PROCEDIMIENTO PARA LA PRODUCCION DE NOVOLACAS FENOLICAS FOTOSENSIBLES.

PREPARACION DE RESINAS FENOLICAS MODIFICADAS FOTOSENSIBLES Y ELECTRODEPOSITABLES, EN LAS QUE UNA PARTE POR LO MENOS, DE GRUPOS HIDROXILO FENOLICOS, ESTA REEMPLAZADA POR GRUPOS QUINONDIACIDOSULFONILOXILO Y UNA PARTE, POR LO MENOS DE LOS ANILLOS AROMATICOS DE LA NOVOLACA, EN POSICION ORTO O PARA O EN AMBAS, RESPECTO A UN GRUPO HIDROXILO FENOLICO O AL GRUPO QUINONDIACIDOSULFONILOXILO , ESTA SUSTITUIDO POR UN RADICAL DE FORMULA -CH

(R1)R2, DONDE R1 ES HIDROGENO, ALQUILO, ARILO O UN GRUPO CARBOXILICO, R2 ES UN GRUPO DE ACIDO SULFONICO -SO3H O UN RADICAL -A-R3-X, DONDE R3 ES UN GRUPO DIVALENTE ALIFATICO, AROMATICO O ARILALIFATICO, EVENTUALMENTE SUSTITUIDOS CON UN GRUPO CARBOXILO, SULFONICO O FOSFONICO, A ES HIDROGENO O UN ALQUILO SUSTITUIDO O NO, O R3 Y R4 FORMAN JUNTOS UNA CADENA DE ALQUILENO Y X ES UN GRUPO CARBOXILICO O SULFONICO, UN GRUPO AMINICO, HIDROGENO O HIDROXILO. LA RESINA SE OBTIENE POR REACCION DE UNA NOVOLACA FENOLICA, OBTENIDA A PARTIR DE UN FENOL Y UN ALDEHIDO, CON UN ACIDO QUINONDIACIDO SULFONICO O CON UN DERIVADO DE ESTE, EN DICHA REACCION POR LO MENOS UNO DE LOS COMPONENTES SE HACE REACCIONAR ULTERIORMENTE CON UN ALDEHIDO Y UNA AMINA, UN MERCAPTOCOMPUESTO O UN ACIDO CARBOXILICO, SULFONICO O FOSFONICO.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: CIBA-GEIGY AG.

Nacionalidad solicitante: Suiza.

Dirección: BASILEA SUIZA.

Fecha de Solicitud: 29 de Noviembre de 1985.

Fecha de Publicación: .

Fecha de Concesión: 23 de Junio de 1986.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION... > COMPUESTOS MACROMOLECULARES OBTENIDOS POR REACCIONES... > Polímeros de condensación de aldehídos o cetonas... > C08G8/28 (Modificación química de policondensados)
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