PROCEDIMIENTO PARA EL SECAJE POR DESTELLOS Y ENDURECIMIENTO POR DESTELLOS, Y PRODUCTOS ENDURECIBLES POR RADIACIONES.
SE DESCRIBE UN PROCESO PARA SECADO Y ENDURECIMIENTO DE LACAS ENDURECIBLES CON RADIACION,
PUNTURAS, COLAS Y CAPAS PLASTICAS QUE CONTIENEN UNA PLURALIDAD DE FOTOINICIADORES CON UNA CAPA CONJUNTA DE ALCANCE ESPECTRAL QUE SE EXTIENDE A PARTIR DEL CAMPO UV-B HASTA EL CAMPO VISIBLE ADYACENTE A UV-A. LA FUENTE DE RADIACION ES UN GENERADOR RELAMPAGO ELECTRICO DE ALTA ENERGIA CUYA RADIACION ES ADAPTADA AL CAMPO DE SENSITIBIDAD DE LOS FOTOINICIADORES Y CUYA EMISION EN EL CAMPO UV-C ES REDUCIDA. DE FORMA VENTAJOSA, LAS MEZCLAS ENDURECIBLES CON RADIACION CONTIENEN AL MENOS TRES FOTOINICIADORES Y UNA CUBIERTA EN EL CAMPO DE ABSORCION DE HASTA APROXIMADAMENTE 500 NM. DE ACUERDO CON LA ELECCION DE LOS FOTOINICIADORES Y SU CONCENTRACION, EL ENDURECIMIENTO PUEDE TENER LUGAR DURANTE DESCARGAS RELAMPAGO SUCESIVAS A PARTIR DE LA SUPERFICIE HACIA ABAJO O EN LA DIRECCION INVERSA. CON PREFERENCIA, EL GENERADOR RELAMPAGO ELECTRONICO ALCANZA UNA LUMINANCIA DESDE 10 HASTA 80 MEGALUZ POR CADA DESCARGA RELAMPAGO. ESTE PROCESO ES ADECUADO PARA UN AMPLIO CAMPO DE APLICACIONES, POR EJEMPLO PARA RECUBRIMIENTOS PLANOS LIQUIDOS Y RECUBRIMIENTOS ESPESOR, PARA MEZCLAS PIGMENTADAS, PARA CAPAS PROTECTORAS SOBRE SUPERFICIES OPTICAS Y CAPAS ANTIEMPAÑANTES RESISTENTES AL RAYADO QUE PUEDEN SER ENDURECIDAS PRACTICAMENTE SIN TENSION TERMICA DEL MATERIAL RECUBIERTO.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC..
Nacionalidad solicitante: Suiza.
Dirección: KLYBECKSTRASSE 141, 4057 BASEL.
Inventor/es: KNORSCH, KARL, SCHMIDT, GERNOT.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 15 de Noviembre de 1993.
Fecha Concesión Europea: 24 de Febrero de 1999.
Clasificación Internacional de Patentes:
- B05D3/06 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES. › B05 PULVERIZACION O ATOMIZACION EN GENERAL; APLICACION DE MATERIALES FLUIDOS A SUPERFICIES, EN GENERAL. › B05D PROCEDIMIENTOS PARA APLICAR MATERIALES FLUIDOS A SUPERFICIES, EN GENERAL (transporte de objetos en los baños de líquidos B65G, p. ej.. B65G 49/02). › B05D 3/00 Tratamiento previo de superficies sobre las que los líquidos u otros materiales fluidos van a ser aplicados; Tratamiento ulterior de los revestimientos aplicados, p. ej. tratamiento intermedio de un revestimiento ya aplicado, para preparar las aplicaciones ulteriores de líquidos u otros materiales fluidos. › por exposición a radiación (B05D 3/02 tiene prioridad).
- G03F7/031 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Compuestos orgánicos no cubiertos por el grupo G03F 7/029.
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, España, Francia, Reino Unido, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Oficina Europea de Patentes, Japón, Estados Unidos de América.
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