METODOS PARA REDUCIR LA REFLEXION EN SUSTRATOS OPTICOS.

Un método para depositar un revestimiento antirreflectante en un sustrato óptico que presenta una reflectancia media inicial percibida, Fo, comprendiendo el método: iniciar la deposición en el sustrato de una capa de al menos un material antirreflectante; vigilar ópticamente el espesor de la capa conforme la capa se está depositando; y terminar la deposición cuando la capa alcanza el espesor deseado; en el que el espesor deseado se calcula tal que el sustrato óptico tenga una reflectancia final percibida FAR, tal que FAR = ½ Fo, donde donde: es la longitud de onda, es el ángulo de incidencia, S

(, ) es la función de sensibilidad humana media determinada estadísticamente en función de la longitud de onda y el ángulo de incidencia, derivada de la variación de la sensibilidad humana con la longitud de onda, s(), y los valores medios de la sensibilidad humana a la luz en función del ángulo, s(), respectivamente, y R(, ) es la media de las reflectancias polarizadas p y s; y Fo es la reflectancia percibida del sustrato óptico antes de ser revestido.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: HAALAND, PETER D.
MCKOY, B. VINCENT.

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: 518 WEST LINDEN STREET,LOUISVILLE, CO 80027.

Inventor/es: HAALAND, PETER D., MCKOY, B. VINCENT.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 12 de Diciembre de 1997.

Fecha Concesión Europea: 19 de Abril de 2006.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • SECCION G — FISICA > OPTICA > ELEMENTOS, SISTEMAS O APARATOS OPTICOS (G02F tiene... > Elementos ópticos caracterizados por la sustancia... > G02B1/10 (Revestimientos ópticos obtenidos por aplicación a elementos ópticos o por tratamiento de la superficie de éstos (G02B 1/08 tiene prioridad))

Países PCT: Bélgica, Alemania, España, Francia, Reino Unido, Italia, Países Bajos, Irlanda, Oficina Europea de Patentes, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Federación de Rusia, Sudán, Tayikistán, Turkmenistán, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.

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