MATGERIAL DE GRABACION SENSIBLE AL CALOR.

Un material de grabación sensible al calor, que consta de: a) por lo menos un compuesto cromógeno y b) por lo menos un revelador de la **fórmula** en la que R1 es fenilo o naftilo que puede estar sin sustituir o sustituidos por alquilo C1-C8, alcoxi C1-C8 o halógeno; o alquilo C1-C20 que puede estar sin sustituir o sustituido por alcoxi C1-C8 o halógeno; X es un grupo de la **fórmula**

((sustituir “or” por “o”)) A es fenileno, naftileno o alquileno C1-C12 sin sustituir o sustituidos o es un grupo heterocíclico sin sustituir o sustituido, B es un grupo eslabón de la fórmula -O-SO2-, -SO2-O-, -NH- SO2-, -SO2-NH-, -S-SO2-, -O-CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -S-CO- NH-, -S-CS-NH-, -CO-NH-SO2-, -O-CO-NH-SO2-, -NH=CH-, -CO-NH- CO-, -S-, -CO-, -O-, -SO2-NH-CO-, -O-CO-O- y -O-PO-(OR2)2 y R2 es arilo, con preferencia fenilo o naftilo, que puede estar sin sustituir o sustituido por alquilo C1-C8, alquilo C1-C8 sustituido por halógeno, alquilo C1-C8 sustituido por alcoxi C1-C8, alcoxi C1-C8, alcoxi C1-C8 sustituido halógeno o halógeno; o bencilo que puede estar sustituido por alquilo C1-C8, alquilo C1-C8 sustituido por halógeno, alquilo C1-C8 sustituido por alcoxi C1-C8, alcoxi C1-C8, alcoxi C1-C8 sustituido por halógeno o halógeno; o alquilo C1-C20 que puede estar sin sustituir o sustituido por alcoxi C1-C8, halógeno, fenilo o naftilo; con la condición de que si B no es un grupo eslabón de la fórmula -O-SO2-, entonces R2 es fenilo, naftilo o alquilo C1- C8 sin sustituir o sustituidos y que si B es -O-, entonces R2 no es alquilo y con la condición siguiente: si B significa -OSO2- o -SO2O-, entonces R2 no es alquilo C1-C20.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC..

Nacionalidad solicitante: Suiza.

Dirección: KLYBECKSTRASSE 141,4057 BASEL.

Inventor/es: HENEGHAN, MICHAEL, HENSHALL, JOHN BARRY, WHITWORTH, JOHN, KIRK, ROY ALAN, TAYLOR, JAMES PHILIP, O\'NEIL, ROBERT MONTGOMERY.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 3 de Diciembre de 1999.

Fecha Concesión Europea: 15 de Septiembre de 2004.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • SECCION B — TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES > IMPRENTA; MAQUINAS COMPONEDORAS DE LINEAS; MAQUINAS... > PROCESOS DE IMPRESION, DE REPRODUCCION, DE MARCADO... > Procesos de reproducción o de marcado; Materiales... > B41M5/30 (utilizando formadores de color químicos (B41M 5/34 tiene prioridad))
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > QUIMICA ORGANICA > COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS (compuestos... > Amidas de ácidos sulfónicos, es decir, compuestos... > C07C311/51 (siendo Y un átomo de hidrógeno o de carbono)
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > QUIMICA ORGANICA > COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS (compuestos... > Sulfonas; Sulfóxidos > C07C317/50 (en que al menos uno de los átomos de nitrógeno forma parte de uno de los grupos en que X es un heteroátomo e Y un átomo cualquiera)
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > QUIMICA ORGANICA > COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS (compuestos... > Amidas de ácidos sulfónicos, es decir, compuestos... > C07C311/60 (que tienen átomos de nitrógeno de los grupos sulfonilurea unidos a átomos de carbono de ciclos aromáticos de seis miembros)
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > QUIMICA ORGANICA > COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS (compuestos... > Amidas de ácidos sulfónicos, es decir, compuestos... > C07C311/62 (que tienen átomos de nitrógeno de los grupos sulfonilurea acilados)

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.

google+ twitter facebookPin it
MATGERIAL DE GRABACION SENSIBLE AL CALOR.