APARATO, SISTEMA Y METODO PARA EL TRATAMIENTO DE LA SUPERFICIE DE SUSTRATOS.

Aparato 1 para el tratamiento de superficies de sustratos (2) con medios de transporte (3a') para transportar un sustrato (2) en el plano de transporte (5),

definido por los medios de transporte (3a'), y con por lo menos un medio de transporte (3a'), que es construido con un medio de procesamiento líquido (10) para mojar el sustrato 2 encontrándose el medio de transporte (3a') de tal manera debajo del plano de transporte (5) que entra en contacto directo con el plano de transporte (5) o al menos casi llega hasta el plano de transporte (5) para humedecer la superficie inferior del sustrato 4 con el medio de procesamiento 10 en contacto directo entre los medios de transporte (3a') y la superficie del sustrato (4), estando formado el medio de transporte (3a') como rodillo de transporte (3a'), dispuesto de tal manera que toca el plano de transporte (5), caracterizado por el hecho de que los rodillos de transporte (3a') muestran un diámetro variable con al menos dos áreas (40') de un diámetro mayor, que al menos sobresalen sobre un área (41') de diámetro menor, siendo provistas las dos áreas (40') de un diámetro mayor respectivamente en los lados de los rodillos de transporte (3a')

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/EP2006/012116.

Solicitante: GEBR. SCHMID GMBH & CO..

Nacionalidad solicitante: Alemania.

Dirección: ROBERT-BOSCH-STRASSE 32-34,72250 FREUDENSTADT.

Inventor/es: KAPPLER,HEINZ.

Fecha de Publicación: .

Fecha Concesión Europea: 12 de Mayo de 2010.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • B05C1/02D
  • B05C1/02F
  • B05C1/08E
  • B05C1/10 SECCION B — TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES.B05 PULVERIZACION O ATOMIZACION EN GENERAL; APLICACION DE LIQUIDOS U OTRAS MATERIAS FLUIDAS A SUPERFICIES, EN GENERAL.B05C APARATOS PARA LA APLICACION DE LIQUIDOS U OTROS MATERIALES FLUIDOS A LAS SUPERFICIES, EN GENERAL (aparatos de pulverización, aparatos de atomización, toberas o boquillas B05B; instalaciones para aplicar líquidos u otros materiales fluidos a objetos por pulverización electrostática B05B 5/08). › B05C 1/00 Aparatos en los que un líquido u otro material fluido es depositado sobre la superficie de una pieza por contacto con un elemento portador del líquido u otro material fluido, p. ej. un elemento poroso impregnado de un líquido que va a ser aplicado como revestimiento (B05C 5/02, B05C 7/00, B05C 19/00 tienen prioridad). › el líquido u otro material fluido proviene del interior del rodillo.
  • H01L21/00S2V
  • H01L21/677 SECCION H — ELECTRICIDAD.H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS.H01L DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR (utilización de dispositivos semiconductores para medida G01; resistencias en general H01C; imanes, inductancias, transformadores H01F; condensadores en general H01G; dispositivos electrolíticos H01G 9/00; pilas, acumuladores H01M; guías de ondas, resonadores o líneas del tipo guía de ondas H01P; conectadores de líneas, colectores de corriente H01R; dispositivos de emisión estimulada H01S; resonadores electromecánicos H03H; altavoces, micrófonos, cabezas de lectura para gramófonos o transductores acústicos electromecánicos análogos H04R; fuentes de luz eléctrica en general H05B; circuitos impresos, circuitos híbridos, envolturas o detalles de construcción de aparatos eléctricos, fabricación de conjuntos de componentes eléctricos H05K; empleo de dispositivos semiconductores en circuitos que tienen una aplicación particular, ver la subclase relativa a la aplicación). › H01L 21/00 Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas. › para el transporte, p. ej. entre diferentes estaciones de trabajo.
  • H05K3/00P

Clasificación PCT:

  • B05C1/02 B05C 1/00 […] › para aplicar un líquido u otro material fluido a objetos individuales.
  • B05C1/08 B05C 1/00 […] › utilizando un rodillo.
  • B05C1/10 B05C 1/00 […] › el líquido u otro material fluido proviene del interior del rodillo.
  • B05C1/16 B05C 1/00 […] › solamente sobre determinadas partes de la pieza.
  • B05C13/02 B05C […] › B05C 13/00 Medios para manipular o sostener objetos, p. ej. objetos individuales. › para objetos particulares.
  • H05K3/00 H […] › H05 TECNICAS ELECTRICAS NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR.H05K CIRCUITOS IMPRESOS; ENVOLTURAS O DETALLES DE REALIZACION DE APARATOS ELECTRICOS; FABRICACION DE CONJUNTOS DE COMPONENTES ELECTRICOS (detalles de instrumentos o detalles comparables de otros aparatos no previstos en otro lugar G12B; circuitos de película delgada o de película gruesa H01L 27/01, H01L 27/13; medios no impresos para realizar conexiones con o entre circuitos impresos H01R; envolturas o detalles de realización de tipos particulares de aparatos, ver las subclases apropiadas; procedimientos que sólo comprenden una técnica prevista en otro lugar, p. ej. calefacción, pulverización, ver la subclase apropiada). › Aparatos o procedimientos para la fabricación de circuitos impresos (producción por vía fotomecánica de superficies texturadas, materiales a este efecto o sus originales, aparellajes especialmente adaptados a este efecto, en general G03F; que implican la fabricación de dispositivos semiconductores H01L).

Fragmento de la descripción:

Aparato, sistema y método para el tratamiento de la superficie de sustratos.

Campo de aplicación y estado de la técnica

La invención se refiere a un aparato y un sistema con dichos aparatos para el tratamiento de las superficies de sustratos, con medios de transporte para transportar un sustrato en un plano de transporte definido por medios de transporte y con por lo menos un medio de transporte construido para mojar el sustrato con un medio de procesamiento líquido. La invención también se refiere a un método para mojar una superficie de sustrato con dirección descendente con un medio de procesamiento, ventajosamente en contacto directo o mecánico.

La patente DE 102 25 848 A1 divulga un aparato empleado para eliminar la cubierta de una superficie superior de un sustrato plano. Se rocía solvente mediante unas mangueras inclinadas desde arriba y hacia los sustratos. Los sustratos se localizan en los ejes de transporte y son transportados por los anteriores. Por lo menos un extremo lateral del sustrato se proyecta sobre los ejes de transporte para que el solvente que fluye del sustrato y que contiene los componentes de la cubierta eliminada como resultado de la longitud proyectada de los sustratos, fluya más allá de los medios de transporte. Esto se pretende para prevenir la contaminación de los medios de transporte. La eliminación de la cubierta usando solventes sirve para eliminar o quitar cubiertas foto activas antes del proceso de corrosión para asegurar que sólo las áreas expuestas y desarrolladas de la superficie de los sustratos cuenten con una cubierta protectora efectiva para el proceso de corrosión. Así, las cubiertas han sido estructuradas como resultado de la exposición y desarrollo de las cubiertas foto activas.

De la patente US 4,562,099 es conocido un dispositivo según el concepto principal de la reivindicación 1.

En otros procesos de tratamiento de superficies, particularmente para eliminar cubiertas y que se realizan en sustratos es decir por ejemplo discos o placas de silicio conocidas como discos y que se emplean más específicamente para la producción de componentes semi conductores y celdas solares, se pueden humedecer de forma individual las superficies de los sustratos con el medio de procesamiento. Esta inmersión se realiza de tal forma que las superficies restantes del sustrato no tengan la cubierta de protección de la forma antes mencionada o alguna otra cubierta, no son atacadas por el medio de proceso a ser aplicado, para que la eliminación de la cubierta sólo se realice en la superficie del sustrato humedecida o inmersa con el medio de proceso. Esto no se asegura cuando se emplea el dispositivo conocido.

Tarea y solución

El problema de la invención es proporcionar un aparato, sistema y método que permita el tratamiento selectivo de superficies de sustratos.

De acuerdo con un primer aspecto de la invención, el problema se resuelve mediante un aparato que cuente con las características de la reivindicación 1. Desarrollos ventajosos así como preferidos de la invención son tema de las siguientes reivindicaciones y se explican con mayor detalle a continuación. El aparato, sistema y método se explican en parte conjuntamente y estas explicaciones así como las características correspondientes se aplican tanto para el aparato como el método de forma independiente. Por referencia expresa, el vocabulario de las reivindicaciones es parte del contenido de esta descripción.

La superficie de sustrato en dirección descendente es sustancialmente plana y está orientada de tal forma que una superficie normal de dicho sustrato sea por lo menos sustancialmente perpendicular en dirección vertical. La superficie del sustrato en dirección descendente se localiza en el plano de transporte y constituye la superficie sumergida o humedecida con el medio de procesamiento. Sin embargo, otras superficies del sustrato con dirección descendente que no se localicen en la banda o plano transportador no se deben mojar con el medio de procesamiento.

El plano de transporte es el plano en donde el sustrato a ser transportado entra en contacto con los medios de transporte y se orienta sustancialmente horizontal o asume un ángulo agudo con la horizontal. Como función de la configuración de los medios de transporte, el plano de transporte puede ser en forma de superficie de transporte curva y existe una orientación horizontal sustancialmente de las porciones de transporte de superficies.

Para asegurar un humedecimiento selectivo de la superficie de sustrato de forma descendente con el medio de procesamiento, existe un contacto directo entre el transportador y la superficie de sustrato con dirección descendente. De esta manera, una película líquida del medio de procesamiento se adhiere a la superficie externa del transportador y se transfiere a la cara descendente de la superficie del sustrato que se debe humedecer sin que exista un rociado no deseado y descontrolado de medio de procesamiento líquido, gaseoso y/o caliginoso. En cambio, la película líquida se coloca mediante rodillos o tiras sobre la superficie del sustrato para que solo exista un área limitada de cobertura del medio de procesamiento. Como resultado se consigue que las superficies del sustrato sobre las cuales no se realiza el proceso de humedecimiento no se carguen de forma no deseada con el medio de procesamiento. Esto asegura un proceso de humedecimiento selectivo altamente preciso y el proceso de trabajo realizado por el medio de procesamiento.

En otro desarrollo de la invención está previsto que al medio de transporte se asocio un aparato de aprovisionamiento para alimentar el medio de procesamiento a una superficie externa del medio de transporte. Un aparato de aprovisionamiento se puede construir como una boquilla rodadora, que rocía a través de una ranura un área de la superficie externa de los medios de transporte y que como resultado del movimiento de la anterior se puede poner en contacto mecánico con la superficie del sustrato. En una forma de realización preferida de la invención, el aparato de aprovisionamiento o dosificador está en forma de tanque para recibir el medio de procesamiento en forma líquida y el medio de transporte puede ser periódico y de preferencia continuo, especialmente cuando se mueven en la zona debajo del nivel de líquido del medio de procesamiento, para que el medio de procesamiento se pueda transferir a la superficie externa de los medios de transporte desde donde se transfiere a la superficie del sustrato de cara descendente.

En otra forma de realización de la invención está previsto que el medio de transporte muestra una superficie externa porosa que es construida particularmente para el transporte del medio de procesamiento desde por lo menos un punto de entrega proporcionado en el medio de transporte a la superficie externa del medio de transporte, de preferencia mediante la introducción de un proceso presurizado dentro de los medios de transporte. Una superficie porosa que se puede implementar como una cubierta de los medios de transporte con una matriz de poro abierto, de espuma o plástico expandido o como una cubierta de aglomerado metalúrgico mediante la presión del aglomerado y de sus partículas de metal, que asegura la transferencia del medio de procesamiento que se adhiere a la superficie externa del medio de transporte. El medio de procesamiento se puede mantener dentro de los poros de la superficie porosa de los medios de transporte mediante tensión de superficie y se transfiere mediante el contacto mecánico entre la superficie externa del medio de transporte y la superficie del sustrato por lo menos de forma parcial a dicha superficie del sustrato. Los poros también constituyen una reserva para el medio de procesamiento para que el espacio capilar que ocurre entre el medio de transporte y la superficie del sustrato asegure una distribución ventajosa del medio de procesa- miento.

En el caso de cubierta de espuma o de poros abiertos en forma de una espuma elásticamente deformable, es posible una influencia en el tamaño de poros y distribución de poros, a través de la elección de los materiales poliméricos apropiados. Con una cubierta de aglomerado de metales, el tamaño del poro se puede definir por la selección del tamaño adecuado de la partícula de metal empleado para el proceso de aglomerado.

En una forma de realización preferida de la invención, el medio de procesamiento se proporciona a través de un punto de entrega provisto en el medio de transporte a la superficie externa porosa aplicada. Dicho aprovisionamiento del medio de procesamiento puede suceder particularmente con canales de alimentación localizados...

 


Reivindicaciones:

1. Aparato 1 para el tratamiento de superficies de sustratos (2) con medios de transporte (3a') para transportar un sustrato (2) en el plano de transporte (5), definido por los medios de transporte (3a'), y con por lo menos un medio de transporte (3a'), que es construido con un medio de procesamiento líquido (10) para mojar el sustrato 2 encontrándose el medio de transporte (3a') de tal manera debajo del plano de transporte (5) que entra en contacto directo con el plano de transporte (5) o al menos casi llega hasta el plano de transporte (5) para humedecer la superficie inferior del sustrato 4 con el medio de procesamiento 10 en contacto directo entre los medios de transporte (3a') y la superficie del sustrato (4), estando formado el medio de transporte (3a') como rodillo de transporte (3a'), dispuesto de tal manera que toca el plano de transporte (5), caracterizado por el hecho de que los rodillos de transporte (3a') muestran un diámetro variable con al menos dos áreas (40') de un diámetro mayor, que al menos sobresalen sobre un área (41') de diámetro menor, siendo provistas las dos áreas (40') de un diámetro mayor respectivamente en los lados de los rodillos de transporte (3a').

2. Aparato de acuerdo con la reivindicación 1 caracterizado por el hecho de que el medio de transporte (3a') se asocia con un aparato de alimentación (9) para suministrar el medio de procesamiento 10 a una superficie externa del medio de transporte (3a').

3. Aparato de acuerdo con la reivindicación 1 ó 2 caracterizado por el hecho de que el medio de transporte (3a') muestra una superficie externa porosa, que en particular está construida para transportar el medio de procesamiento 10 de por lo menos un punto de entrega provisto en el medios de transporte (3a') a la superficie externa de dicho medio de transporte (3a'), de preferencia, introduciendo el medio de procesamiento a presión en el medio de transporte (3a).

4. Aparato de acuerdo con la reivindicación 1, caracterizado por el hecho de que las áreas (40') de mayor diámetro sobresalen aproximadamente 1 hasta 10 mm, preferentemente 2 mm hasta 5 mm. sobre el al menos un área (41') de diámetro más pequeño.

5. Aparato de acuerdo con la reivindicación 1 ó 4 caracterizado por el hecho de que las áreas de mayor diámetro tienen una anchura de al menos 10, preferentemente 12 hasta 30 mm.

6. Sistema (35) con al menos dos aparatos (1') según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por el hecho de que el primer aparato (1') cuenta con una primera dirección de transporte y el segundo aparato (1') con una segunda dirección de transporte, los sustratos (2) pasan del primer al segundo aparato, la dirección de transporte del primer aparato es girada hasta 90º en relación con la dirección de transporte del segundo aparato.

7. Sistema (35) con al menos dos aparatos (1') de acuerdo con una de las reivindicaciones previas de la 2 hasta la 5, caracterizado por el hecho de que después de un aparato (1') se proporciona una estación de rotación (37) que toma el sustrato (2) desde el primer aparato y lo transfiere al segundo aparato, siendo girados los sustratos (2) 90º en el plano de transporte 5 en el segundo aparato cuando se comparan con el primer aparato.

8. Sistema (35) de acuerdo con la reivindicación 7, caracterizado por el hecho de que la estación de rotación (37) gira a los sustratos (2) particularmente en 90º en el plano de transporte (5), que está construido para elevar y girar los sustratos (2) o aparatos de rotación (38) que se proporcionan para este propósito.

9. Sistema de acuerdo con la reivindicación 7 ó 8, caracterizado por el hecho de que la estación de rotación (37) cuenta con varios aparatos individuales de rotación (38) en forma yuxtapuesta y de preferencia aparatos de rotación adyacentes (38) que en cada caso se encuentran desplazados hacia delante y hacia atrás en dirección de transportación y en particular los aparatos de rotación 38 se configuran en forma alternativa en dos líneas que corren perpendicularmente a la dirección de transporte cuando se separan.

10. Método para mojar una superficie de sustrato (4) de un sustrato con un aparato según una de las reivindicaciones anteriores (2) con un medio de procesamiento que incluye los pasos de:

- transportar el sustrato (2) con los medios de transporte (3a') a un plano de transporte (5).

- mojar una superficie de sustrato (4) de cara descendente por lo menos sustancialmente localizada en el plano de transporte (5) con un medio de procesamiento (10), que se aplica con un transportador 3a en forma de contacto mecánico directo a la superficie del sustrato (4), procediendo la aplicación del medio de procesamiento (10) en la zona lateral de la superficie de sustrato de cara descendente, preferentemente en una zona lateral de 5 hasta 15 mm.

11. Método de acuerdo con la reivindicación 10, caracterizado por el hecho de que una succión del medio de procesamiento (10) en vapor y/o forma de bruma antes y/o durante y/o después de mojar la superficie del sustrato 4, con los medios de succión 11 configurados verticalmente debajo del plano de transporte 5 para poder prevenir el depósito del medio de procesamiento 10 en otra superficie del sustrato de la superficie del sustrato (4) localizada en el plano de transporte (5).

12. Método de acuerdo con la reivindicación 10 ó 11, caracterizado por el hecho de que el medio de procesamiento (10) se aplica en los lados localizados en los lados izquierdo y derecho en dirección de transporte de los sustratos rectangulares (2) y en particular usando los rodillos de transporte (3a') de acuerdo con una de las reivindicaciones 1 hasta 15.

13. Método de acuerdo con la reivindicación 10 o 12 caracterizado por el hecho de que los sustratos (2) se transportan primeramente con una primera orientación o alineación y las ruedas de la superficie del sustrato con cara descendente se mojan en el medio de procesamiento (10), después tiene lugar una rotación del sustrato en 90º en el plano de transporte y después nuevamente el mojado de los bordes del sustrato de superficie de cara descendente en las dos caras laterales restantes.

14. Método de acuerdo con la reivindicación 13, caracterizado por el hecho de que la rotación de los sustratos (2) ocurre fuera de los aparatos (1') con el medio de procesamiento (10) particularmente en la estación de rotación (37) entre los dos aparatos (1') con el medio de procesamiento (10).

15. Método de acuerdo con la reivindicación 13 ó 14 caracterizado por el hecho de que los sustratos (2) se transfieren desde el aparato (1') de acuerdo con las reivindicaciones 1 hasta 6 a otro aparato (1'), mostrando los aparatos (1') direcciones de transporte en un ángulo de 90º en relación uno con el otro y los sustratos (2) son transportados en los aparatos (1') en cada caso en direcciones de transporte diferentes.


 

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