Inyector para una fuente de evaporación al vacío.
Inyector para una fuente de evaporación al vacío, que comprende:
- un conducto de inyección (1) que presenta un eje longitudinal (11) y que comprende un orificio de entrada (2)que puede ser conectado a una fuente de evaporación al vacío y por lo menos una boquilla (3) destinada adifundir un material vaporizado, presentando dicha boquilla (3) una cara lateral (4) y una cara superior (5),caracterizado porque:
- dicha boquilla (3) comprende un canal principal (6) que emerge hacia el exterior de dicho conducto deinyección (1) y por lo menos un canal de alimentación lateral (7) que conecta el interior del conducto deinyección (1) con el canal principal (6), presentando dicho canal de alimentación lateral (7) un orificio lateral(8) que emerge en el interior de dicho conducto de inyección (1) a través de la cara lateral (4) de dichaboquilla (3) para evitar la obstrucción de dicha boquilla (3) por los materiales oxidados.
Tipo: Patente Europea. Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: E10306524.
Solicitante: RIBER.
Nacionalidad solicitante: Francia.
Dirección: 31 rue Casimir Périer 95870 Bezons FRANCIA.
Inventor/es: STEMMELEN, FRANCK, GUYAUX,JEAN LOUIS, GRANGE,OLIVIER.
Fecha de Publicación: .
Clasificación Internacional de Patentes:
- C23C14/24 QUIMICA; METALURGIA. › C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL. › C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04). › C23C 14/00 Revestimiento por evaporación en vacío, pulverización catódica o implantación de iones del material que constituye el revestimiento. › Evaporación en vacío.
- C23C14/26 C23C 14/00 […] › por calentamiento de la fuente por inducción o por resistencia.
PDF original: ES-2429343_T3.pdf
Fragmento de la descripción:
Inyector para una fuente de evaporación al vacío.
La presente invención se refiere a un inyector para una fuente de evaporación al vacío destinada a evaporar o sublimar materiales en una cámara de deposición al vacío.
Dicha cámara de deposición al vacío se utiliza en la realización de células solares CIGS (cobre, indio, galio, selenio)
o diodos OLED (dispositivo orgánico emisor de luz) , por ejemplo.
Dicha fuente de evaporación al vacío se utiliza, en particular, para evaporar el selenio para seleniar paneles de cristal en sistemas en línea horizontales descendentes o ascendentes.
El documento WO 2008/079209 da a conocer una fuente de evaporación al vacío conocida destinada a evaporar materiales orgánicos o inorgánicos para la realización de diodos OLED.
Dicha fuente de evaporación al vacío comprende un cuerpo que se puede unir a un sistema de deposición al vacío. El cuerpo comprende unas partes de cuerpo primera y segunda que se pueden separar entre sí. Se conecta una válvula a un inyector que presenta una forma longitudinal y varios orificios de salida destinados a difundir el material vaporizado. El inyector se calienta con unos medios de calentamiento dispuestos en la superficie externa del mismo.
Cuando el inyector se utiliza en la configuración horizontal ascendente, las boquillas se disponen en la parte inferior del inyector.
Cada boquilla comprende un canal que une el interior y el exterior del inyector. El canal emerge en el interior del inyector a través de la cara superior de la boquilla.
Durante la deposición, una parte de los materiales vaporizados se adsorbe y se oxida en las paredes interiores del inyector. Debido a las variaciones de temperatura, se agrietan los materiales oxidados. Se desprenden de la pared del inyector algunas escamas de los materiales oxidados y caen en la cara superior de las boquillas, lo que provoca la obstrucción de una parte de las boquillas.
La obstrucción de las boquillas provoca una pulverización irregular de los materiales vaporizados en los paneles destinados a cubrirse con el material.
Un objetivo de la presente invención es proporcionar un inyector que permita evitar la obstrucción de las boquillas a causa de los materiales oxidados.
Con este propósito, el inyector comprende:
- un conducto de inyección que presenta un eje longitudinal y que comprende un orificio de entrada que se puede conectar a una fuente de evaporación al vacío y por lo menos una boquilla destinada a difundir un material vaporizado, presentando dicha boquilla una cara lateral y una cara superior.
Según la presente invención, la boquilla comprende:
- un canal principal que emerge hacia el exterior de dicho conducto de inyección y por lo menos un canal de alimentación lateral que conecta el interior del conducto de inyección con el canal principal, presentando dicho canal de alimentación lateral un orificio lateral que emerge en el interior de dicho conducto de inyección a través de la cara lateral de dicha boquilla a fin de evitar la obstrucción de dicha boquilla a causa de los materiales oxidados.
La presente invención proporciona un inyector que evita la obstrucción de las boquillas a causa de los materiales oxidados.
Si la abertura de la parte superior de un canal principal de una boquilla queda cubierta por una escama de materiales oxidados, el material vaporizado se pulveriza a través del canal de alimentación lateral.
Permite garantizar una pulverización uniforme del material vaporizado sobre la superficie de un panel de células solares en una cámara de procesamiento al vacío en línea horizontal ascendente, independientemente de la presencia de escamas de materiales oxidados.
Aumenta el período entre dos procedimientos de limpieza del inyector, lo que origina unos costes inferiores.
Al desconectarse el inyector de la cámara de procesamiento al vacío para limpiar el mismo, se interrumpe el proceso de deposición con menos frecuencia, con lo que aumenta la productividad.
Según diversas formas de realización, la presente invención se refiere asimismo a las características siguientes, consideradas individualmente o en todas sus combinaciones técnicas posibles:
- el orificio lateral del canal de alimentación lateral se dispone en la proximidad de la cara superior de dicha boquilla;
ello permite evitar que los materiales que se han condensado en la parte inferior del inyector, fluyan hacia la boquilla.
- la boquilla comprende dos canales de alimentación laterales que son perpendiculares a dicho canal principal, siendo dicho canal principal y dichos canales de alimentación laterales perpendiculares al eje longitudinal;
- dicho canal principal comprende una parte superior que emerge en el interior de dicho conducto de inyección a través de la cara superior de dicha boquilla mediante una abertura superior;
- la cara superior de dicha boquilla presenta una forma cónica o angular.
Dicha forma geométrica permite evitar la obstrucción de la abertura superior del canal principal de la boquilla a causa de una escama de materiales oxidados que se aloje en la cara superior de la boquilla. La descripción de la presente invención se ilustra mediante los dibujos siguientes en los que:
la figura 1 representa una vista tridimensional de un inyector, según una forma de realización de la presente invención; la figura 2 representa dicho inyector según una sección longitudinal; la figura 3 representa dicho inyector según una sección A-A;
la figura 4 representa el detalle de dicho inyector según una sección longitudinal. Tal como se ilustra en las figuras 1 y 2, el inyector comprende un conducto de inyección 1 que delimita un primer volumen de vacío 10. El conducto de inyección 1 se extiende longitudinalmente y presenta una forma tubular con una sección circular.
El conducto de inyección 1 comprende un orificio de entrada 2 que se puede conectar a una fuente de evaporación al vacío y por lo menos una boquilla 3 destinada a difundir los materiales vaporizados hacia una cámara de deposición al vacío (no representada) .
En el ejemplo de la figura 4, el conducto de inyección 1 comprende diversas boquillas 3, que son equidistantes y se alinean según un eje longitudinal 11. Preferentemente, las boquillas 3 se encuentran integradas en un conjunto lineal de boquilla 12 que constituye un bloque de donde proceden las boquillas 3.
Cada boquilla 3 comprende un canal principal 6 que emerge hacia el exterior del conducto de inyección 1 y por lo
menos un canal de alimentación lateral 7 que conecta el conducto de inyección 1 con el canal principal 6. El canal de alimentación lateral 7 presenta un orificio lateral 8 que emerge en el interior del primer volumen de vacío 10 del conducto de inyección 1 y a través de la cara lateral 4 de la boquilla 3. Dicha disposición lateral del orificio 8 está destinada a evitar la obstrucción de la boquilla 3 con materiales oxidados.
Preferentemente, el canal principal 6 y el canal de alimentación lateral 7 presentan una sección circular. La sección puede ser distinta, por ejemplo, ovoide. Los diámetros del canal principal 6 y el canal de alimentación lateral 7 pueden ser idénticos o distintos. Preferentemente, el diámetro del canal principal 6 es superior al diámetro del canal de alimentación lateral 7. El diámetro de cada canal principal 6 puede ser distinto.
El canal de alimentación lateral 7 se dispone aguas arriba del canal principal 6. El material de una fase de vapor del primer volumen de vacío 10 del inyector pasa a través del canal de alimentación lateral 7 y luego al canal principal 6 para pulverizarse en una cámara de procesamiento al vacío.
En el ejemplo de las figuras 1 a 4, cada boquilla 3 comprende dos canales de alimentación laterales 7 dispuestos enfrentados al canal principal 6 y perpendiculares al mismo y al eje longitudinal 11. El canal principal 6 es perpendicular al eje longitudinal 11.
Son posibles otras configuraciones. El canal principal 6 se puede inclinar con respecto al eje longitudinal 11, por
ejemplo. Todos los canales principal 6 puede estar alineados o no. Alternativamente, los canales de alimentación laterales 7 se pueden orientar en una dirección distinta a la perpendicular con respecto al canal principal 6.
El canal de alimentación lateral 7 y el canal principal 6 se pueden alinear para que constituyan un canal único que está inclinado con respecto al eje longitudinal 11.
Alternativamente, cada boquilla 3 puede comprender más de dos canales de alimentación laterales 7. Preferentemente,... [Seguir leyendo]
Reivindicaciones:
1. Inyector para una fuente de evaporación al vacío, que comprende:
- un conducto de inyección (1) que presenta un eje longitudinal (11) y que comprende un orificio de entrada (2) que puede ser conectado a una fuente de evaporación al vacío y por lo menos una boquilla (3) destinada a difundir un material vaporizado, presentando dicha boquilla (3) una cara lateral (4) y una cara superior (5) ,
caracterizado porque: 10
- dicha boquilla (3) comprende un canal principal (6) que emerge hacia el exterior de dicho conducto de inyección (1) y por lo menos un canal de alimentación lateral (7) que conecta el interior del conducto de inyección (1) con el canal principal (6) , presentando dicho canal de alimentación lateral (7) un orificio lateral
(8) que emerge en el interior de dicho conducto de inyección (1) a través de la cara lateral (4) de dicha 15 boquilla (3) para evitar la obstrucción de dicha boquilla (3) por los materiales oxidados.
2. Inyector para una fuente de evaporación según la reivindicación 1, caracterizado porque dicho orificio lateral (8) del canal de alimentación lateral (7) está colocado en la proximidad de la cara superior (5) de dicha boquilla (3) .
5. Inyector para una fuente de evaporación según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 4, caracterizado porque la 30 cara superior (5) de dicha boquilla (3) presenta una forma cónica o angular.
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