PROC. PARA HILAR Y DEVANAR FILAMENTOS DE POLIESTER USANDO ADITIVOS DEL HILADO, FILAM. POLIESTER QUE PUEDEN OBTENERSE POR PROC. DE HILADO, TEXTURACION POR ESTIRADO DE FILAMENTOS POLIESTER, ASI COMO FILAMENTOS POLIESTER TEXTURADOS QUE PUEDEN OBTENERSE POR TEXTURACION POR ESTIRADO.

Procedimiento para la producción y el devanado de filamentos de poliéster preorientados, que se componen de al menos el 90% en peso, referido al peso total del filamento de poliéster de poli

(tereftalato de butileno) (PBT) y/o poli(tereftalato de trimetileno) (PTMT), preferiblemente de PTMT, caracterizado porque a) el estirado de hilado se ajusta en el intervalo de 70 a 500, b) los filamentos atraviesan una zona de acción retardada del enfriamiento de una longitud de desde 30 mm hasta 200 mm directamente tras la salida de la tobera de hilado, c) los filamentos se enfrían por debajo de la temperatura de solidificación, d) los filamentos se empaquetan a una distancia entre 500 mm y 2500 mm con respecto al lado inferior de la tobera, e) la tensión del hilo se ajusta antes y entre los rodillos de extracción entre 0, 05 cN/dtex y 0, 20 cN/dtex, f) el hilo se devana con una tensión del hilo entre 0, 025 cN/dtex y 0, 15 cN/dtex, g) la velocidad de devanado se ajusta entre 2200 m/min y 6000 m/min, h) y se utiliza un poliéster con el que se mezcla del 0, 05% en peso al 2, 5% en peso, referido al peso total del filamento, de polímero aditivo como agente de aumento del alargamiento.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: ZIMMER AG.

Nacionalidad solicitante: Alemania.

Dirección: BORSIGALLEE 1,60338 FRANKFURT AM MAIN.

Inventor/es: WANDEL, DIETMAR, DULLING, ACHIM, MIRWALDT, ULRICH, KLEIN, ALEXANDER.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 2 de Noviembre de 2001.

Fecha Concesión Europea: 16 de Marzo de 2005.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • SECCION D — TEXTILES; PAPEL > FIBRAS O HILOS NATURALES O FABRICADOS POR EL HOMBRE;... > PARTE QUIMICA DE LA FABRICACION DE FILAMENTOS, HILOS,... > Filamentos o similares, fabricados por el hombre,... > D01F6/92 (de poliésteres)

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Emiratos Árabes Unidos, Antigua y Barbuda, Armenia, Australia, Azerbayán, Bosnia y Herzegovina, Barbados, Bulgaria, Brasil, Bielorusia, Belice, Canadá, China, Colombia, Costa Rica, República Checa, Dominica, Argelia, Ecuador, Estonia, Granada, Georgia, Ghana, Gambia, Croacia, Hungría, Indonesia, Israel, India, Islandia, Japón, Kenya, Kirguistán, República de Corea, Kazajstán, Santa Lucía, Sri Lanka, Liberia, Lesotho, Marruecos, República del Moldova, Madagascar, Mongolia, Malawi, México, Mozambique, Noruega, Nueva Zelanda, Polonia, Federación de Rusia, Sudán, Singapur, Eslovaquia, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, Turquía, Trinidad y Tabago, República Unida de Tanzania, Ucrania, Uganda, Urbekistán, Yugoslavia, Sudáfrica, Zimbabwe, Viet Nam, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Cuba, República Popular Democrática de Corea, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Guinea Ecuatorial, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.

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