NAFTOPIRANOS HIDROXILADOS/CARBOXILADOS.

Un compuesto naftopirano representado por las siguientes **fórmulas** en donde

(a) R1 es el grupo R, el cual está representado por una de las fórmulas siguientes: (1) -A; (2) -D-A; (3) -D-E-H; (4) -D-H; (5) -E-H; o (6) -H; en donde –A está representado por la siguiente fórmula: -[(OC2H4)x (OC3H6)y (OC4H8)z]-J en donde –J se selecciona de: -OCH2COOH, -OCH(CH3)COOH, o –OC(O)(CH2)wCOOH; w es un número entero de 1 a 18; x, y y z son cada uno un número entre 0 y 50, y la suma de x, y y z está entre 1 y 50; -D- es –C(O)- o –CH2-; -E- está representado por la fórmula siguiente: -[(OC2H4)x (OC3H6)y (OC4H8)z]- en donde x, y y z son los mismos definidos para –A; -H es un residuo de un poliol orgánico teniendo al menos 2 grupos hidroxilo, o un derivado de dicho residuo en donde uno o más de dichos hidroxilos han sido hechos reaccionar para formar el grupo carboxilo conteniendo sustituyentes –J; o R1 es hidrógeno, alquilo C1-C3 o el grupo –C(O)W, W siendo –OR7, -N(R8)R9, piperidino o morfolino, en donde R7 es alilo, alquilo C1-C6, fenilo, fenilo monosustituido con alquilo C1-C6, fenilo monosustituido con alcoxi C1-C6, fenilalquilo C1-C3, fenilalquilo C1-C3 monosustituido con alquilo C1-C6, fenilalquilo C1-C3 monosustituido con alcoxi C1-C6, alcoxi(C1-C6)alquilo C2-C4 o haloalquilo C1-C6; R8 y R9 son cada uno seleccionados del grupo que se compone de alquilo C1-C6, cicloalquilo C5-C7, fenilo, fenilo monosustituido y fenilo disustituido, dichos sustituyentes del fenilo siendo alquilo C1-C6 o alcoxi C1-C6, y dicho sustituyente halo siendo cloro o fluoro.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: TRANSITIONS OPTICAL, INC..

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: 9251 BELCHER ROAD,PINELLAS PARK, FL 33782.

Inventor/es: VAN GEMERT, BARRY, WALTERS, ROBERT, W.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 23 de Febrero de 2001.

Fecha Concesión Europea: 22 de Junio de 2005.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • SECCION G — FISICA > FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE... > MATERIALES FOTOSENSIBLES PARA FOTOGRAFIA; PROCESOS... > Materiales fotosensibles (materiales fotosensibles... > G03C1/73 (que contienen compuestos orgánicos)
  • SECCION G — FISICA > OPTICA > ELEMENTOS, SISTEMAS O APARATOS OPTICOS (G02F tiene... > Elementos ópticos distintos de las lentes (guías... > G02B5/23 (Filtros fotocromáticos)
  • SECCION G — FISICA > OPTICA > ESPECTACULOS; GAFAS; GAFAS DE SOL O GAFAS PROTECTORAS... > Piezas ópticas (caracterizadas por el material de... > G02C7/02 (Cristales; Sistemas de cristales)
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > COLORANTES; PINTURAS; PULIMENTOS; RESINAS NATURALES;... > SUSTANCIAS PARA APLICACIONES NO PREVISTAS EN OTRO... > Sustancias tenebrescentes, es decir, sustancias para... > C09K9/02 (Sustancias orgánicas tenebrescentes)
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > QUIMICA ORGANICA > COMPUESTOS HETEROCICLICOS (Compuestos macromoleculares... > Compuestos heterocíclicos que contienen ciclos de... > C07D311/92 (Naftopiranos; Naftopiranos hidrogenados)
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > QUIMICA ORGANICA > COMPUESTOS HETEROCICLICOS (Compuestos macromoleculares... > Compuestos heterocíclicos que contienen ciclos de... > C07D311/94 (condensados con ciclos que no son ciclos de seis miembros o con sistemas cíclicos que contienen tales ciclos)
  • SECCION G — FISICA > FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE... > MATERIALES FOTOSENSIBLES PARA FOTOGRAFIA; PROCESOS... > Materiales fotosensibles (materiales fotosensibles... > G03C1/685 (Composiciones que contienen compuestos espirocondensados del pirano, o bien derivados de ellos, como sustancias fotosensibles)
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > QUIMICA ORGANICA > COMPUESTOS HETEROCICLICOS (Compuestos macromoleculares... > Compuestos heterocíclicos que contienen ciclos de... > C07D311/96 (espirocondensados con ciclos o sistemas cíclicos carbocíclicos)

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Mozambique, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.

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