabricación a otra, estos cambios tendrán claramente menos influencia sobre las propiedades ópticas y caloríficas del acristalamiento acabado que según la técnica anterior, o incluso ninguna influencia si la estructura del revestimiento se elige cuidadosamente. El procedimiento según la invención... [Seguir leyendo]

1. Procedimiento de fabricación de un acristalamiento dotado de un revestimiento multicapa, depositado sobre un sustrato de vidrio mediante pulverización catódica a presión reducida, caracterizado porque se deposita sobre el sustrato al menos una primera capa dieléctrica transparente seguida de la deposición de una capa funcional a base de un material que refleja la radiación infrarroja, porque se deposita sobre dicha capa funcional, en una atmósfera que comprende como máximo un 20% de oxígeno, una primera capa de protección de como máximo 3 nm de espesor geométrico compuesta por un material a base de metal o de semimetal en forma metálica, nitrurada o suboxidada cuya diferencia de electronegatividad con el oxígeno es inferior a 1,9 y cuyo valor de electronegatividad es inferior al del material que refleja la radiación infrarroja, seguida de la deposición, en una atmósfera que comprende como máximo un 50% de oxígeno, de una segunda capa de protección de como máximo 7 nm de espesor geométrico compuesta por un material a base de metal o de semimetal en forma metálica, nitrurada, suboxidada u oxidada cuya diferencia de electronegatividad con el oxígeno es superior a 1,4, y porque se deposita a continuación al menos una segunda capa dieléctrica transparente.

2. Procedimiento según la reivindicación 1, caracterizado porque la primera capa de protección está compuesta por un material cuya diferencia de electronegatividad con el oxígeno es inferior a 1,8, y preferiblemente inferior a 1,7.

3. Procedimiento según una cualquiera de las reivindicaciones 1 ó 2, caracterizado porque la segunda capa de protección está compuesta por un material cuya diferencia de electronegatividad con el oxígeno es superior a 1,6, y preferiblemente superior a 1,8.

4. Procedimiento según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3, caracterizado porque el valor de electronegatividad del material de la primera capa de protección es inferior en al menos 0,05 al del material que refleja la radiación infrarroja.

5. Procedimiento según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 4, caracterizado porque el material de la segunda capa de protección presenta un valor de electronegatividad inferior al valor de electronegatividad del material de la primera capa de protección.

6. Procedimiento según la reivindicación 5, caracterizado porque el material de la segunda capa de protección presenta un valor de electronegatividad inferior en al menos 0,1, preferiblemente en al menos 0,2, al valor de electronegatividad del material de la primera capa de protección.

7. Procedimiento según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 6, caracterizado porque la primera capa de protección es a base de NiCr, preferiblemente a base de una aleación NiCr 80/20.

8. Procedimiento según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 7, caracterizado porque el material de la segunda capa de protección se elige de titanio, aluminio o tántalo, preferiblemente titanio.

9. Procedimiento según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 8, caracterizado porque la primera capa de protección se deposita según un espesor comprendido entre 0,5 nm y 2,5 nm, preferiblemente 0,5 nm y 2 nm, y ventajosamente 0,6 nm y 1,5 nm.

10. Procedimiento según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 9, caracterizado porque la segunda capa de protección se deposita según un espesor comprendido entre 2 nm y 6 nm.

11. Procedimiento según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 10, caracterizado porque se depositan al menos dos capas funcionales a base de un material que refleja la radiación infrarroja seguidas, cada una, por la deposición de primeras y segundas capas de protección y porque se deposita al menos una capa intermedia dieléctrica entre dichas capas funcionales.

12. Procedimiento según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 11, caracterizado porque, para terminar el revestimiento multicapa, se deposita una capa final de protección a base de titanio.

13. Procedimiento de fabricación de un acristalamiento curvo o templado dotado de un revestimiento multicapa, caracterizado porque un sustrato revestido obtenido mediante el procedimiento según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 12 se somete a continuación a una operación de curvado o de templado.

14. Acristalamiento dotado de un revestimiento multicapa, caracterizado porque comprende un sustrato de vidrio sobre el que se deposita al menos una capa funcional a base de un material que refleja la radiación infrarroja, estando la capa funcional o al menos una de las capas funcionales rodeada de al menos una capa dieléctrica transparente, y porque sobre dicha capa funcional se sitúa, en su cara opuesta al sustrato y directamente en contacto con la misma, una primera capa de protección de como máximo 3 nm de espesor geométrico compuesta por un material a base de metal o semimetal en forma metálica, nitrurada o suboxidada cuya diferencia de electronegatividad con el oxígeno es inferior a 1,9 y cuyo valor de electronegatividad es inferior al del material que refleja la radiación infrarroja, seguida de una segunda capa de protección de como máximo 7 nm de espesor geométrico compuesta por un material a base de metal o de semimetal en forma de manera sustancial totalmente oxidada cuya diferencia de electronegatividad con el oxígeno es superior a 1,4 y que es

diferente del material de la capa dieléctrica transparente directamente contigua a la misma.

15. Acristalamiento según la reivindicación 14, caracterizado porque la o al menos una de las primeras capas de protección está compuesta por un material cuya diferencia de electronegatividad con el oxígeno es inferior a 1,8, y preferiblemente inferior a 1,7.

16. Acristalamiento según una cualquiera de las reivindicaciones 14 ó 15, caracterizado porque la o al menos una de las segundas capas de protección está compuesta por un material cuya diferencia de electronegatividad con el oxígeno es superior a 1,6, y preferiblemente superior a 1,8.

17. Acristalamiento según una cualquiera de las reivindicaciones 14 a 16, caracterizado porque el valor de electronegatividad del material de la o de al menos una de las primeras capas de protección es inferior en al menos 0,05 al del material que refleja la radiación infrarroja contigua a la misma.

18. Acristalamiento según una cualquiera de las reivindicaciones 14 a 17, caracterizado porque el material de la o de al menos una de las segundas capas de protección presenta un valor de electronegatividad inferior al valor de electronegatividad del material de la primera capa de protección contigua a la misma.

19. Acristalamiento según la reivindicación 18, caracterizado porque el material de la o de al menos una de las segundas capas de protección presenta un valor de electronegatividad inferior en al menos 0,1, preferiblemente en al menos 0,2, al valor de electronegatividad del material de la primera capa de protección contigua a la misma.

20. Acristalamiento según una cualquiera de las reivindicaciones 14 a 19, caracterizado porque la o al menos una de las capas funcionales es a base de Ag y porque la o dichas primeras capas de protección son a base de una aleación de Ni y de Cr, y la o dichas segundas capas de protección están formadas por óxido de titanio.

21. Acristalamiento curvo o templado dotado de un revestimiento multicapa, caracterizado porque comprende un sustrato de vidrio sobre el que se deposita al menos una capa funcional a base de un material que refleja la radiación infrarroja, estando la capa funcional o al menos una de las capas funcionales rodeada de al menos una capa dieléctrica transparente, y porque sobre dicha capa funcional se sitúa, en su cara opuesta al sustrato y directamente en contacto con la misma, una primera capa de protección de como máximo 3 nm de espesor geométrico compuesta por un material a base de metal o semimetal en forma oxidada o suboxidada cuya diferencia de electronegatividad con el oxígeno es inferior a 1,9 y cuyo valor de electronegatividad es inferior al del material que refleja la radiación infrarroja, seguida de una segunda capa de protección de como máximo 7 nm de espesor geométrico compuesta por un material a base de metal o de semimetal en forma de manera sustancial totalmente oxidada cuya diferencia de electronegatividad con el oxígeno es superior a 1,4 y que es diferente del material de la capa dieléctrica transparente directamente contigua a la misma.

22. Acristalamiento según la reivindicación 21, caracterizado porque la o al menos una de las primeras capas de protección está compuesta por un material cuya diferencia de electronegatividad con el oxígeno es inferior a 1,8, y preferiblemente inferior a 1,7.

23. Acristalamiento según una cualquiera de las reivindicaciones 21 ó 22, caracterizado porque la o al menos una de las segundas capas de protección está compuesta por un material cuya diferencia de electronegatividad con el oxígeno es superior a 1,6, y preferiblemente superior a 1,8.

24. Acristalamiento según una cualquiera de las reivindicaciones 21 a 23, caracterizado porque el valor de electronegatividad del material de la o de al menos una de las primeras capas de protección es inferior al del material que refleja la radiación infrarroja contigua a la misma, y preferiblemente inferior en al menos 0,05.

25. Acristalamiento según una cualquiera de las reivindicaciones 21 a 24, caracterizado porque el material de la o de al menos una de las segundas capas de protección presenta un valor de electronegatividad inferior al valor de electronegatividad del material de la primera capa de protección contigua a la misma.

26. Acristalamiento según la reivindicación 25, caracterizado porque el material de la o de al menos una de las segundas capas de protección presenta un valor de electronegatividad inferior en al menos 0,1, preferiblemente en al menos 0,2, al valor de electronegatividad del material de la primera capa de protección contigua a la misma.

27. Acristalamiento según una cualquiera de las reivindicaciones 21 a 26, caracterizado porque la capa funcional es a base de Ag y porque la o dichas primeras capas de protección son a base de una aleación de Ni y de Cr, y la o dichas segundas capas de protección están formadas por óxido de titanio, y porque al menos una de las capas dieléctricas comprende un óxido a base de zinc, preferiblemente a base de una aleación zinc-estaño.

28. Acristalamiento según una cualquiera de las reivindicaciones 14 a 20, caracterizado porque comprende un sustrato de vidrio sobre el que se depositan sucesivamente al menos una primera capa dieléctrica transparente, una capa funcional a base de plata, una primera capa de protección a base de una aleación de níquel en forma metálica, nitrurada, oxidada o suboxidada, directamente en contacto con la capa funcional, una segunda capa de protección a base de óxido de titanio, depositada sobre y en contacto con la primera capa de

**(Ver fórmula)**

**(Ver fórmula)**

protección, y una segunda capa dieléctrica transparente compuesta por un material diferente del material de la segunda capa de protección directamente contigua a la misma.

**(Ver fórmula)**