SISTEMA DE LONGITUD DE ONDA PARA UN LASER EXCIMER.

Un sistema de longitud de onda para medir y controlar la longitud de onda de un láser de banda estrecha. El sistema incluye un medidor de onda

(120) para medir los cambios incrementales en la longitud de onda y una referencia atómica de la longitud de onda (190) para calibrar el medidor de onda (120). La referencia atómica de la longitud de onda (190) incluye una célula de vapor (194) para proporcionar un vapor que tiene al menos una línea de absorción cerca de una longitud de onda operativa deseada. El sistema incluye un dispositivo de sintonización de longitud de onda (36) con un intervalo de sintonía suficiente para sintonizar el láser para funcionar a la longitud de onda de la línea de absorción para calibrar el medidor de onda (120). En una realización preferida, el láser es un láser de ArF, y el vapor es platino y la línea de absorción es o 193.224,3 pm ó 293.436,9 pm. Las mejoras sobre los dispositivos de la técnica anterior incluyen un etalón mejorado (184) que tiene una brida de apoyo (81) para proporcionar un soporte colgante de tres puntos de baja tensión (86) para el etalón sin el uso de elastómero.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: CYMER, INC.

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: 16750 VIA DEL CAMPO COURT,SAN DIEGO, CA 92127-1712.

Inventor/es: NEWMAN, PETER, C., SANDSTROM, RICHARD, L.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 23 de Febrero de 1999.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • SECCION H — ELECTRICIDAD > ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS > DISPOSITIVOS QUE UTILIZAN LA EMISION ESTIMULADA > Láser, es decir, dispositivos para la producción,... > H01S3/13 (Estabilización de parámetros de salida de láser, p. ej. frecuencia, amplitud)
  • SECCION H — ELECTRICIDAD > ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS > DISPOSITIVOS QUE UTILIZAN LA EMISION ESTIMULADA > Láser, es decir, dispositivos para la producción,... > H01S3/225 (incluyendo un "excimer" o "exciplex")
  • SECCION H — ELECTRICIDAD > ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS > DISPOSITIVOS QUE UTILIZAN LA EMISION ESTIMULADA > Láser, es decir, dispositivos para la producción,... > H01S3/1055 (estando constituido uno de los reflectores por una red de difracción)

Países PCT: Bélgica, Alemania, España, Francia, Reino Unido, Italia, Luxemburgo, Países Bajos, Oficina Europea de Patentes, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Federación de Rusia, Sudán, Tayikistán, Turkmenistán, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.

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