METODO PARA PREPARAR UNA COMPOSICION RICA EN OXIDO DE URANIO A PARTIR DE HEXAFLUORURO DE URANIO.

Método para preparar una composición rica en óxido de uranio a partir de hexafluoruro de uranio en una zona de reacción en presencia de una llama activa,

que incluye las operaciones que consisten en: (a) introducir un primer reactivo gaseoso constituido por una mezcla de hexafluoruro de uranio y un gas que contiene oxígeno en una zona de reacción, (b) introducir un segundo reactivo gaseoso constituido por un gas reductor en la zona de reacción, (c) introducir separadamente un gas de apantallamiento en la zona de reacción entre el primer reactivo gaseoso y el segundo reactivo gaseoso para impedir temporalmente un mezclado y una relación sustancial entre los primero y segundo reactivos gaseosos hasta que se haya producido una difusión suficiente de los reactivos mientras estos atraviesan la zona de reacción, dando lugar a una reacción que produce una composición rica en dióxido de uranio en forma de partículas y a productos de reacción gaseosos, y (d) introducir un tercer reactivo gaseoso constituido por un gas que contiene oxígeno en contacto con la composición rica en dióxido de uranio en forma de partículas y con los productos de reacción gaseosos bajo la forma de corrientes múltiples, transformando así el gas reductor residual en la zona de reacción en una forma oxidada y oxidando la composición rica en dióxido de uranio para obtener un óxido de uranio más elevado, estando por lo menos una de las múltiples corrientes dispuesta río abajo respecto a la otra de modo que el calor de la reacción se distribuya en la zona de reacción.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: GENERAL ELECTRIC COMPANY.

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Fecha de Solicitud: 12 de Mayo de 1976.

Fecha de Publicación: 1 de Abril de 1978.

Fecha de Concesión: 31 de Enero de 1978.

Clasificación Internacional de Patentes:

C01G43/01 QUIMICA; METALURGIA. › C01 QUIMICA INORGANICA. › C01G COMPUESTOS QUE CONTIENEN METALES NO CUBIERTOS POR LAS SUBCLASES C01D O C01F (hidruros metálicos C01B 6/00; sales de oxácidos de halógenos C01B 11/00; peróxidos, sales de los perácidos C01B 15/00; tiosulfatos, ditionitos, politionatos C01B 17/64; compuestos que contienen selenio o teluro C01B 19/00; compuestos binarios del nitrógeno con metales C01B 21/06; azidas C01B 21/08; amidas metálicas C01B 21/092; nitritos C01B 21/50; fosfuros C01B 25/08; sales de los oxácidos del fósforo C01B 25/16; carburos C01B 32/90; compuestos que contienen silicio C01B 33/00; compuestos que contienen boro C01B 35/00; compuestos que tienen propiedades de tamices moleculares pero que no tienen propiedades de cambiadores de base C01B 37/00; compuestos que tienen propiedades de tamices moleculares y de cambiadores de base, p. ej. zeolitas cristalinas, C01B 39/00; cianuros C01C 3/08; sales del ácido ciánico C01C 3/14; sales de cianamida C01C 3/16; tiocianatos C01C 3/20; procesos de fermentación o procesos que utilizan enzimas para la preparación de elementos o de compuestos inorgánicos excepto anhídrido carbónico C12P 3/00; obtención a partir de mezclas, p. ej. a partir de minerales, de compuestos metálicos que son los compuestos intermedios de un proceso metalúrgico para la obtención de un metal libre C21B, C22B; producción de elementos no metálicos o de compuestos inorgánicos por electrólisis o electroforesis C25B). › C01G 43/00 Compuestos de uranio. › Oxidos; Hidróxidos.

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