INSTALACION PARA DEPOSICION DE PELICULAS DE CARBONO TIPO DAMANTE SOBRE SUBSTRATOS DE ACERO O DE METAL ENDURECIDO Y EL CORRESPONDIENTE METODO IN SITU USANDO RECUBRIMIENTOS DUROS DE METAL/CARBURO DE ESE METAL COMO CAPAS INTERMEDIAS PARA EL MEJORAMIENTO DE LA ADHERENCIA ENTRE PELICU.

Instalación para deposición de películas de carbono tipo diamante sobre substratos de acero o de metal endurecido "in situ" usando recubrimientos duros de metal/carburo de ese metal como capas intermedias para el mejoramiento de la adherencia entre películas y substrato.
La invención está relacionada con un método de deposición "in situ" de multicapas de recubrimientos duros de W/WC/DLC

(tungsteno/carburo de tungsteno/carbono tipo diamante) por el método PVD (Physical Vapor Deposition) de pulverización catódica reactiva asistida por campo magnético (magnetrón sputtering), a partir de un sólo blanco binario de forma circular mitad tungsteno (99.99%) y mitad de carbono (99.99%). La deposición de las multicapas de W/WC/DLC a partir de este blanco binario único se obtiene con variación gradual del porcentaje de CH4 (Metano) en la mezcla Ar/CH4 (Argón/Metano) que se introduce en la cámara donde se genera el plasma de la descarga luminiscente que da lugar a la deposición de las multicapas. Este método produce un mejoramiento de la adherencia del DLC a los substratos de aceros al usar las películas de W/WC como capas intermedias.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: ZAMBRANO ROMERO,GUSTAVO ADOLFO
PRIETO PULIDO,PEDRO.

Nacionalidad solicitante: Colombia.

Dirección: UNIVERSIDAD DEL VALLE, FACULTAD DE CIENCIAS, DEPARTAMENTO DE FISICA,SANTIAGO DE CALI.

Inventor/es: ZAMBRANO ROMERO,GUSTAVO ADOLFO, PRIETO PULIDO,PEDRO.

Fecha de Solicitud: 6 de Septiembre de 2001.

Fecha de Publicación: .

Fecha de Concesión: 9 de Febrero de 2005.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO... > REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO... > Revestimiento por evaporación en vacío, pulverización... > C23C14/35 (por aplicación de un campo magnético, p. ej. pulverización por medio de un magnetrón)
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INSTALACION PARA DEPOSICION DE PELICULAS DE CARBONO TIPO DAMANTE SOBRE SUBSTRATOS DE ACERO O DE METAL ENDURECIDO Y EL CORRESPONDIENTE METODO IN SITU USANDO RECUBRIMIENTOS DUROS DE METAL/CARBURO DE ESE METAL COMO CAPAS INTERMEDIAS PARA EL MEJORAMIENTO DE LA ADHERENCIA ENTRE PELICU.