PROCEDIMIENTO Y COMPOSICIONES DE ELECTRODEPOSICION DE CLORURO DE ZINC CON ALTA DENSIDAD DE CORRIENTE.
UN PROCEDIMIENTO Y COMPOSICION DE ELECTROGALVANIZACION PARA REDUCIR LA FORMACION DE DENDRITO DE ALTA DENSIDAD DE CORRIENTE (HCD) E INCINERACION DE BORDE Y CONTROLAR LA RUGOSIDAD DE DENSIDAD DE ALTA CORRIENTE,
EL TAMAÑO DE GRANO Y LA ORIENTACION DE UN RECUBRIMIENTO DE ZINC OBTENIDO DE UN BAÑO RECUBRIDOR ELECTROGALVANICO ACIDICO ACUOSO DE HALURO DE ZINC. UN HOMOPOLIMERO DE GLICOL POLIOXIALQUILENO DE BAJO PESO MOLECULAR O COPOLIMERO BASADO EN OXIDOS DE ALQUILENO DE 3 A 4 ATOMOS DE CARBONO COMO UN AGENTE DE REFINAMIENTO DE GRANO EN COMBINACION CON UN PRODUCTO DE CONDENSACION SULFONADO DE NAFTALENO Y UN FORMALDEHIDO UTILIZANDO COMO AGENTE ANTIDENDRITICO. UN COMPUESTO DE GLICOL CONSTA DE UN HOMOPOLIMERO O COPOLIMERO DE GLICOL POLIOXIALQUILENO DE ALTO PESO MOLECULAR, UN DEPOLARIZADOR COMO UN COMPUESTO DE ANILINA, Y UN COMPUESTO DE CARBAMATO QUE INCLUYE UN ACIDO SUFONICO DE ALQUIL BAJO DE CARBAMIL DE DITIO DE DIALQUILO BAJO, QUE TAMBIEN PUEDE SER UTILIZADO, OPCIONALMENTE EN COMBINACION CON UN ALDEHIDO Y/O UN AGENTE DE REFINAMIENTO DE GRANO TAL COMO HOMOPOLIMERO O COPOLIMERO DE GLICOL POLIOXIALQUILENO DE BAJO PESO MOLECULAR Y/O UN AGENTE ANTIDEENDRITICO QUE CONSTA DE UN PRODUCTO DE CONDENSACION SULFONADO DE NAFTALENO Y FORMALDEHIDO. LOS RECUBRIMIENTOS DE ZINC (HCD) APLICADOS CON EL PROCEDIMIENTO DESCRITO SERA MAS LISOS CUANDO SE UTILIZA UN AGENTE ANTIDENDITRICO DE FORMALDEHIDO NAFTALENO SULFONADO Y UN AGENTE DE REFINAMIENTO DE GRANO DE POLIMERO OXIDO DE ETILENO DE BAJO PESO MOLECULAR, INCREMENTANDO EL AGENTE ANTIDENDRITICO A UNA CANTIDAD MAYOR QUE LA DEL AGENTE REFINADOR. UNA COMPOSICION DE OXIDO DE BORO PUEDE UTILIZARSE PARA REDUCIR AUN MAS LA INCINERACION (HCD) Y UN COMPUESTO DE LIGNINA PARA INCREMENTAR LA LUMINOSIDAD.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: ATOTECH USA, INC..
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: TWO RIVERVIEW DRIVE, P.O. BOX 6768,SOMERSET, NEW JERSEY 08875-676.
Inventor/es: MARTYAK, NICHOLAS M., MCCASKIE, JOHN E.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 28 de Noviembre de 2001.
Clasificación Internacional de Patentes:
- C25D3/22 QUIMICA; METALURGIA. › C25 PROCESOS ELECTROLITICOS O ELECTROFORETICOS; SUS APARATOS. › C25D PROCESOS PARA LA PRODUCCION ELECTROLITICA O ELECTROFORETICA DE REVESTIMIENTOS; GALVANOPLASTIA (fabricación de circuitos impresos por deposición metálica H05K 3/18 ); UNION DE PIEZAS POR ELECTROLISIS; SUS APARATOS (protección anódica o catódica C23F 13/00; crecimiento de monocristales C30B). › C25D 3/00 Revestimientos electrolíticos; Baños utilizados. › de cinc.
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