REVESTIMIENTOS DE OXIDO DE TITANIO MEDIANTE CVD DE PLASMA A PRESION ATMOSFERICA.

Método para depositar sobre un sustrato películas delgadas foto-catalíticas de óxido de titanio,

o que contienen óxido de titanio, comprendiendo el método las etapas de: - usar un plasma de descarga luminosa a presión atmosférica como una fuente mayoritaria de reacción para mejorar propiedades de películas y velocidades de crecimiento de películas, cuando el sustrato se calienta a una temperatura por debajo de 250°C, en donde se genera el plasma de descarga luminosa, entre electrodos, por una fuente de frecuencia baja por ejemplo AF o RF en donde la frecuencia es inferior a 30 Khz y en donde la densidad de potencia del plasma es inferior a 5 Wcm-2, - introducir un precursor CVD de óxido de titanio reactivo en un gas que fluye a través de una región de revestimiento, en donde el precursor CVD de óxido de titanio reactivo se ha pre-evaporado en el flujo de gas introducido, - crecer películas delgadas, en donde se controlan cuidadosamente un nivel de agua y oxígeno para conseguir velocidades objetivo de crecimiento y controlar reacciones secundarias no deseadas, estando el nivel de oxígeno por debajo de 5% y estando controlados por debajo de 1% los niveles de vapor de agua, - un post-tratamiento del revestimiento con un plasma de descarga luminosa atmosférico que modifica las propiedades foto-catalíticas y estructura de la película.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE.

Nacionalidad solicitante: Francia.

Dirección: 18, AVENUE D'ALSACE,92400 COURBEVOIE.

Inventor/es: SHEEL, DAVID, WILLIAM, PEMPLE,MARTYN.

Fecha de Publicación: 1 de Febrero de 2008.

Fecha Concesión Europea: 27 de Junio de 2007.

Clasificación PCT:

C23C16/40 QUIMICA; METALURGIA. › C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL. › C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04). › C23C 16/00 Revestimiento químico por descomposición de compuestos gaseosos, no quedando productos de reacción del material de la superficie en el revestimiento, es decir, procesos de deposición química en fase vapor (pulverización catódica reactiva o evaporación reactiva en vacío C23C 14/00). › Oxidos.
C23C16/453 C23C 16/00 […] › haciendo pasar los gases de reacción a través de quemadores o de antorchas, p. ej. CVD a presión atmosférica (C23C 16/513 tiene prioridad; para la pulverización de material de revestimiento en estado fundido con ayuda de una llama o de un plasma C23C 4/00).
C23C16/503 C23C 16/00 […] › utilizando descargas con corriente continua o alterna.

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