APARATO PARA REALIZAR AL MENOS UN PROCESO SOBRE UN SUSTRATO.
Un aparato para realizar al menos una operación de procesado sobre un sustrato,
estando provisto el aparato con al menos una cámara de proceso (2, 3) en la que, durante el uso, tiene lugar una operación de procesado a presión reducida, y está provisto con una antecámara de vacío (1) para el propósito de colocar el sustrato de los alrededores en dicha al menos una cámara de proceso (2, 3) sin perder la presión reducida en la cámara de proceso, comprendiendo la antecámara de vacío (1) una cámara de vacío (13) que está limitada por numerosas paredes y a la que está conectada una bomba de vacío, mientras que en una de las paredes está provista al menos una abertura de suministro (7), y para el propósito de al menos una de dichas cámaras de proceso (2, 3) en una de las paredes se proporciona una abertura de la cámara de proceso (8) que pertenece a dicha al menos una cámara de proceso (2, 3), la al menos una abertura de suministro (7) pudiendo cerrarse externamente con una cubierta externa (10) y pudiendo cerrarse desde la cámara de vacío (13) con una cubierta interna (11), sirviendo además la cubierta interna (11) como soporte para el sustrato y pudiendo desplazarse dentro de la cámara de vacío (13) hasta dicha abertura de la cámara de proceso (8), en la que la o cada cubierta interna (11) se pone en una mesa (12) que está situada en la cámara de vacío, pudiendo desplazarse dicha mesa (12) con ayuda de un accionador, caracterizado porque el accionador se incluye en la cámara de vacío (13) de la antecámara de vacío (1), comprendiendo el accionador una serie de imanes (27) que están montados sobre la mesa (12) y al menos una bobina electromagnética (23, 24) montada sobre las paredes de la antecámara de vacío (1), estando conectada la bobina (23, 24) a una fuente de energía controlable para formar un campo magnético alterno para el propósito de desplazar la mesa (12).
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: OTB GROUP B.V.
Nacionalidad solicitante: Países Bajos.
Dirección: LUCHTHAVENWEG 10,5657 EB.
Inventor/es: DINGS,FRANCISCUS,CORNELIUS, HOMPUS,MICHAEL,ADRIANUS,THEODORUS, KOK,RONALDUS,JOANNES,CORNELIS,MARIA, EVERS,MARINUS,FRANCISCUS,JOHANNES, HABRAKEN,ANTON.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 15 de Agosto de 2007.
Clasificación PCT:
- B01J3/00 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES. › B01 PROCEDIMIENTOS O APARATOS FISICOS O QUIMICOS EN GENERAL. › B01J PROCEDIMIENTOS QUÍMICOS O FÍSICOS, p. ej. CATÁLISIS O QUÍMICA DE LOS COLOIDES; APARATOS ADECUADOS. › Procedimientos que utilizan una presión superior o inferior a la presión atmosférica para obtener modificaciones químicas o físicas de la materia; Aparatos a este efecto (recipientes a presión para contener o almacenar gases comprimidos, licuados o solidificados F17C).
- C23C14/56 QUIMICA; METALURGIA. › C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL. › C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04). › C23C 14/00 Revestimiento por evaporación en vacío, pulverización catódica o implantación de iones del material que constituye el revestimiento. › Aparatos especialmente adaptados al revestimiento en continuo; Dispositivos para mantener el vacío, p. ej. cierre estanco.
- C23C16/44 C23C […] › C23C 16/00 Revestimiento químico por descomposición de compuestos gaseosos, no quedando productos de reacción del material de la superficie en el revestimiento, es decir, procesos de deposición química en fase vapor (pulverización catódica reactiva o evaporación reactiva en vacío C23C 14/00). › caracterizado por el proceso de revestimiento (C23C 16/04 tiene prioridad).
- F16K31/06 MECANICA; ILUMINACION; CALEFACCION; ARMAMENTO; VOLADURA. › F16 ELEMENTOS O CONJUNTOS DE TECNOLOGIA; MEDIDAS GENERALES PARA ASEGURAR EL BUEN FUNCIONAMIENTO DE LAS MAQUINAS O INSTALACIONES; AISLAMIENTO TERMICO EN GENERAL. › F16K VALVULAS; GRIFOS; COMPUERTAS; FLOTADORES PARA ACCIONAMIENTO; DISPOSITIVOS PARA VENTILAR O AIREAR. › F16K 31/00 Medios de accionamiento; Dispositivos de retorno a la posición de reposo. › utilizando un imán.
- F16K51/02 F16K […] › F16K 51/00 Otros detalles no particulares a los tipos de válvulas o llaves u otros aparatos de obturación. › especialmente concebidos para las instalaciones de vacío forzado.
- H01F7/04 ELECTRICIDAD. › H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS. › H01F IMANES; INDUCTANCIAS; TRANSFORMADORES; EMPLEO DE MATERIALES ESPECIFICOS POR SUS PROPIEDADES MAGNETICAS. › H01F 7/00 Imanes (imanes superconductores H01F 6/00). › Medios para liberar la fuerza atractiva.
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