PROCEDIMIENTO PARA LA PREPARACION DE CITALOPRAM RACEMICO Y/O CITALOPRAM-S O -R POR SEPARACION DE UNA MEZCLA DE CITALOPRAM-R Y -S.

Un procedimiento para la preparación de base libre de citalopram racémico o una sal de adición de ácido del mismo y/o citalopram-R o -S como base libre o una sal de adición de ácido del mismo por separación de una mezcla de citalopram-R y -S con más de 50% de uno de los enantiómeros en una fracción que consta de citalopram racémico y una fracción de citalopram-S o citalopram-R caracterizado porque:
i) se precipita citalopram desde un disolvente como base libre o como sal de adición de ácido del mismo;
ii) el precipitado formado se separa del líquido madre;
iia) si el precipitado es cristalino

, se recristaliza opcionalmente una o más veces para formar citalopram racémico y luego se convierte opcionalmente en una sal de adición de ácido del mismo.
iib) si el precipitado no es cristalino, se repiten opcionalmente las etapas i) y ii) hasta que se obtiene un precipitado cristalino y este precipitado cristalino se recristaliza opcionalmente una o más veces para formar citalopram racémico y luego se convierte opcionalmente en una sal de adición de ácido del mismo.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: H. LUNDBECK A/S.

Nacionalidad solicitante: Dinamarca.

Dirección: OTTILIAVEJ 9,2500 VALBY-COPENHAGEN.

Inventor/es: DANCER, ROBERT, PETERSEN, HANS, ROCK, MICHAEL, HAROLD, NIELSEN, OLE, HUMBLE, RIKKE, EVA, CHRISTENSEN, TROELS, VOLSGAARD.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 25 de Junio de 2002.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > QUIMICA ORGANICA > COMPUESTOS HETEROCICLICOS (Compuestos macromoleculares... > Compuestos heterocíclicos que contienen ciclos de... > C07D307/87 (Benzo [c] furanos; Benzo [c] furanos hidrogenados)

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Mozambique, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Zambia, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Guinea Ecuatorial, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.

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