REVESTIMIENTOS DE POLIMEROS DE ABSORCION DEL INFRARROJO PROXIMO TERMICAMENTE REACTIVOS, METODOS DE PREPARACION Y METODOS DE USO.

Un polímero de absorción del infrarrojo próximo que comprende las siguientes unidades repetidas: **

(Fórmula)** en la que E representa el segmento de absorción del infrarrojo próximo, que exhibe bandas de absorción fuertes entre 780 y 1200 nm; F representa el segmento de procesamiento, que proporciona excelentes propiedades peliculígenas y solubilidad en soluciones acuosas que tienen un pH entre 2, 0 y 14, 0; G representa el segmento térmicamente reactivo, que sufre reacciones químicas o físicas localizadas, con o sin catalizadores, durante la exposición localizada a luz lasérica del infrarrojo próximo de modo que dicho polímero se hace localmente: insoluble en soluciones acuosas si dicho polímero era soluble en soluciones acuosas antes de la exposición a luz del infrarrojo próximo, o (ii) soluble en soluciones acuosas si dicho polímero era insoluble en soluciones acuosas antes de la exposición a luz del infrarrojo próximo: a, b y c representan las relaciones molares, que varían de 0, 01 a 1, 00; y en donde dicho polímero tiene un peso molecular mayor que aproximadamente 5.000.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: AMERICAN DYE SOURCE, INC..

Nacionalidad solicitante: Canadá.

Dirección: 555 MORGAN BOULEVARD,BAIE D'URFE, QUEBEC H9X 3T6.

Inventor/es: NGUYEN, MY, T..

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 17 de Marzo de 2000.

Fecha Concesión Europea: 11 de Agosto de 2004.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION... > COMPUESTOS MACROMOLECULARES OBTENIDOS POR REACCIONES... > C08F246/00 (Copolímeros en los que solamente está definida la naturaleza de los monómeros en minoría)
  • SECCION B — TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES > IMPRENTA; MAQUINAS COMPONEDORAS DE LINEAS; MAQUINAS... > PROCESOS DE IMPRESION, DE REPRODUCCION, DE MARCADO... > B41M3/00 (Procesos de impresión para trabajos impresos de un tipo particular, p. ej. motivos (dibujos particulares en sí B44F; fabricación de circuitos impresos utilizando técnicas de impresión H05K 3/12))
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION... > COMPUESTOS MACROMOLECULARES OBTENIDOS POR REACCIONES... > Modificación química por tratamiento posterior... > C08F8/44 (Preparación de sales de metal o de amonio)
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION... > COMPUESTOS MACROMOLECULARES OBTENIDOS POR REACCIONES... > C08F8/00 (Modificación química por tratamiento posterior (polímeros injertados, polímeros en bloque, reticulados con monómeros insaturados o con polímeros C08F 251/00 - C08F 299/00; de cauchos de dieno conjugados C08C))
  • SECCION G — FISICA > FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE... > PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS,... > Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica,... > G03F7/004 (Materiales fotosensibles (G03F 7/12, G03F 7/14 tienen prioridad))
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION... > COMPUESTOS MACROMOLECULARES OBTENIDOS POR REACCIONES... > Copolímeros de compuestos que tienen uno o más... > C08F226/06 (por un ciclo heterocíclico que contiene nitrógeno)

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.

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